薄膜厚度的监控2021完整版课件.ppt
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1、1一、概述一、概述在制备薄膜的过程中,除了应当选择合适的薄膜材料和沉积工艺外,在制备薄膜的过程中,除了应当选择合适的薄膜材料和沉积工艺外,还要精确控制薄膜沉积过程中的厚度。薄膜的厚度可以有三种说法,还要精确控制薄膜沉积过程中的厚度。薄膜的厚度可以有三种说法,它们是几何厚度、光学厚度和质量厚度。几何厚度就是薄膜的物理厚它们是几何厚度、光学厚度和质量厚度。几何厚度就是薄膜的物理厚度,物理厚度与薄膜的折射率的乘积就是光学厚度。而质量厚度是指度,物理厚度与薄膜的折射率的乘积就是光学厚度。而质量厚度是指单位面积上的膜质量,当薄膜的密度已知时,就可以从质量厚度转换单位面积上的膜质量,当薄膜的密度已知时,就
2、可以从质量厚度转换计算出膜的几何厚度。一般情况下,薄膜厚度的误差控制在计算出膜的几何厚度。一般情况下,薄膜厚度的误差控制在2以内,以内,有时可能达有时可能达510。薄膜厚度的监控必须在允许的误差范围之内。薄膜厚度的监控必须在允许的误差范围之内。在薄膜沉积过程中要监控薄膜的厚度,首先要能够测量薄膜的厚度。在薄膜沉积过程中要监控薄膜的厚度,首先要能够测量薄膜的厚度。目前薄膜厚度在线测量的方法主要有:测量电阻法、质量法、反射透目前薄膜厚度在线测量的方法主要有:测量电阻法、质量法、反射透射光谱法和椭圆偏振光谱法等等,它们通过测量这些物理参量来实现射光谱法和椭圆偏振光谱法等等,它们通过测量这些物理参量来
3、实现膜厚的监控。膜厚的监控。在以上的方法中,电阻法最容易实现,而质量法应用最广,光学监控在以上的方法中,电阻法最容易实现,而质量法应用最广,光学监控方法主要应用于光学镀膜领域。方法主要应用于光学镀膜领域。二、电阻法二、电阻法 用电桥法测量薄膜的电阻率用电桥法测量薄膜的电阻率V被测膜,被测膜,U电压,电压,O平衡指示器平衡指示器R1,R2,R3电阻器。电阻器。测量薄膜电阻变化来控制金属膜厚度是最简单的一种膜厚监控方法。右图是用测量薄膜电阻变化来控制金属膜厚度是最简单的一种膜厚监控方法。右图是用惠斯顿电桥测量薄膜电阻率的例子。用这种方法可以测量电阻从惠斯顿电桥测量薄膜电阻率的例子。用这种方法可以测
4、量电阻从1欧姆到几百欧姆到几百兆欧姆的电阻,若加上直流放大器,电阻率的控制精度可达兆欧姆的电阻,若加上直流放大器,电阻率的控制精度可达0.01%。但是随着薄膜厚度的增加,电阻减小但是随着薄膜厚度的增加,电阻减小要比预期的慢,导致的原因是膜层的要比预期的慢,导致的原因是膜层的边界效应、薄膜与块材之间的结构差边界效应、薄膜与块材之间的结构差异以及残余气体的影响。因此,用该异以及残余气体的影响。因此,用该方法对膜厚监控的精度很难高于方法对膜厚监控的精度很难高于5。就是这样,电阻法在电学镀膜中还是就是这样,电阻法在电学镀膜中还是常被使用的。常被使用的。三、石英晶体振荡法三、石英晶体振荡法石英晶体振荡法
5、测量薄膜厚度的原理是石英晶体振荡的频率会随着晶体石英晶体振荡法测量薄膜厚度的原理是石英晶体振荡的频率会随着晶体上薄膜质量的变化而变化。因此,它是一种薄膜质量测量方法,它也被上薄膜质量的变化而变化。因此,它是一种薄膜质量测量方法,它也被称为质量微天平。由于它是通过测量沉积的膜层的质量来测量沉积材料称为质量微天平。由于它是通过测量沉积的膜层的质量来测量沉积材料的厚度,因此,不论是金属材料、半导体材料、氧化物等等的任何材料的厚度,因此,不论是金属材料、半导体材料、氧化物等等的任何材料都能使用,它是使用最广泛的膜厚监控方法。都能使用,它是使用最广泛的膜厚监控方法。石英晶体振荡器的预期灵敏度可高达石英晶
