配位化合物合成单晶培养课件.ppt
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- 化合物 合成 培养 课件
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1、配位化合物合成单晶培养 直接法直接法 组分交换法组分交换法 氧化还原反应法氧化还原反应法 固相反应法固相反应法 包结化合物的合成包结化合物的合成 大环配体模板法大环配体模板法配位化合物合成化学配位化合物合成化学 配体和金属离子直接进行配位反应合成配合物,配体和金属离子直接进行配位反应合成配合物,主要包括溶液中直接进行配位反应即溶剂法、主要包括溶液中直接进行配位反应即溶剂法、无溶剂法、气相法、金属蒸气法及固相反应法等。无溶剂法、气相法、金属蒸气法及固相反应法等。作为中心原子最常用的金属化合物是无机盐作为中心原子最常用的金属化合物是无机盐(卤卤化物、醋酸盐、硝酸盐、高氯酸盐、硫酸盐等化物、醋酸盐、
2、硝酸盐、高氯酸盐、硫酸盐等)、氧化物和氢氧化物等。氧化物和氢氧化物等。选择过渡金属化合物时兼顾发生反应和易于与选择过渡金属化合物时兼顾发生反应和易于与反应产物分离等特点。反应产物分离等特点。水是重要溶剂,混合溶剂,溶液酸度影响反映产水是重要溶剂,混合溶剂,溶液酸度影响反映产率和产物分离,控制率和产物分离,控制pH值。值。直接法直接法水溶液中的直接加成水溶液中的直接加成 实际上是用适当的配体去取代水合配离子中的水分子。实际上是用适当的配体去取代水合配离子中的水分子。控制酸度控制酸度pH值值对配合物对配合物反应产率和分离有很大影响。反应产率和分离有很大影响。只有价态较低的金属离子,如只有价态较低的
3、金属离子,如Cu2+,Ni2+,CO2+,Zn2+等的绝大多数配合物能从水溶液中直接合成,而高价态的等的绝大多数配合物能从水溶液中直接合成,而高价态的离子如离子如A13+,Ti4+,Zr4+等在水溶液中与等在水溶液中与OH形成羟合配形成羟合配离子的倾向很大。因此,只有它们的强离子的倾向很大。因此,只有它们的强Lewis碱配体如碱配体如F-等的配合物才能从水中直接合成。等的配合物才能从水中直接合成。对配体而言,含氧酸根,乙酰丙酮,氨,氰和胺类的许对配体而言,含氧酸根,乙酰丙酮,氨,氰和胺类的许多配合物都能从水中合成。多配合物都能从水中合成。Cu(H2O)62+4NH3=Cu(NH3)4(H2O)
4、22+CuSO4+2K2C2O4=K2Cu(C2O4)2+K2SO4 很多配体都是有机弱酸,只有将其变为酸根,即很多配体都是有机弱酸,只有将其变为酸根,即Lewis碱后方可配位。因此,合成配合物时需加入些碱使其转型。碱后方可配位。因此,合成配合物时需加入些碱使其转型。CO(NH2)2+H2O=2NH3+CO2 CrCl3+3C5H8O2+3NH3=Cr(C5H7O2)3+3NH4C1后产生N2,不会给反应引入其他副产物。K2Ni(CN)4 2K K4Ni(CN)4CH3COOH4H2O氧化剂或还原剂的选择很重要,既要考虑其氧化还原能三维尺寸厚、规则几何外形Werner型配合物的合成金属有机配位
5、化合物晶体的培养直接加到ZrCl4的CCl4悬浮液中,加热回流直到无HCl中心,天然植物型铁氧还蛋白大部分来源于植物的叶绿Cu(II)、Rh(I)、Ir(I)、Pd(II)、Pt(II)等,不必要溶剂共结晶的几率避免采用易在晶体中形成无序结构的阴离子:ClO4-、Et4N-配合物的固相合成化学发展也很迅速。Sm3(phth)4(phen)2(NO3)n水溶剂或与水性质相近的极性溶剂溶剂法溶液中的直接配位作用:上述反应就是直接在无水乙醚和乙腈中进行的。惰性溶剂与溶液(可溶溶剂)之间可互溶Sm(Hdinic)(dinic)n常用的非水溶剂:乙腈、无水乙醇、无水甲醇、丙酮、氯 对于金属中心离子与卤素
