拉扎维模拟CMOS集成电路设计-前十章全部课件-.ppt
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- 拉扎维 模拟 CMOS 集成电路设计 前十章 全部 课件
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1、重邮光电工程学院模拟CMOS集成电路设计美 理查德拉扎维 著西安交通大学出版社2003模拟集成电路设计绪论Ch.1#2重邮光电工程学院第一章模拟集成电路设计绪论模拟集成电路设计绪论Ch.1#3重邮光电工程学院自然界信号的处理高速、高精度、低功耗ADC的设 计是模拟电路设计中的难题之一高性能放大器和滤波器 设计也是热点研究课题(a)自然界信号的数字化(b)增加放大器和滤波器以提高灵敏度模拟集成电路设计绪论Ch.1#4重邮光电工程学院数字通信数字信号通过有损电缆的衰减和失真 失真信号需放大、滤波和数字化后才再处理模拟集成电路设计绪论Ch.1#5重邮光电工程学院数字通信100100使用多电平信号以减
2、小所需的带宽1011组合二进制数据 DAC多电平信号 ADC传送端接收端确定所传送电平模拟集成电路设计绪论Ch.1#6重邮光电工程学院磁盘驱动电子学存储数据恢复数据硬盘存储和读出后的数据模拟集成电路设计绪论Ch.1#7重邮光电工程学院无线接受机无线接收天线接收到的信号(幅度只有几微伏)和噪声频谱接收机放大低电平信号时必须具有极小噪 声、工作在高频并能抑制大的有害成分模拟集成电路设计绪论Ch.1#8重邮光电工程学院光接收机转换为一个小电流高速电流处理器激光二极管光敏二极管光纤系统模拟集成电路设计绪论Ch.1#9重邮光电工程学院传感器(a)简单的加速度表(b)差动加速度表汽车触发气囊的加速度检测原
3、理图重邮光电工程学院模拟设计困难的原因是什么(1)?模拟集成电路设计绪论Ch.1#10A.模拟设计涉及到在速度、功耗、增 益、精度、电源电压等多种因素间 进行折衷,而数字电路只需在速度 和功耗之间折衷。B.模拟电路对噪声、串扰和其它干扰 比数字电路要敏感得多。C.器件的二级效应对模拟电路的影响 比数字电路要严重得多。模拟集成电路设计绪论Ch.1#11重邮光电工程学院模拟设计困难的原因是什么?D.高性能模拟电路的设计很少能自动完成,而许多数字电路都是自动综合和布局 的。E.模拟电路许多效应的建模和仿真仍然存 在问题,模拟设计需要设计者利用经验 和直觉来分析仿真结果。F.现代集成电路制造的主流技术
4、是为数字 电路开发的,它不易被模拟电路设计所 利用,为了设计高性能的模拟电路,需 不停开发新的电路和结构。模拟集成电路设计绪论Ch.1#12重邮光电工程学院 CMOS技术的发展及展望时间197419771980 1983 1986L(微米)6.04.03.02.01.21989 1995 199820012004200720100.50.350.250.180.130.10.07由于器件尺寸的不断缩小,几G几十G的 模拟CMOS电路已经产生。(fT 1/L2)模拟集成电路设计绪论Ch.1#13重邮光电工程学院为什么要学习CMOS模拟电路设计?CMOS电路因其低成本、低功耗以及速度不断的提高已成
5、为当今 SOC设计的主流制造技术。由于 模拟电路是SOC中不可缺少的部 分,故高性能模拟CMOS电路的设计已成为当今的难点和热点。模拟集成电路设计绪论Ch.1#14重邮光电工程学院第二章MOS器件物理基础模拟集成电路设计绪论Ch.1#15重邮光电工程学院 MOSFET的结构模拟集成电路设计绪论Ch.1#16重邮光电工程学院 MOSFET的结构衬低(bulk、body)*D、S是对称的,可互换!*所有pn结必须反偏!*BJT 的pn结偏值呢?Ldrawn:沟道总长度 LD:横向扩散长度 Leff:沟道有效长度,Leff Ldrawn2 LD模拟集成电路设计绪论Ch.1#17重邮光电工程学院 同一