6、体振荡器的预期灵敏度可高达10-9g/cm2,对于密度为,对于密度为1g/cm3的的材料,其对应的物理厚度大致为材料,其对应的物理厚度大致为0.01nm。但是,实际所能达到的灵敏度。但是,实际所能达到的灵敏度大致只有大致只有10-7 g/cm2,另外由于膜层密度与块材的不同,使得物理厚度,另外由于膜层密度与块材的不同,使得物理厚度的测量精度受到限制。的测量精度受到限制。石英晶体的压电效应的固有频率不仅取决于晶体的几何尺寸和切割类型,石英晶体的压电效应的固有频率不仅取决于晶体的几何尺寸和切割类型,而且还与厚度而且还与厚度d相关,即:相关,即:f=N/d,N是与晶体的几何尺寸和切割类型相是与晶体的
7、几何尺寸和切割类型相关的频率常数。对于关的频率常数。对于AT切割的石英晶体,切割的石英晶体,N=fd1670Kc.mm。AT切切割的晶体的振动频率对质量的变化特别敏感,但对于温度变化(在割的晶体的振动频率对质量的变化特别敏感,但对于温度变化(在40度到度到90度范围温度系数大致在度范围温度系数大致在106/度),这个特性使得石英晶体特别度),这个特性使得石英晶体特别适合于薄膜的质量控制。适合于薄膜的质量控制。原理:原理:将石英振荡频率对厚度求微分可得:将石英振荡频率对厚度求微分可得:f=-Nf=-Nd/(dd/(d2 2),它的意义是,若石英,它的意义是,若石英厚度厚度d d改变改变d d,则
8、振动频率变化,则振动频率变化f f。负号表示频率随厚度的增加而减小。厚。负号表示频率随厚度的增加而减小。厚度度d d的质量改变为的质量改变为m m,薄膜密度为,薄膜密度为m/vm/v,则有:,则有:从上式可以看出,晶体振荡器的频率的改变与薄膜质量的改变成正比,因此,可从上式可以看出,晶体振荡器的频率的改变与薄膜质量的改变成正比,因此,可以测量薄膜的质量。以测量薄膜的质量。上式表明,上式表明,f与与f的平方成正比。如果晶体的基频的平方成正比。如果晶体的基频f越高,控制灵敏度也越高,这越高,控制灵敏度也越高,这要求晶体的厚度足够小。在沉积过程中,晶体振荡的频率不断下降,根据上面公要求晶体的厚度足够
9、小。在沉积过程中,晶体振荡的频率不断下降,根据上面公式计算的厚度变化时,式计算的厚度变化时,f应修正为晶体与沉积薄膜质量的共振频率。随着膜厚的应修正为晶体与沉积薄膜质量的共振频率。随着膜厚的增加,石英晶体的灵敏度降低,通常频率的最大变化不得超过几千赫,不然振荡增加,石英晶体的灵敏度降低,通常频率的最大变化不得超过几千赫,不然振荡器工作将不稳定,甚至停止振荡。为了保证振荡器工作稳定和保持较高的灵敏度,器工作将不稳定,甚至停止振荡。为了保证振荡器工作稳定和保持较高的灵敏度,晶体上的膜层镀到一定厚度后就要清洗,或更换晶体头。晶体上的膜层镀到一定厚度后就要清洗,或更换晶体头。石英晶体监控的有效精度取决
