模拟电子技术基础康华光版课件-5.ppt
- 【下载声明】
1. 本站全部试题类文档,若标题没写含答案,则无答案;标题注明含答案的文档,主观题也可能无答案。请谨慎下单,一旦售出,不予退换。
2. 本站全部PPT文档均不含视频和音频,PPT中出现的音频或视频标识(或文字)仅表示流程,实际无音频或视频文件。请谨慎下单,一旦售出,不予退换。
3. 本页资料《模拟电子技术基础康华光版课件-5.ppt》由用户(晟晟文业)主动上传,其收益全归该用户。163文库仅提供信息存储空间,仅对该用户上传内容的表现方式做保护处理,对上传内容本身不做任何修改或编辑。 若此文所含内容侵犯了您的版权或隐私,请立即通知163文库(点击联系客服),我们立即给予删除!
4. 请根据预览情况,自愿下载本文。本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。
5. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007及以上版本和PDF阅读器,压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 模拟 电子技术 基础 康华 课件
- 资源描述:
-
1、P沟道沟道耗尽型耗尽型P沟道沟道P沟道沟道N沟道沟道增强型增强型N沟道沟道N沟道沟道(耗尽型)(耗尽型)FET场效应管场效应管JFET结型结型MOSFET绝缘栅型绝缘栅型(IGFET)耗尽型耗尽型:场效应管没有加偏置电压时,就有导电沟道存在:场效应管没有加偏置电压时,就有导电沟道存在增强型增强型:场效应管没有加偏置电压时,没有导电沟道:场效应管没有加偏置电压时,没有导电沟道场效应管的分类:场效应管的分类:5.1 金属金属-氧化物氧化物-半导体半导体(MOS)场效应管场效应管5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET5.1.5 MOSFET的主要参数的主要参数5.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽
2、型MOSFET5.1.3 P沟道沟道MOSFET5.1.4 沟道长度调制效应沟道长度调制效应5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET1.结构结构(N沟道)沟道)L:沟道长度:沟道长度W:沟道宽度:沟道宽度tox:绝缘层厚度:绝缘层厚度通常通常 W L 5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET剖面图剖面图1.结构结构(N沟道)沟道)符号符号5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET2.工作原理工作原理(1)vGS对沟道的控制作用对沟道的控制作用当当vGSGS00时时 无导电沟道,无导电沟道,d、s间加电压时,也间加电压时,也无电流产生。无电流产生。当当00vGSGS V VT T
3、 时时 在电场作用下产生导电沟道,在电场作用下产生导电沟道,d、s间间加电压后,将有电流产生。加电压后,将有电流产生。vGSGS越大,导电沟道越厚越大,导电沟道越厚2.工作原理工作原理(2)vDS对沟道的控制作用对沟道的控制作用靠近漏极靠近漏极d d处的电位升高处的电位升高电场强度减小电场强度减小 沟道变薄沟道变薄当当vGSGS一定(一定(vGS GS V VT T)时,)时,vDSDS I ID D 沟道电位梯度沟道电位梯度 整个沟道呈整个沟道呈楔形分布楔形分布当当vGSGS一定(一定(vGS GS V VT T)时,)时,vDSDS I ID D 沟道电位梯度沟道电位梯度 当当vDSDS增
4、加到使增加到使vGDGD=V VT T 时,时,在紧靠漏极处出现预夹断。在紧靠漏极处出现预夹断。2.工作原理工作原理(2)vDS对沟道的控制作用对沟道的控制作用在预夹断处:在预夹断处:vGDGD=vGSGS-vDSDS =V VT T预夹断后,预夹断后,vDSDS 夹断区延长夹断区延长沟道电阻沟道电阻 I ID D基本不变基本不变2.工作原理工作原理(2)vDS对沟道的控制作用对沟道的控制作用2.工作原理工作原理(3)vDS和和vGS同时作用时同时作用时 vDSDS一定,一定,vGSGS变化时变化时 给定一个给定一个vGSGS ,就有一条不就有一条不同的同的 iD D vDSDS 曲线曲线。3
5、.V-I 特性曲线及大信号特性方程特性曲线及大信号特性方程(1)输出特性及大信号特性方程)输出特性及大信号特性方程const.DSDGS)(vvfi 截止区截止区当当vGSVT时,导电沟道尚时,导电沟道尚未形成,未形成,iD0,为截止工,为截止工作状态。作状态。3.V-I 特性曲线及大信号特性方程特性曲线及大信号特性方程(1)输出特性及大信号特性方程)输出特性及大信号特性方程const.DSDGS)(vvfi 可变电阻区可变电阻区 vDS(vGSVT))(DSDSTGSnD22vvv VKi由于由于vDS较小,可近似为较小,可近似为DSTGSnD)(vvVKi 2常数常数 GSDDSdsovv
