高电子迁移率晶体管课件.ppt
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- 电子 迁移率 晶体管 课件
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1、6 6 高电子迁移率晶体管(高电子迁移率晶体管(HEMTHEMT)本章内容本章内容2 1.1.HEMTHEMT的基本结构和工作原理的基本结构和工作原理 2.2.HEMTHEMT基本特性基本特性 3.3.赝配高电子迁移率晶体管赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)(PHEMT)4.HEMT4.HEMT应用领域应用领域 6.16.1 HEMT HEMT的基本结构和工作原理的基本结构和工作原理3HEMT的基本结构就是一个调制掺杂异质结,在图中示出了AlGaAs/GaAs异质结HEMT的结构;在宽禁带的AlGaAs层(控制层)中掺有施主杂质,在窄禁带的GaAs层(沟道层)中不掺杂(即为本征层)AlGaA
2、s层通常称为控制层,它和金属栅极形成肖特基势垒结,和GaAs层形成异质结HEMT的基本结构 6.16.1 HEMT HEMT的基本结构和工作原理的基本结构和工作原理4这里AlGaAs/GaAs就是一个调制掺杂异质结,在其界面、本征半导体一边处,就构成一个电子势阱(近似为三角形),势阱中的电子即为高迁移率的二维电子气(2-DEG),因为电子在势阱中不遭受电离杂质散射,则迁移率很高。这种2-DEG不仅迁移率很高,而且在极低温度下也不“冻结”(即不复合,因为电子与杂质中心在空间上是分隔开的),则HEMT有很好的低温性能,可用于低温研究工作(如分数量子Hall效应)中。异质结界面附近的另一层很薄的本征
3、层(i-AlGaAs),是用于避免势阱中2-DEG受到n-AlGaAs中电离杂质中心的影响,以进一步提高迁移率。6.16.1 HEMT HEMT的基本结构和工作原理的基本结构和工作原理5HMET的能带图的能带图:AlGaAs的禁带宽度比GaAs大,所以它们形成异质结时,导带边不连续,AlGaAs的导带边比GaAs的高实际上就是前者的电子亲和能比后者的小,结果电子从AlGaAs向GaAs中转移,在GaAs表面形成近似三角形的电子势阱 6.16.1 HEMT HEMT的基本结构和工作原理的基本结构和工作原理6对于GaAs体系的HEMT,通常其中的n-AlxGa1-xAs控制层应该是耗尽的(厚度一般
4、为数百nm,掺杂浓度为 /cm3)。若n-AlxGa1-xAs层厚度较大、掺杂浓度又高,则在Vg=0 时就存在有2-DEG,为耗尽型器件,反之则为增强型器件(Vg=0时Schottky耗尽层即延伸到i-GaAs层内部);但该层如果厚度过大、掺杂浓度过高,则工作时就不能耗尽,而且还将出现与S-D并联的漏电电阻。总之,对于HEMT,主要是要控制好宽禁带半导体层控制层的掺杂浓度和厚度,特别是厚度。17101810 6.16.1 HEMT HEMT的基本结构和工作原理的基本结构和工作原理7HEMT又称为调制掺杂场效应晶体管(MODFET)、二维电子气场效应晶体管(2-DEGFET)、选择掺杂异质结晶体
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