6、、胂、磷酸酯,膦,胺,对于金属中心离子与卤素、胂、磷酸酯,膦,胺,-二二酮,席夫碱,冠醚等配体的配合物一般都要在非水溶剂中酮,席夫碱,冠醚等配体的配合物一般都要在非水溶剂中合成。常用的溶剂有醇,乙醚,甲苯,丙酮,氯仿,四氢合成。常用的溶剂有醇,乙醚,甲苯,丙酮,氯仿,四氢呋喃,吡啶等。有时溶剂就是目标化合物中的配体,呋喃,吡啶等。有时溶剂就是目标化合物中的配体,BF3(g)+Et2OBF3OEt2Cu2O(s)+2HPF6+8CH3CN2Cu(CNCH3)4PF6+H2O上述反应就是直接在无水乙醚和乙腈中进行的。上述反应就是直接在无水乙醚和乙腈中进行的。有时在直接加成合成时也用混合溶液,例如有
7、时在直接加成合成时也用混合溶液,例如 4432333 4ZrCl4CFCOCH COCHZr(CFCOCHCOCF)4CClHCl 回流225222632()3()6H O C H OHFe H ObipyFe bipyH O(深红色)溶剂法溶液中的直接配位作用:溶剂法溶液中的直接配位作用:CuSO45H2O+4NH3 Cu(NH3)4SO4H2O+4H2O CrCl3 3acac Cr(acac)3 3HCl OOOOOOKI +OOOOOOCH3OHKI直接法直接法无溶剂法:无溶剂法:气相反应法:气相反应法:最典型的反应是在一定压力和温度下由最典型的反应是在一定压力和温度下由CO与过渡与过
8、渡金属粉末反应生产羰基化合物。如:金属粉末反应生产羰基化合物。如:Ni(s)+4CO(g)Ni(CO)4 Fe(s)+5CO(g)Fe(CO)5Mo(s)+6CO(g)Mo(CO)6 RuH2(PPh3)3+N2 RuH2(N2)(PPh3)3 OOOOOOOOOONaI +INa加热熔融直接法直接法金属蒸气法金属蒸气法:在蒸发器中经高温生产在蒸发器中经高温生产很高的金属蒸气,这些很高的金属蒸气,这些活泼的金属原子与配体活泼的金属原子与配体分子或原子在低温沉积分子或原子在低温沉积壁上发生反应而得到配壁上发生反应而得到配合物。该方法要求高真合物。该方法要求高真空、高温,对反应设备空、高温,对反应
9、设备要求很高。主要用于合要求很高。主要用于合成低价金属配合物、金成低价金属配合物、金属有机配合物及原子簇属有机配合物及原子簇配合物。如由钴原子直配合物。如由钴原子直接合成接合成Co2(PF3)8 液氮氧化铝坩埚(蒸发器)产物出口真空泵蒸气或挥发性液体导管水冷电极金属蒸气法反应器示意图金属蒸气法反应器示意图 直接法直接法组分交换法组分交换法金属交换反应:金属配合物和某种过渡金属的盐或某金属交换反应:金属配合物和某种过渡金属的盐或某种过渡金属化合物之间发生金属离子的交换。种过渡金属化合物之间发生金属离子的交换。配体取代反应:一定条件下,新配体可以置换原配合配体取代反应:一定条件下,新配体可以置换原
10、配合物中的一个、几个或全部配体,从而得到新配合物,物中的一个、几个或全部配体,从而得到新配合物,反位效应顺序可以作为合成新配合物的指导原则,控反位效应顺序可以作为合成新配合物的指导原则,控制反应条件是提高产率的关键,配体部分取代,可获制反应条件是提高产率的关键,配体部分取代,可获得混合配体的配合物。得混合配体的配合物。配体上的反应与新配合物的生成:席夫碱、戊二酮、配体上的反应与新配合物的生成:席夫碱、戊二酮、欧氮等化合物配体和其它活泼配体,配体上可以发生欧氮等化合物配体和其它活泼配体,配体上可以发生化学反应,导致新配合物生成。化学反应,导致新配合物生成。取代和交换反应取代和交换反应 取代和交换
