直拉单晶培训课件.pptx
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1、第1页/共31页 此处资料由王波负责收集第2页/共31页工艺过程 直拉法生长单晶硅的制备步骤一般包括:多晶硅的装料和熔化、种晶、缩颈、放肩、等径和收尾。第3页/共31页加工工艺 加料熔化缩颈生长放肩生长等径生长尾部生长 ()加料:将多晶硅原料及杂质放入石英坩埚内,杂质的种类依电阻的或型而定。杂质种类有硼,磷,锑,砷。()熔化:加完多晶硅原料于石英埚内后,长晶炉必须关闭并抽成真空后充入高纯氩气使之维持一定压力范围内,然后打开石墨加热器电源,加热至熔化温度()以上,将多晶硅原料熔化。()缩颈生长:当硅熔体的温度稳定之后,将籽晶慢慢浸入硅熔体中。由于籽晶与硅熔体场接触时的热应力,会使籽晶产生位错,这
2、些位错必须利用缩颈生长使之消失掉。缩颈生长是将籽晶快速向上提升,使长出的籽晶的直径缩小到一定大小()由于位错线与生长轴成一个交角,只要缩颈够长,位错便能长出晶体表面,产生第4页/共31页 零位错的晶体。()放肩生长:长完细颈之后,须降低温度与拉速,使得晶体的直径渐渐增大到所需的大小。()等径生长:长完细颈和肩部之后,借着拉速与温度的不断调整,可使晶棒直径维持在正负之间,这段直径固定的部分即称为等径部分。单晶硅片取自于等径部分。()尾部生长:在长完等径部分之后,如果立刻将晶棒与液面分开,那么热应力将使得晶棒出现位错与滑移线。于是为了避免此问题的发生,必须将晶棒的直径慢慢缩小,直到成一尖点而与液面
3、分开。这一过程称之为尾部生长。长完的晶棒被升至上炉室冷却一段时间后取出,即完成一次生长周期。单晶硅棒加工成单晶硅抛光硅片 加工流程:单晶生长切断外径滚磨平边或型槽处理切片 倒角研磨 腐蚀抛光清洗包装 切断:目的是切除单晶硅棒的头部、尾部及超出客户规格的部分,将单晶硅棒分段成切片设备可以处理的长度,切取试片测量单晶硅棒的电阻率含氧量。第5页/共31页 外径磨削:由于单晶硅棒的外径表面并不平整且直径也比最终抛光晶片所规定的直径规格大,通过外径滚磨可以获得较为精确的直径。平边或型槽处理:指方位及指定加工,用以单晶硅棒上的特定结晶方向平边或型。切片:指将单晶硅棒切成具有精确几何尺寸的薄晶片。倒角:指将
4、切割成的晶片税利边修整成圆弧形,防止晶片边缘破裂及晶格缺陷产生,增加磊晶层及光阻层的平坦度。研磨:指通过研磨能除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层,有效改善单晶硅片的曲度、平坦度与平行度,达到一个抛光过程可以处理的规格。腐蚀:指经切片及研磨等机械加工后,晶片表面受加工应力而形成的损伤层,通常采用化学腐蚀去除:腐蚀可分为酸性腐蚀和碱性腐蚀两种 抛光:指单晶硅片表面需要改善微缺陷,从而获得高平坦度晶片的抛光:抛光的方式有粗抛和精抛两种。第6页/共31页 清洗:在单晶硅片加工过程中很多步骤需要用到清洗,这里的清洗主要是抛光后的最终清洗。清洗的目的在于清除晶片表面所有的污染源。第7页/共31页单晶成品