10、于电子线路的稳定性、所用晶体的温度系数、石英石英晶体监控的有效精度取决于电子线路的稳定性、所用晶体的温度系数、石英晶体传感探头的特定结构以及相对于蒸发或溅射源的合理位置。一般情况下,利晶体传感探头的特定结构以及相对于蒸发或溅射源的合理位置。一般情况下,利用石英晶体监控可以达到用石英晶体监控可以达到23左右的物理厚度精度,对于大多数光学薄膜设计左右的物理厚度精度,对于大多数光学薄膜设计是足够了。是足够了。石英晶体监控有三个非常实际的优点:石英晶体监控有三个非常实际的优点:1是装置简单,没有通光孔的窗是装置简单,没有通光孔的窗口,没有光学系统安排等麻烦;口,没有光学系统安排等麻烦;2是信号容易判读
11、,随着膜厚的增加,是信号容易判读,随着膜厚的增加,频率线性地下降,与薄膜是否透明无关;频率线性地下降,与薄膜是否透明无关;3是它还可以记录沉积速率,是它还可以记录沉积速率,这些特点使它很适合于自动控制;对于小于这些特点使它很适合于自动控制;对于小于8分之一光学波长厚度也具分之一光学波长厚度也具有较高的控制精度。有较高的控制精度。该方法的缺点是:晶体直接测量薄膜的质量而不是光学厚度,对于监控该方法的缺点是:晶体直接测量薄膜的质量而不是光学厚度,对于监控密度和折射率显著依赖于沉积条件的薄膜材料,要得到良好的重复性比密度和折射率显著依赖于沉积条件的薄膜材料,要得到良好的重复性比较困难。另外它也不同于
12、光学极值法和波长调制法,具有厚度自动补偿较困难。另外它也不同于光学极值法和波长调制法,具有厚度自动补偿机理。机理。值得注意的是在实际使用中,针对薄膜密度与块材密度的不同或不知膜值得注意的是在实际使用中,针对薄膜密度与块材密度的不同或不知膜层的密度,对石英晶体膜厚测量仪的测量的膜厚要进行校正。校正的方层的密度,对石英晶体膜厚测量仪的测量的膜厚要进行校正。校正的方法是先镀一层厚度较厚的薄膜,通过一定的方法(法是先镀一层厚度较厚的薄膜,通过一定的方法(请问可以用那些方法请问可以用那些方法可以测量薄膜的厚度?可以测量薄膜的厚度?)测出该膜层的厚度,然后与晶体振荡器测量的)测出该膜层的厚度,然后与晶体振
13、荡器测量的值进行比较修正。值进行比较修正。晶体振荡膜厚仪实例晶体振荡膜厚仪实例用途:适用于一般物理气相沉积(用途:适用于一般物理气相沉积(PVD)过程,)过程,可精密的检测镀膜过程中每秒可精密的检测镀膜过程中每秒0.1埃的速率变化,埃的速率变化,并准确的掌握每一埃的沉积厚度。并准确的掌握每一埃的沉积厚度。特点:特点:1、可预先输入储存多组镀膜参数,便于操作者读取应用、可预先输入储存多组镀膜参数,便于操作者读取应用2、搭配感测头选择器使用,可同时监测、搭配感测头选择器使用,可同时监测48个感测点的镀膜个感测点的镀膜速率及膜厚速率及膜厚3、内设、内设RS-232电脑接口,可与计算机通信工作电脑接口
14、,可与计算机通信工作4、配备、配备Bipolar高清晰度类比信号输出端子,可连接记录仪高清晰度类比信号输出端子,可连接记录仪使用使用STM-100/MF膜厚监控器膜厚监控器 Sycon instruments company STC-200/SQ 膜厚控制器膜厚控制器 用途:除精确的沉积速率和膜厚显示外,并可以回传信号到电子枪电源供应用途:除精确的沉积速率和膜厚显示外,并可以回传信号到电子枪电源供应器或蒸发源,实现闭回路的自动镀膜速率及膜厚控制器或蒸发源,实现闭回路的自动镀膜速率及膜厚控制特点:特点:1、操作简单,可单键完成、操作简单,可单键完成Sing-layer镀膜程序镀膜程序2、配合外部