6、didr)(TGSnVK v21rdso是一个受是一个受vGS控制的可变电阻控制的可变电阻 3.V-I 特性曲线及大信号特性方程特性曲线及大信号特性方程(1)输出特性及大信号特性方程)输出特性及大信号特性方程 可变电阻区可变电阻区 DSTGSnD)(vvVKi 2)(TGSndsoVKr v21 n:反型层中电子迁移率:反型层中电子迁移率Cox:栅极(与衬底间)氧:栅极(与衬底间)氧化层单位面积电容化层单位面积电容本征电导因子本征电导因子oxnnC K LWLWKK22oxnnnC 其中其中Kn为电导常数,单位:为电导常数,单位:mA/VmA/V2 23.V-I 特性曲线及大信号特性方程特性曲
7、线及大信号特性方程(1)输出特性及大信号特性方程)输出特性及大信号特性方程 饱和区饱和区(恒流区又称放大区)(恒流区又称放大区)vGS GS V VT T ,且,且vDSDS(v vGSGSV VT T)2)(TGSnDVKi v221)(TGSTn VVKv21)(TGSDO VIv2TnDOVKI 是是vGSGS2 2V VT T时的时的iD D V V-I I 特性:特性:3.V-I 特性曲线及大信号特性方程特性曲线及大信号特性方程(2)转移特性)转移特性const.GSDDS)(vvfi21)(TGSDOD VIiv5.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽型MOSFET1.结构和工作原理结构和
8、工作原理(N沟道)沟道)二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子 可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流5.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽型MOSFET2.V-I 特性曲线及大信号特性方程特性曲线及大信号特性方程 21)(PGSDSSDVIiv 21)(TGSDOD VIiv(N N沟道增强型)沟道增强型)5.1.3 P沟道沟道MOSFET5.1.4 沟道长度调制效应沟道长度调制效应实际上饱和区的曲线并不是平坦的实际上饱和区的曲线并不是平坦的)()(DSTGSnDvv 12VKi)()(DSTGSDOvv 112VIL
9、的单位为的单位为 m1V 1.0 L当不考虑沟道调制效应时,当不考虑沟道调制效应时,0 0,曲线是平坦的。,曲线是平坦的。修正后修正后5.1.5 MOSFET的主要参数的主要参数一、直流参数一、直流参数NMOSNMOS增强型增强型1.1.开启电压开启电压V VT T (增强型参数)(增强型参数)2.2.夹断电压夹断电压V VP P (耗尽型参数)(耗尽型参数)3.3.饱和漏电流饱和漏电流I IDSSDSS (耗尽型参数)(耗尽型参数)4.4.直流输入电阻直流输入电阻R RGSGS (10109 910101515 )二、交流参数二、交流参数 1.1.输出电阻输出电阻r rdsds GSDDSd
10、sVir vD12TGSnds1)(iVKr v当不考虑沟道调制效应时,当不考虑沟道调制效应时,0 0,rdsds 5.1.5 MOSFET的主要参数的主要参数DS GSDmVigv 2.2.低频互导低频互导g gm m 二、交流参数二、交流参数 考虑到考虑到 2TGSnD)(VKi v则则DSDSGS2TGSnGSDm)(VVVKigvvv )(2TGSnVK vnDTGS)(KiV vDn2iK LWK 2Coxnn其中其中5.1.5 MOSFET的主要参数的主要参数end三、极限参数三、极限参数 1.1.最大漏极电流最大漏极电流I IDMDM 2.2.最大耗散功率最大耗散功率P PDMD
11、M 3.3.最大漏源电压最大漏源电压V V(BRBR)DSDS 4.4.最大栅源电压最大栅源电压V V(BRBR)GSGS 5.2 MOSFET放大电路放大电路5.2.1 MOSFET放大电路放大电路1.直流偏置及静态工作点的计算直流偏置及静态工作点的计算2.图解分析图解分析3.小信号模型分析小信号模型分析5.2.1 MOSFET放大电路放大电路1.直流偏置及静态工作点的计算直流偏置及静态工作点的计算(1)简单的共源极放大电路)简单的共源极放大电路(N沟道)沟道)直流通路直流通路共源极放大电路共源极放大电路5.2.1 MOSFET放大电路放大电路1.直流偏置及静态工作点的计算直流偏置及静态工作
展开阅读全文