11、反应取代和交换反应 金属交换反应金属交换反应:金属配合物与其它金属的盐金属配合物与其它金属的盐(或化合物或化合物)之间发生金属离之间发生金属离子交换,可以用下式表示:子交换,可以用下式表示:MLl+Mn+MLk+Mm+(l-k)L式中式中M可以是过渡金属也可以是非过渡金属,可以是过渡金属也可以是非过渡金属,M是过渡是过渡金属,金属,L是螯合配体,反应结果是生成了更加稳定的螯合是螯合配体,反应结果是生成了更加稳定的螯合物物MLk,例如,例如2Ln(NO3)3+3Ba(tfacam)=2Ln(tfacam)3+3Ba2+6NO3-tfacam=d-trifluoroacetylcamphanone
12、,即即d-三氟乙酰樟脑三氟乙酰樟脑取代和交换反应取代和交换反应 配体取代反应:配体取代反应:在一定条件下,新配体可以取代原配合物中的一个、几在一定条件下,新配体可以取代原配合物中的一个、几 个或全部配体,得到新配合物。个或全部配体,得到新配合物。Ni(CO)4 4PCl3 Ni(PCl3)4 4CONiCl42-+4CN-=Ni(CN)42-+4C1-Ni(H2O)6 2+3bipy Ni(bipy)3 2+6H2OFe(H2O)6 2+3phen Fe(phen)3 2+6H2OCo(NH3)5ClC12 3en Co(en)3C13+5NH3K2PtCl4 en Pt(en)C12+2KC
13、lK2PtCl4 2en Pt(en)2C12+2KCl K2PdCl4 2en Pd(en)2C12+2KCl K2Pt(en)2C12 2HCl K2Pd(en)Cl2+H2enCl2取代和交换反应取代和交换反应 平面四边形配合物的反位效应:平面四边形配合物的反位效应:在平面四边形配合物在平面四边形配合物(Ni、Pt、Pd等的配合物等的配合物)中,反位效中,反位效应顺序可以作为合成新配合物的指导原则。应顺序可以作为合成新配合物的指导原则。所谓反位效应就是指在平面正方形配合物中,某配体对它所谓反位效应就是指在平面正方形配合物中,某配体对它对位上对位上(即反位即反位)的配体的配体(离去基团离去
14、基团)产生影响,即对其反位产生影响,即对其反位上的配体有活化作用,使之容易离去,也就是容易被其它上的配体有活化作用,使之容易离去,也就是容易被其它配体取代。配体取代。经大量实验研究二价铂的配合物反位效应顺序为经大量实验研究二价铂的配合物反位效应顺序为CO,CN-,C2H4PR3,H-CH3-,SC(NH2)2I-,NO2-,SCN-Br-Cl-py,NH3,RNH2OH-H2O。取代和交换反应取代和交换反应 顺式和反式二氯二氨合铂的合成顺式和反式二氯二氨合铂的合成ClPtClClCl2ClPtClNH3ClClPtNH3NH3ClNH3NH3cis-Pt(NH3)2Cl2HClHCl过量NH3
15、ClPtNH3NH3ClNH3PtNH3NH3NH3NH3PtNH3ClNH3ClPtNH3ClNH3trans-Pt(NH3)2Cl2取代和交换反应取代和交换反应 对于含有易水解金属离子的体系,如对于含有易水解金属离子的体系,如Fe3+、Cr3+等,或者等,或者配体的配位能力较弱,在与金属离子配位时竞争不过水分配体的配位能力较弱,在与金属离子配位时竞争不过水分子,取代反应只能在非水溶剂中进行才能够顺利完成。子,取代反应只能在非水溶剂中进行才能够顺利完成。Cr(H2O)6Cl3 3en Cr(OH)3 3H2O 3en HClCrCl3 3en Cr(en)3C13 Cr(DMF)3Cl3+2