5、第8页/共31页一、直拉单晶炉直拉单晶炉的结构 直拉单晶炉机械部分电气部分水冷系统氩气系统真空系统炉体热系统液压系统速度控制单元加热控制单元加热温度控制器及三相全桥功率部件等径生长控制器水温巡检及状态报警继电控制单元第9页/共31页第10页/共31页第11页/共31页 主架由底座、立柱组成,是炉子的支撑机构。主炉室和副炉室是单晶生长的地方。主炉室是炉体的心脏,有炉底盘、下炉筒、上炉筒以及炉盖组成,他们均为不锈钢焊接而成的双层水冷结构,用于安装生长单晶的热系统、石英坩埚及原料等。副炉室包括副炉筒、籽晶旋转机构、软轴提拉室等部件,是单晶硅棒的接纳室。籽晶旋转及提升机构,提供籽晶的旋转及提升的动力和
6、控制系统。坩埚的旋转及提升机构,提供坩埚的旋转及上升的动力和控制系统。主、副炉室的升降机构,通过液压对炉室进行升降。第12页/共31页1、水冷系统 水冷系统包括总进水管道、分水器、各路冷却水管道以及回水管道。由循环水系统来保证水循环正常运行。水冷系统的正常运行非常重要,必须随时保持各部位冷却水路畅通,不得堵塞或停水,轻者会影响成晶率,严重会烧坏炉体部件,造成巨大损失。第13页/共31页2、氩气系统 氩气系统包括液氩储罐,汽化器、气阀、氩气流量计等部件。氩气纯度为5N,在单晶生长过程中起保护作用,一方面及时携带熔体中的挥发物经真空泵排出;另一方面又及时带走晶体表面的热量,增大晶体的纵向温度梯度,
7、有利于单晶生长。第14页/共31页3、真空系统 真空系统主要分两部分:主炉室真空系统和副炉室真空系统。主炉室真空系统主要包括主真空泵、电磁截至阀、除尘罐、安全阀、真空计、真空管道及控制系统等。其中除尘罐对排气中的粉尘起到过滤作用,以便保护真空泵,除尘罐内的过滤网要定期清理,使排气畅通,否则影响成晶,另外要定期更换泵油。副炉室真空系统除了无除尘罐外,与主炉室真空系统相似。主要是在拉晶过程中需要关闭主、副炉室之间的翻板阀取晶体或提渣时,必须用副炉室真空系统来对副炉室进行抽真空。拉晶过程中必要时应进行真空检漏。冷炉极限真空应达到3Pa以下,单晶炉泄露率应该低于3Pa/10min。第15页/共31页5
8、、电气系统 电气系统主要包括电源控制系统以及单晶炉控制系统。直拉单晶炉主电源采用三相交流供电,电压380V,频率50Hz。经变压器整流后,形成低电压,高电流的直流电源作为主加热电源。第16页/共31页 单晶炉控制系统主要包括速度控制单元、加热控制单元、等径生长控制单元、水温和设备运行巡检及状态报警、继电控制单元等部分。1)速度控制单元对晶升、埚升、晶转、埚转的速度进行控制。2)温度传感器从加热器上取得的信号与等径控制器的温度控制信号叠加后进入欧陆控制器,经分析调整控制加热器电压,达到控制加热温度与直径的目的。3)水温运行巡检及状态报警单元可以对单晶炉各路冷却水温进行实时检测,当某路水温超过设定
9、值时,相应水路发出报警提示工作人员排除。同时本单元可以实时检测单晶炉运行中的异常现象,给出相应报警。4)继电控制单元包括液压系统继电控制,真空机组继电控制及无水、欠水继电控制等部分。第17页/共31页炉盖主炉筒炉底上保温盖下保温盖导流筒石英坩埚三瓣埚托盘托杆加热器上保温筒上保温碳毡下保温筒下保温碳毡电极柱炉底碳毡炉底压盘第18页/共31页热系统简介:热系统长期使用在高温下,所以要求石墨材质结构均匀致密、坚固、耐用,变形小、无空洞、无裂纹、金属杂质含量少。1)加热器是热系统中最重要的部件,是直接的发热体,温度最高时达到1600以上,形状为直筒型。2)石墨坩埚是用来盛装石英坩埚的,目前使用较多的为
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