15、界面与、配合外部界面与PLC/PC连线,可达到全自动连线,可达到全自动Multi-layer镀膜程序镀膜程序3、内设、内设RS-232计算机接口,可以与电脑连线工作计算机接口,可以与电脑连线工作4、配备、配备Bipolar高清晰度信号输出端子,可连接记录仪使用高清晰度信号输出端子,可连接记录仪使用5、内建程序记录器,可提供前次操作数据,便于查询修正、内建程序记录器,可提供前次操作数据,便于查询修正6、全功能显示器,监控镀膜中各项数据变化,随时掌握沉积速率、厚度、输、全功能显示器,监控镀膜中各项数据变化,随时掌握沉积速率、厚度、输出功率及时间变化,并有同步曲线图显示动态流程出功率及时间变化,并有
16、同步曲线图显示动态流程四、目视法四、目视法最早的光学控制方法是利用眼睛作为接收器,目视观察薄膜干涉色的变化来控制最早的光学控制方法是利用眼睛作为接收器,目视观察薄膜干涉色的变化来控制介质膜的厚度。介质膜的厚度。薄膜的干涉薄膜的干涉 图像图像 如上图所示,在折射率为如上图所示,在折射率为n2的基板上沉积了一层折射率为的基板上沉积了一层折射率为n1厚度为厚度为d1的薄膜,当的薄膜,当一入射光从空气往薄膜入射时,由于空气与薄膜界面以及薄膜与基片界面的两个一入射光从空气往薄膜入射时,由于空气与薄膜界面以及薄膜与基片界面的两个界面的反射光产生干涉,因此反射光会随不同的光学波长以及不同的薄膜物理厚界面的反
17、射光产生干涉,因此反射光会随不同的光学波长以及不同的薄膜物理厚度生成不同的干涉条纹。度生成不同的干涉条纹。对于对于n1n2n0的情况,当光学厚度的情况,当光学厚度n1d1为四分之一波长厚度时(光程差为为四分之一波长厚度时(光程差为2nd以以及有半波损失),反射有极大值。因此,基片镀膜以后,各个波长的反射光强度及有半波损失),反射有极大值。因此,基片镀膜以后,各个波长的反射光强度就不相等,因而带有不同的干涉色彩,不同的膜厚有不同的颜色,因此可以根据就不相等,因而带有不同的干涉色彩,不同的膜厚有不同的颜色,因此可以根据薄膜干涉色的变化来监控介质膜的厚度。这种方法在传统的镀膜工艺中是最常用薄膜干涉色
18、的变化来监控介质膜的厚度。这种方法在传统的镀膜工艺中是最常用的。的。应当注意的是,用目视法观察透射光的颜色变化是不成功的。因为单层膜(特应当注意的是,用目视法观察透射光的颜色变化是不成功的。因为单层膜(特别是减反射膜)的透射背景太亮,会淹没干涉色的变化,所以必须采用反射光别是减反射膜)的透射背景太亮,会淹没干涉色的变化,所以必须采用反射光观察。这时,带来的问题是照明光源和观察眼睛必须保持一定的角度。可是,观察。这时,带来的问题是照明光源和观察眼睛必须保持一定的角度。可是,同一膜层在不同的角度下观察的干涉色是不同的,如果我们使倾斜观察时的干同一膜层在不同的角度下观察的干涉色是不同的,如果我们使倾
19、斜观察时的干涉色恰好符合要求,则垂直观察时膜就要偏厚了,所以实际中根据角度需要进涉色恰好符合要求,则垂直观察时膜就要偏厚了,所以实际中根据角度需要进行修正。行修正。五、极值法五、极值法极值法的控制原理:极值法的控制原理:薄膜的透射光或反射光强度是随薄膜厚度的变薄膜的透射光或反射光强度是随薄膜厚度的变化而变化的,当薄膜的光学厚度在四分之一和化而变化的,当薄膜的光学厚度在四分之一和二分之一光学波长厚度时,薄膜的透射、反射二分之一光学波长厚度时,薄膜的透射、反射光谱会出现极值,右图时不同折射率材料的薄光谱会出现极值,右图时不同折射率材料的薄膜的反射、透射率随光学厚度的变化曲线。膜的反射、透射率随光学
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