6、衬底上的NMOS和PMOS器件MOS管所有pn结必须反偏:*N-SUB接VDD!*P-SUB接VSS!*阱中MOSFET衬底常接源极S模拟集成电路设计绪论Ch.1#18重邮光电工程学院 MOS器件符号MOS管等效于一个开关!模拟集成电路设计绪论Ch.1#19重邮光电工程学院 MOS器件的阈值电压VTN(P)(a)栅压控制的MOSFET (c)反型的开始(b)耗尽区的形成 (d)反型层的形成模拟集成电路设计绪论Ch.1#20重邮光电工程学院NMOS管VGSVT、VDS=0时的示意图耗尽层模拟集成电路设计绪论Ch.1#21重邮光电工程学院NMOS管VGSVT、0VDSVT、VDS VGS+VT时的
7、示意图电子耗尽区模拟集成电路设计绪论Ch.1#29重邮光电工程学院饱和区的MOSFET(VDS VGSVT)L12ID nCox W(VGS VTH)VDS VDS2 ID nCox W2L(VGS VTH)2V DS VGS VTH(Pinch off)Qd(x)WCox(VGS V(x)VTH)当V(x)接近VGS-VT,Qd(x)接近于0,即反型层将在XL处终止,沟道被夹断。模拟集成电路设计绪论Ch.1#30重邮光电工程学院 饱和区MOSFET的I/V特性Active Region模拟集成电路设计绪论Ch.1#31重邮光电工程学院 MOS管在饱和区电流公式)2THnoxGSD2Li 1(
8、C)W(vVn的典型值为:n 580 cm2/Vs2oxoxt 50A,Coxoxt 0.02m,Coxoxt 0.1m,C0.35fF/m6.9fF/m2 1.75fF/m2模拟集成电路设计绪论Ch.1#32重邮光电工程学院 三极管区的MOSFETL12ID nCox W(VGS VTH)VDS VDS2 LID nCox W(VGS VTH)VDS,VDS 2(VGS VTH)RON 1LnCox W (VGS VTH)等效为一个 压控电阻模拟集成电路设计绪论Ch.1#33重邮光电工程学院饱和区MOSFET的I/V特性VDS=VGS-VTID沟道电阻随VDS 增加而增加导 致曲线弯曲曲线开
9、始斜 率正比于 VGS-VTVDS模拟集成电路设计绪论Ch.1#34重邮光电工程学院MOSFET的跨导gmgm IDVGS VDScons tan tL nCox W (VGS VTH)Lgm 2nCox W ID2IDVGS VTH模拟集成电路设计绪论Ch.1#35重邮光电工程学院 MOS管工作状态的判断gActiveActivedgdNMOS饱和条件:VdVgVTHN PMOS饱和条件:VdVg|VTHP|判断MOS管是否工作在饱和区时,不必考虑Vs模拟集成电路设计绪论Ch.1#36重邮光电工程学院MOS管的开启电压VT及体效应QdepCoxVTH MS 2F ,whereMS gate
10、siliconF kT qlnNsub n iQdep 4qsi F NsubCox:单位面积栅氧化层电容MS:多晶硅栅与硅衬底功函数之差Qdep耗尽区的电荷,是衬源电压VBS的函数模拟集成电路设计绪论Ch.1#37重邮光电工程学院 MOS管的开启电压VT及体效应VTH VTH0 2F VSB 2F,2qsiNsubCox无体效应源极跟随器有体效应模拟集成电路设计绪论Ch.1#38重邮光电工程学院 MOSFET的沟道调制效应模拟集成电路设计绪论Ch.1#39重邮光电工程学院 MOSFET的沟道调制效应LLL L L1/L 1(1 L/L)L1/L 1(1 VDS),VDS L/LID LnCo
