激光器概述讲解课件.ppt
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- 激光器 概述 讲解 课件
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1、高能束流加工技术激光束加工技术发展概述n1960年,美国休斯实验室的梅曼使用红宝石作为工作物质,制出了世界上第一台激光器,成功地产生了波长为0.6943微米的红外激光。激光束加工技术发展概述2n随着大功率激光器的出现,应用激光进行材料加工的激光加工技术逐渐发展起来。n从原理上讲,自然界中几乎所有材料,都能采用激光加工。n从行业来说,激光加工涉及到汽车、电子电器、有色金属纤维、精密机械以及运输机械等所有领域。n激光广泛用于打孔、切割、焊接、表面处理及半导体加工等。CMA-960F型自动送料激光切割机 n CM系列激光设备在全面质量管理体系的工厂环境下进行生产作业,稳定性、精确度和速度三大指标均可
2、体现世界一流设备的水准。CMA-2016F型激光切割机YMRF-MV100型成衣激光雕花机 电子束加工技术发展概述2n自20世纪60年代初期我国开始研究电子束加工工艺,目前已在仪器仪表、微电子、航空航天和化纤工业中得到应用。n电子束打孔、切槽、焊接、电子束曝光、电子束热处理等都陆续进入生产。数码离子束设备刻蚀加工应用33.石英晶体谐振器制作n石英晶体的谐振频率与其厚度有关。n用机械研磨和抛光致薄的晶体,可制作低频器件,但频率超过20MHz时,上述工艺已不适用,因为极薄的晶片已不能承受机械应力。n采用离子束抛光,可以不受此限制。石英晶体谐振器的金属引线要求重量轻、低电阻,通常用铝沉积在晶体表面沟
3、槽中,以高电导率铝作引线电极。n用离子束溅射加工晶体上的沟槽是最有效的方法。溅射镀膜加工 n溅射镀膜是基于离子轰击靶材时的溅射效应。n离子束在电场或磁场的加速下飞向阴极靶材,阴极表面靶原子溅射至靶材附近的工件表面,形成镀膜。n溅射镀膜有三种溅射技术:直流二级溅射、三级溅射和磁控溅射,其区别在于放电方式有所不同。n自20世纪70年代磁控溅射技术的出现,使溅射镀膜进入了工业应用,在镀膜的工艺领域中占有极为重要的地位。应用1硬质膜磁控溅射 n在高速钢刀具上用磁控溅射镀氮化钛(TiN)超硬膜,大大提高刀具的寿命,可以在工业生产中应用。n氮化钛可以采用直流溅射,但在工业生产中更为经济的是采用反应溅射。n
4、举例:工件经过超声清洗之后,再经过射频溅射清洗(功率为1kW,时间约2min)。镀膜时溅射电压为330375V,电流密度稳定在44mA/cm2,工件与靶面的距离为4.75cm,工件加220V的负偏压,通入真空室的氩流量lPam3/S,氮流量为0.020.06Pam3/s。氮流量在0.03Pam3/s以下时,氮气可以全部与溅射到工件上的钛原子发生化学反应而耗尽,镀膜速率为300nm/min。随着氮化钛中氮含量增加,镀膜色泽由金属光泽变为金黄色,可以用作仿金装饰镀层。应用2固体润滑膜的镀制 在齿轮的齿面上和轴承上溅射控制二硫化钼润滑膜,其厚度为0.20.6m,摩擦系数为0.04。溅射时,采用直流溅
5、射或射频溅射,靶材是用二硫化钼粉末压制成形。为保证得到晶态薄膜(此种状态下,有润滑作用),必须严格控制工艺参数。如用射频溅射二硫化钼的工艺参数为:电压2.5kV,真空度为l Pa,镀膜速率为30nm/min。为了避免得到非晶态薄膜,基片温度应适当高一些,但不能超过200。应用3欧姆接触层的镀制 磁控溅射镀铝或铝合金可用于制备大规模集成电路的欧姆接触层。所适用的合金有Al-Si(1.2%)、A1-Cu(4%)和A1-Si(l%)等。溅射时,要求靶材纯度高,并严格控制氢、氯等杂质气体含量。应用4薄壁零件的镀制 n例如某零件是直径为15毫米的管件,壁厚为63.5m,材料为10元合金,成分为:Fe-N
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