ICP刻蚀简析解析课件.ppt
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- 关 键 词:
- ICP 刻蚀 解析 课件
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1、ICP刻蚀简析1刻蚀简介2ICP刻蚀原理3ICP刻蚀及检测通过物理和通过物理和/或化学方法将下层材料中没有被上层或化学方法将下层材料中没有被上层掩蔽膜材料掩蔽的部分去掉,从而在下层材料上掩蔽膜材料掩蔽的部分去掉,从而在下层材料上获得与掩蔽膜图形完全对应的图形。获得与掩蔽膜图形完全对应的图形。光刻1湿法刻蚀湿法刻蚀即利用特定的溶液与薄膜间所进行的化学即利用特定的溶液与薄膜间所进行的化学反应来去除薄膜未被光刻胶掩膜覆盖的部分,而达反应来去除薄膜未被光刻胶掩膜覆盖的部分,而达到刻蚀的目的。到刻蚀的目的。Wet Etching Characteristics Advantages:Simple equ
2、ipment High throughput High selectivity Disadvantages:Isotropic etching leads to undercutting Chemical costs are high Disposal cost are high干法刻蚀干法刻蚀是利用射频电源使反应气体生成反应活性是利用射频电源使反应气体生成反应活性高的离子和电子,对硅片进行物理轰击及化学反应高的离子和电子,对硅片进行物理轰击及化学反应,以选择性的去除我们需要去除的区域。被刻蚀的,以选择性的去除我们需要去除的区域。被刻蚀的物质变成挥发性的气体,经抽气系统抽离,最后按物质变成挥发
3、性的气体,经抽气系统抽离,最后按照设计图形要求刻蚀出我们需要实现的深度照设计图形要求刻蚀出我们需要实现的深度 Dry Etching Characteristics Advantages:Anisotropic etch profile is possible Chemical consumption is small Disposal of reaction products less costly Suitable for automation,single wafer,cassette to cassette Disadvantages:Complex equipment,RF,gas
4、metering,vacuum,instrumentation Selectivity can be poor Residues left on wafer刻蚀速率刻蚀速率 习惯上把单位时间内去除材料的厚度定义为刻蚀速率习惯上把单位时间内去除材料的厚度定义为刻蚀速率刻蚀速率由工艺和设备变量决定,如被刻蚀材料类型,刻蚀机刻蚀速率由工艺和设备变量决定,如被刻蚀材料类型,刻蚀机的结构配置,使用的刻蚀气体和工艺参数设置的结构配置,使用的刻蚀气体和工艺参数设置选择比选择比 同一刻蚀条件下,被刻蚀材料的刻蚀速率与另一种材料同一刻蚀条件下,被刻蚀材料的刻蚀速率与另一种材料 的刻的刻蚀速率的比。蚀速率的比。选
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