11、x W2L(VGS VTH)2(1 VDS)模拟集成电路设计绪论Ch.1#40重邮光电工程学院 考虑沟道调制效应后的跨导gmgm nCoxWL(VGS VTH)(1 VDS)1/LID/VDS /L1/L2gm 2nCox W LID(1 VDS)gm 2IDVGS VTH,(unchanged)模拟集成电路设计绪论Ch.1#41重邮光电工程学院 MOS管跨导gm不同表示法比较跨导gm123上式中:模拟集成电路设计绪论Ch.1#42重邮光电工程学院亚阈值导电特性VGSID I0 exp kT q(1,是一个非理想因子)模拟集成电路设计绪论Ch.1#43重邮光电工程学院 MOS器件版图模拟集成电
12、路设计绪论Ch.1#44重邮光电工程学院2 MOS电容器的结构ox ox oxox t 0.1 m,C t 0.02 m,C oxox 0.35fF/m6.9 fF/m 21.75fF/m 2。t 50A,C模拟集成电路设计绪论Ch.1#45重邮光电工程学院MOS器件电容模拟集成电路设计绪论Ch.1#46重邮光电工程学院 减小MOS器件电容的版图结构对于图a:CDB=CSB=WECj+2(W+E)Cjsw对于图b:CDB=(W/2)ECj+2(W/2)+E)CjswCSB=2(W/2)ECj+2(W/2)+E)Cjsw=WECj+2(W+2E)Cjsw模拟集成电路设计绪论Ch.1#47重邮光电
13、工程学院 栅源、栅漏电容随VGS的变化曲线C1=WLCoxC3=C4=COVWCov:每单位宽度的交叠电容MOS管关断时:CGD=CGS=CovW,CGB=C1/C2MOS管深线性区时:CGD=CGS=C1/2+CovW,CGB=0,C2被沟道屏蔽 MOS管饱和时:CGS=2C1/3+CovW,蔼CGD=CovW,CGB=0,C2被沟道屏蔽模拟集成电路设计绪论Ch.1#48重邮光电工程学院 MOS 小信号模型ro VDS1IDID/VDS12LnCox W(V)2GS VTH1ID模拟集成电路设计绪论Ch.1#49重邮光电工程学院衬底跨导 gmbgmb VBSIDnCox W2L(VGS VT
14、H)VBS VTH Also,VTHVBSVTHVSB(2F VSB)1/22gmb gm2 2F VSB gm模拟集成电路设计绪论Ch.1#50重邮光电工程学院 栅极电阻模拟集成电路设计绪论Ch.1#51重邮光电工程学院完整的MOS小信号模型模拟集成电路设计绪论Ch.1#52重邮光电工程学院 NMOS器件的电容-电压特性积累区强反型模拟集成电路设计绪论Ch.1#53重邮光电工程学院本章基本要求1.掌握MOSFET电流公式及跨导公式。2.掌握MOSFET小信号等效电路。3.掌握MOSFET的二阶效应、用作恒流 源的结构特点及其饱和的判断条件。4.了解MOS管的PN结必须反偏,会根据MOS管B连
15、接的方式判定是哪种衬底。模拟集成电路设计绪论Ch.1#54重邮光电工程学院第三章 单级放大器模拟集成电路设计绪论Ch.1#55重邮光电工程学院模拟电路设计的八边形法则模拟集成电路设计绪论Ch.1#56重邮光电工程学院模拟设计的小信号概念(1)设函数:若:非线性系统的 输入输出特性则增益:(X0,f(X0)就是静态工作点。模拟集成电路设计绪论Ch.1#57重邮光电工程学院模拟设计的小信号概念(2)dngmvgsGSVTH)vgsLW(Vi k 模拟集成电路设计绪论Ch.1#58重邮光电工程学院模拟设计的小信号概念(3)2gsngsTHGS2nGSTHnTHgsGSnTHGSdnk W vLW2L
16、L1W)22L)2V)v2L V)k (Vk (V1Wk (V v VWi 1 k (v ViD ID2gsn?gsnGSnTHgsdnGS2L1WWL2LLW1W k vVTH)vgs k v 2 k (Vi k (V V)vMOS管总电流为:MOS管的交流电流分量为:|vgs|2(VGS VTH)小信号的假定条件:通常认为“”两边之比1:10时,“”的条件成立,|vgs(t)|可视为小信号模拟集成电路设计绪论Ch.1#59重邮光电工程学院模拟设计的小信号概念(例)假定VGS VTH=1V,则|vgs(t)|可视为小信号的变化范围为:|vgs(t)|gg11r/gg模拟集成电路设计绪论Ch.
