WATERS公司的UPLCTQD培训资料-MS4QpHWOper课件.ppt
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- WATERS 公司 UPLCTQD 培训资料 MS4QpHWOper 课件
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1、2008 Waters Corporation2008 Waters Corporation 2 真空系统 Z喷雾离子源 源内碰撞诱导解离(in-souce CID)及MS/MS 质量分析器 检测器2008 Waters Corporation 3质谱仪之所以在低压下工作是为了.尽量减少离子-分子之间的碰撞(即,得到最大平均自由程)碰撞可能导致离子偏离所期望的轨迹(由离子源到四极杆检测器)碰撞可能导致产生意外的离子或带来副反应 1 atm 10-6 m ;10-4 torr 0.5 m防止在高电压(用于某些离子聚焦)下生成电弧减少污染/化学噪音2008 Waters Corporation 4
2、 涡轮分子泵涡轮分子泵(2)前级泵前级泵分析器分析器 大气压大气压1 torr10-4 torr10-5 torr760 torrPressure Unit Conversions:1 torr=1.333 mbar1 torr=3.23x1016 molecules/cm3760 torr=1 atm1 atm=1013.25 mbar1 mbar=0.750 torr1mbar=100 Pa2008 Waters Corporation 5 大气压大气压760 torr1 torr10-4 torr10-5 torr2008 Waters Corporation 62008 Waters
3、Corporation 72008 Waters Corporation 82008 Waters Corporation 9IsolationValve2008 Waters Corporation 10 将HPLC 洗脱液导入MS离子源 75 m 内径不锈钢管 高电压给液滴提供过量电荷 对于正离子方式通常在 2-4 kV 之间优化 对于负离子方式通常在 2-3 kV 之间优化2008 Waters Corporation 11 高电压促使溶剂分子发生化学电离 对于正离子方式通常在 3-5 kV 之间优化 对于负离子方式通常在 2-4 kV 之间优化2008 Waters Corporati
4、on 12 将离子抽取至一级真空区 调节锥孔电压以获取最大灵敏度 通常在 25-70V 之间优化锥孔电压 低分子量化合物宜选用低电压 高分子量化合物宜选用高电压 电压增高会引起分子破裂产生源内CID 在扫描期间电压可以斜线上升梯度扫描 电压也可以在选定的扫描方式之间切换(例如,从低到高再到低,等)2008 Waters Corporation 13 将离子聚焦导向射频透镜 电压通常在 3-10 V之间优化 增加电压将导致碎裂发生 若想导致碎裂发生(源内CID),推荐采用调节取样锥孔电压的方法 2008 Waters Corporation 14 聚焦离子进入四极杆的中心 典型的优化电压为固定的
5、直流偏置电压=0.5 V 其射频电压随加在四极杆上的射频电压而同步扫描 可以传送很宽范围质量数的离子(不起质量过滤作用)2008 Waters Corporation 15Electrospray ProbeAPcI Discharge NeedleSample ConeExtraction ConeRF LensDifferential AperturePrefilterQuadrupoleAnalyserCapillary+3.0-3.0Not applicableCoronaNot applicable+3.0-2.0Cone+25-25+25-25Extractor+3-3+3-3RF
6、 Lens+0.5-0.5+0.5-0.5Not adjustable(ground)Not applicableNot applicable(kV)(kV)(kV)(kV)(V)(V)(V)(V)(V)(V)(V)(V)(V)(V)(V)(V)Tune PageESIAPcIName+ve-ve+ve-ve2008 Waters Corporation 16电离电压电离电压Positive ESNegative ES2.503.752.003.002008 Waters Corporation 17锥孔电压锥孔电压Cone Voltage101002008 Waters Corporatio
7、n 18萃取锥孔和萃取锥孔和RF 透镜电压透镜电压15Extractor Voltage05RF Lens Voltage2008 Waters Corporation 19离子源温度离子源温度Infusion(5-40 l/min)Source temp.80Desolvation temp.120HPLC(100-300 l/min)Source temp.Desolvation temp.1203002008 Waters Corporation 20气流气流锥孔气锥孔气去溶剂气去溶剂气30010001002008 Waters Corporation 212008 Waters Cor
8、poration 222008 Waters Corporation 23Positive APcINegative APcI0.010.00.05.0电晕针电流电晕针电流2008 Waters Corporation 24锥孔电压锥孔电压锥孔电压锥孔电压101002008 Waters Corporation 25萃取锥孔电压和萃取锥孔电压和RF 透镜电压透镜电压萃取锥孔电压萃取锥孔电压05RF Lens voltage052008 Waters Corporation 26离子源和探头温度离子源和探头温度HPLC(0.2-2 ml/min)离子源温度离子源温度120150APcI探头温度探
9、头温度3006002008 Waters Corporation 27气流气流锥孔气锥孔气去溶剂气去溶剂气1002501002008 Waters Corporation 28 完全未知的化合物分析,可使用ESCi复合源功能,同时获得ESI和APcI的数据。2008 Waters Corporation 292008 Waters Corporation 302008 Waters Corporation 31IsolationValveCID Region2008 Waters Corporation 322008 Waters Corporation 3310015020025030002
10、,0004,0006,0008,00010,00012,000m/zIntensityNHNNCH3CH3NH2SOOSulfamethazineM+H+2772782792802812822,0004,0006,0008,00010,00012,000Parent Ion RegionMW 278m/zPositive ion mode,ESI,2 ul/min,50%MeOH:49%H2O:1%HOAc2008 Waters Corporation 34NHNNCH3CH3NH2SOOSulfamethazine10015020025030002,0004,0006,0008,00010,
11、000m/zIntensityM+H+1831841851861871882,0004,0006,0008,00010,000Fragment Ion RegionMW 186m/zC6H8N3O2S 921561862008 Waters Corporation 3520ng Flunitrazepam APCI Varying Cone Voltage180200220240260280300320340360380400420440m/z0100%0100%0100%0100%0100%0100%flunitr1 168(3.256)Scan AP+6.59e6314.173315.18
12、7flunitr2 168(3.259)Scan AP+1.42e7314.046315.187flunitr3 168(3.257)Scan AP+8.00e6314.046315.187flunitr4 167(3.237)Scan AP+5.21e6268.162239.131211.111314.046269.049flunitr5 167(3.237)Scan AP+3.89e6268.162239.131210.984314.173269.176flunitr6 168(3.257)Scan AP+2.50e6239.131183.087211.111222.015268.1622
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