截距的偏移-工业工程与管理系课件.ppt
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- 关 键 词:
- 偏移 工业 工程 管理 课件
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1、On-line Monitoring When the On-line Monitoring When the Process Yields a Linear ProfileProcess Yields a Linear Profile指導教授:指導教授:童超塵童超塵作者:作者:LAN KANG and LAN KANG and SUSAN L.ALBINSUSAN L.ALBIN主講人:鍾承利主講人:鍾承利國立雲林科技大學國立雲林科技大學 工業工程與管理所工業工程與管理所2大綱大綱 當過程可由一個或多個特徵描述成線性的輪廓當過程可由一個或多個特徵描述成線性的輪廓或方程式時,作者推薦二種方法來
2、做監控:或方程式時,作者推薦二種方法來做監控:(1)(1)多變量多變量T T2 2 ;(2)EWMA(2)EWMA和和R chartR chart。使用了使用了ARL ARL 作為二者比較的依據,討論的項作為二者比較的依據,討論的項目為斜率、截距的偏移;同時發生的偏移;及目為斜率、截距的偏移;同時發生的偏移;及偏移發生在製程的標準差時。偏移發生在製程的標準差時。國立雲林科技大學國立雲林科技大學 工業工程與管理所工業工程與管理所3 IntroductionIntroduction Description of the ProcessDescription of the Process Contr
3、ol StrategiesControl Strategies The Multivariate ApproachThe Multivariate Approach The Residual ApproachThe Residual Approach Estimating AEstimating A0 0、A A1 1、2 2 Multivariate Approach in Phase IMultivariate Approach in Phase I Residual Approach in Phase IResidual Approach in Phase I ComparisonsCo
4、mparisons Designing the Sample to Decrease ARL-to-Designing the Sample to Decrease ARL-to-DetectionDetection ConclusionConclusion國立雲林科技大學國立雲林科技大學 工業工程與管理所工業工程與管理所4IntroductionIntroduction 作者所推薦的多變量作者所推薦的多變量T T2 2 chart chart是十分適合用是十分適合用在監視製程可由多種品質特徵描述時,在這,在監視製程可由多種品質特徵描述時,在這,作者在運用此種方法時只使用了二種品質特徵。作者在
5、運用此種方法時只使用了二種品質特徵。而而EWMA chart EWMA chart 能非常有效地檢測出製程平能非常有效地檢測出製程平均數微小的偏移,但由於對製程標準差的偏移均數微小的偏移,但由於對製程標準差的偏移並不敏感,所以加入了並不敏感,所以加入了R chart R chart 作為協助。作為協助。國立雲林科技大學國立雲林科技大學 工業工程與管理所工業工程與管理所5Description of the ProcessDescription of the Process 製程的結果可表達為一線性方程式:製程的結果可表達為一線性方程式:Y=AY=A0 0+A+A1 1X+,XX+,Xl l X
6、 X X Xh h 利用最小平方法得到利用最小平方法得到A A0 0和和A A1 1的估計式:的估計式:國立雲林科技大學國立雲林科技大學 工業工程與管理所工業工程與管理所6Description of the ProcessDescription of the Process 而而a a0j0j 和和a a1j1j 皆為常態分配,平均數為皆為常態分配,平均數為A A0 0 和和A A1 1 ,而變異數為:而變異數為:而而a a0j0j和和a a1j1j的共異數為:的共異數為:當預測方程式為當預測方程式為 時,則殘差可表達時,則殘差可表達為:為:當當 N(0,)N(0,)時,則時,則 的不偏估計
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