16、en cis-Cr(en)2C12 3DMF 常用的非水溶剂常用的非水溶剂:乙腈、无水乙醇、无水甲醇、丙酮、氯乙腈、无水乙醇、无水甲醇、丙酮、氯仿、二氯甲烷、四氢呋喃、仿、二氯甲烷、四氢呋喃、N,N-二甲基甲酰胺二甲基甲酰胺(DMF)、脂肪醚类如脂肪醚类如1,2-二甲氧基乙烷、乙醚等。二甲氧基乙烷、乙醚等。加成和消除反应:加成和消除反应:代表性的具有平面四边形配位构型的金属离子有代表性的具有平面四边形配位构型的金属离子有Ni(II)、Cu(II)、Rh(I)、Ir(I)、Pd(II)、Pt(II)等,等,RhIClPh3PPPh3Ph3P+H2RhIIIClPh3PPPh3HHPPh3RhIC
17、lPh3PPPh3Ph3P+Cl2RhIIIClPh3PPPh3Ph3PClCl取代和交换反应取代和交换反应 在非水溶液中也常用这种方法制备配合物,例如在N2保护下的反应:按Lewis酸碱理论,配合物的直接加成反应为:Cu2O(s)+2HPF6+8CH3CN2Cu(CNCH3)4PF6+H2O配合物的固相合成化学发展也很迅速。02 g)及水(10 mL)按1:1.Ga+3HClO4+H2O=Ga(H2O)6(ClO4)3+3/2H2-ReCl4HCl(浓)MCl M2Re2Cl8其中低价卤素金属簇合物是比较重要的一类,如:Werner型配合物的合成2HCo(CO)4 Co2(CO)8 H2应,
18、即使是在加热搅拌下,也不发生作用。Fe2S2(SR)42-6Cl-2MeOH缓慢滴加,控制反应速度尽可能慢4FeCl210RS-4SFe4S4(SR)42-8Cl-3RS-SR氧化剂或还原剂的选择很重要,既要考虑其氧化还原能无溶剂存在下加热得到(称为固相法)。Cd1(nic)2(H2O)2Cd2(nic)2(H2O)2nSm(Hdinic)(dinic)n有时配体本身也可做为还原剂玻璃杯等其它如KMnO4,K2Cr2O7,Ce4+化合物等,因为能引入其它杂质离子,增加了分离的手续而应用较少。金属单质氧化制备配合物,水溶液中金属溶解在酸中制金属单质氧化制备配合物,水溶液中金属溶解在酸中制备金属离
19、子水合物,非水溶液中氧化金属制备配合物。备金属离子水合物,非水溶液中氧化金属制备配合物。低氧化态金属氧化制备高氧化态金属配合物,过渡金属低氧化态金属氧化制备高氧化态金属配合物,过渡金属高氧化态配合物由低氧化态配合物氧化配位制得,氧化高氧化态配合物由低氧化态配合物氧化配位制得,氧化剂剂O2、X2、H2O2、KMnO4、PbO2和电化学方法。和电化学方法。还原高氧化态金属以制备低氧化态金属配合物,还原剂还原高氧化态金属以制备低氧化态金属配合物,还原剂H2、金属钾、钠、锌、肼、电化学方法。、金属钾、钠、锌、肼、电化学方法。由高氧化态金属氧化低氧化态金属以制备中间氧化态配由高氧化态金属氧化低氧化态金属
20、以制备中间氧化态配合物;电化学法,可以在各种溶剂中进行,不需要氧化合物;电化学法,可以在各种溶剂中进行,不需要氧化剂和还原剂,较多的是有机弱酸和卤化物反应体系,对剂和还原剂,较多的是有机弱酸和卤化物反应体系,对水解配合物更为有效;水解配合物更为有效;高压氧化还原反应制备配合物,过渡金属高压氧化还原反应制备配合物,过渡金属Co、Ni、Fe、Mo、W羰基配合物用羰基配合物用CO作还原剂。作还原剂。氧化还原反应氧化还原反应 氧化还原反应氧化还原反应 Au4HClHNO3 HAuCl4 2H2O NO Pt6HCl2HNO3 H2PtCl6 4H2O 2NO 2Co(H2O)6Cl2 10NH3+2N