17、1#66重邮光电工程学院 电阻负载CS放大器设计参数的制约关系DWmDvnCoxIDRA g R 2W LIDLVRD2nCoxAv 增益AV与W/L、ID、RD(VRD)三个参数有关。若保持ID、RD为常数,W/L,AV,但MOS管寄生 电容,高频相应(放大器的f3dB)变差。若保持为ID、W/L常数,RD,AV,这意味着VDS,放大器静态工作点下移,输出电压的摆幅。若保持W/L、VRD不变,ID,AV,这意味着RD,版图面积,电阻噪声,放大器速度(输出节点时 间常数RC),沟道调制效应的影响(r0与RD更接近)。模拟集成电路设计绪论Ch.1#67重邮光电工程学院 二极管连接的MOS管的小信
18、号等效电阻roVx(gm gmb)Vx Ix二极管连接的MOS管从源极看进去的小信号等效电阻:常用公式1Vx 1gm gmb|ro Ixgm gmb模拟集成电路设计绪论Ch.1#68重邮光电工程学院二极管连接的MOS管小信号阻抗1VX=RD+r0+IX1+(gm+gmb)r0(gm+gmb)r0gm+gmbRin11Vxgm gmb|ro RDIxgm gmb对于图(c)对于图(a)、(b)(a)(b)(c)=0时同(a)(b)重邮光电工程学院单级放大器Ch.3#16 MOS二极管连接负载的共源极1gm11 Av gm1 gm2 gmb2gm2 11(W/L)1Av up(W/L)2(W/L)
19、2 1 un(W/L)1Av 增益与偏置电流无关,即输入与输出 呈线性(大信号时也如此!)Rin=1/(gm2+gmb2)Rin=1/gm2NMOS二极管Vbs0PMOS二极管Vbs=0问题:ID10时,M2是工作在饱和区还是线性区?模拟集成电路设计绪论Ch.1#70重邮光电工程学院二极管连结MOS管的工作状态MOS管二极管连结并导通时,Vg=Vd,显然,不论 是NMOS还是PMOS管,均工作在饱和区!模拟集成电路设计绪论Ch.1#71重邮光电工程学院MOS二极管连接负载的共源极(例1)p(W/L)2 100n(W/L)1则有:通常:n 2p(W/L)2 50(W/L)于是:1V若需A=10
20、若(W/L)2=1,则(W/L)11;(WL)1很大,若(W/L)1=1,则(W/L)21,(WL)2很大,无论如何,这都会导致要么输 入寄生电容太大或输出寄生电容太大(WL)越大,寄生电 容也越大),从而减小3dB带宽。相对而言,(W/L)21 要小。这体现了增益与速度(带宽)的矛盾!模拟集成电路设计绪论Ch.1#72重邮光电工程学院MOS二极管连接负载的共源极22 (VGS2 VTH2)L 2 W (VGS1 VTH1)up un L 1 W Von2=VDD-Vo-|VTP|Vo=VDD-|VTP|-Von2D1D2 I=IVp2GS1TH1on1A=-n(W/L)1=-|VGS2-VT
21、H2|=-Von2(W/L)V-V V记Von=VGS-VT表示MOS管的过驱动电压(Von越大,MOS管工作电流也越大),该式表明增益是两管过 驱动电压之比,AV越大,Von2越大,Vomax越小。模拟集成电路设计绪论Ch.1#73重邮光电工程学院假定 Von1=VGS1-VTH1=Vin-VTH1 0.2V设电源电压 VDD=3V,|VTN|=|VTP|=0.7V若AV=-10,则|VGS2|AV|Von1+|VTH2|=2.7V|VDS2|=|VGS2|2.7V故 Vo=VDD-|VDS2|3-2.7=0.3V,联系到M1饱和要 求:Vo=VDS1VGS1-VTH1=Von1=0.2V.