21、H4Cl H2O2 2Co(NH3)6C13 14H2OK2Ni(CN)4 2K K4Ni(CN)4 2Pt(PPh3)2C12 4PPh3 N2H4 2Pt(PPh3)24 4HCl N2 金属单质氧化制备配合物金属单质氧化制备配合物金属溶解在酸中制备其离子的水合物是最常见的例子。金属溶解在酸中制备其离子的水合物是最常见的例子。如金属如金属Ga在高氯酸中加热溶解,并冷至该混合液的沸点在高氯酸中加热溶解,并冷至该混合液的沸点以下时,就有以下时,就有Ga(H2O)6(ClO4)3的晶体析出。的晶体析出。Ga+3HClO4+H2O=Ga(H2O)6(ClO4)3+3/2H2在非水溶液中也常用这种方
22、法制备配合物,例如在在非水溶液中也常用这种方法制备配合物,例如在N2保保护下的反应:护下的反应:Hfod=CF3CF2CF2C(OH)CHCOC(CH3)3 3233()()2FeH fodFe fodH 乙醚回流由低价态化合物氧化制备高价态配合物由低价态化合物氧化制备高价态配合物 高价态金属离子形成配合物的稳定性比低价态高,很多高价态金属离子形成配合物的稳定性比低价态高,很多金属的高氧化态配合物可由其低价化合物经氧化配位制得:金属的高氧化态配合物可由其低价化合物经氧化配位制得:2CoCl2+2NH4Cl+8NH3+H2O2=2Co(NH3)5ClCl2+2H2O 制备时,可将制备时,可将Co
23、Cl26H2O溶解在溶解在NH3NH4Cl体系里,体系里,在搅拌下缓慢滴加在搅拌下缓慢滴加H2O2溶液(溶液(30),待溶液中无气泡),待溶液中无气泡生成时,加入浓生成时,加入浓HCl即可得到紫红色结晶状产物。即可得到紫红色结晶状产物。常用的氧化剂有常用的氧化剂有O3,O2,H2O2,X2,KMnO4,PbO2等,等,其中前三种在实际中的应用较多,因其不引入杂质。其中前三种在实际中的应用较多,因其不引入杂质。PbO2也很常用,因为它本身是固体,还原后生成的也很常用,因为它本身是固体,还原后生成的Pb2+在有在有Cl-存在时,可成为存在时,可成为PbCl2沉淀而过滤除去。沉淀而过滤除去。其它如其
24、它如KMnO4,K2Cr2O7,Ce4+化合物等,因为能引入其化合物等,因为能引入其它杂质离子,增加了分离的手续而应用较少。它杂质离子,增加了分离的手续而应用较少。高价态金属化合物经还原,配位过程可得低价态配合物,高价态金属化合物经还原,配位过程可得低价态配合物,常用的还原剂有:溶于液氨的常用的还原剂有:溶于液氨的K,Na;溶于四氢呋喃的;溶于四氢呋喃的Li和和Mg,Na-Hg,Zn-Hg;以及;以及N2H4或或NH2OH在反应中放出在反应中放出N2不污染产物,不污染产物,H3PO2,N2S2O3,KBH4等。等。类似反应还可制得其它零价金属配合物,如类似反应还可制得其它零价金属配合物,如K4
25、Ni(CN)4和和K6Cr(CN)6等。这些配合物都是强还原剂,在空气中等。这些配合物都是强还原剂,在空气中迅速被氧化,能还原分解出氢。迅速被氧化,能还原分解出氢。形成中间价态配合物形成中间价态配合物有时配体本身也可做为还原剂有时配体本身也可做为还原剂K2Cr2O7+7H2C2O4=2KCr(C2O4)2(H2O)+6CO2+3H2O32444()2()NHK Ni CNKK Ni CN 液333 2()()()RuCl P PhHCOHRu P PhCl COOH 无水乙醇氧化还原反应氧化还原反应有的配合物本身就是氧化剂或还原剂,可用来氧化或还有的配合物本身就是氧化剂或还原剂,可用来氧化或还
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