22、故Vo的变化范围仅有0.2V0.3V,输出电压摆幅非常小。MOS二极管连接负载的共源极(例2)Vp 2GS1TH1on1A=-n(W/L)1=-|VGS2-VTH2|=-Von2(W/L)V-V V问题:显而易见,Vin,Vo,又 VoVin-VTH1 (M1饱和要求)故存在Vin max,那么Vin max=?模拟集成电路设计绪论Ch.1#74重邮光电工程学院求上例中Vinmax=?(例3)Vp2GS1TH1on1A=-n(W/L)1=-|VGS2-VTH2|=-Von2(W/L)V-V V Vinmax=(3 0.7)/(1+10)+0.7=0.91V设电源电压 VDD=3V,|AV|=1
23、0,|VTN|=|VTP|=0.7V M1临界饱和时:Vo=Von1=VGS1-VTH1=Vinmax-VTH1又|VGS2|=|AV|(Vinmax-VTH1)+|VTH2|又 Vo+|VGS2|=VDD(Vinmax-VTH1)(1+|AV|)+|VTH2|=VDD Vinmax=(VDD-|VTH2|)/(1+|AV|)+VTH1 0.7V=VTH1 Vin 0.91V易见,M1的输入电压范围也很窄!模拟集成电路设计绪论Ch.1#75重邮光电工程学院MOS二极管连接负载的共源极1|ro1|ro2)gm2 gmb2Av gm1(Rin=1/(gm2+gmb2)/r02Rin=(1/gm2)
24、/r02NMOS负载时,0,0PMOS负载时,0,=0o1o2gm2m1Av g(1|r|r)思考题:当M1截止时,输出电压最大值为多少?模拟集成电路设计绪论Ch.1#76重邮光电工程学院具有阶跃偏置电流的二极管连接器件在数字电路中,NMOS、PMOS 的栅极在开关导通时分别接 “1”、“0”电平,截止时刚好 相反,两种开关并联即构成 CMOS传输门。若 I1 越来越小,VGS 越来越接近 VTH I1越来越接近 0时,忽略漏电流的影响,我们有:VGSVTH2,因此 VoutVDD-VTH2!此即NMOS模拟开关传送高电平时的阈值损失特性 PMOS开关呢?情况又如何?模拟集成电路设计绪论Ch.
25、1#77重邮光电工程学院 MOS二极管连接共源极的最大输出电压M1截止若上图中M2的栅极接一个固定电压Vb结果又如何?模拟集成电路设计绪论Ch.1#78重邮光电工程学院MOS二极管连接共源极的最大输出电压M1截止模拟集成电路设计绪论Ch.1#79重邮光电工程学院 MOS二极管连接负载共源极的小结增益AV(W/L)1/(W/L)21/2=Von2/Von1。增益AV不高(一般10),且输入、输出摆幅 小,这一特点限制了它的应用。它的优点是跨导gm与电流ID无关,放大器的 线性特性好,大信号下也如此。二极管连接 的MOS管常用来构成有源电流镜。有改善AV不高、输出摆幅小这一缺点的电 路,但效果不是
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