TiC增强W基面对等离子体材料性能研究课件.ppt
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1、ASIPPTiC增强增强W基面对等离子体材料基面对等离子体材料性能研究性能研究学 生:刘 洋指导老师:陈俊凌 研究员 2010.12.20ASIPP目录目录v 研究背景v 国内外研究现状v 拟采用的方法v 实验进展 ASIPP研究背景第一壁(第一壁(First wallFirst wall):直接面对热等离子体直接面对热等离子体偏滤器(偏滤器(DivertorDivertor):):承受极强的热流与粒子轰击承受极强的热流与粒子轰击 磁约束聚变能的最终实现面临的两大难题:高参数稳态等离子体物理问题 托卡马克及未来反应堆中关键材料问题 面对等离子体材料(Plasma Facing Material
2、PFM)ASIPP 等离子体与材料相互作用:从壁材料释放的各种粒子可能被输运到等离子体约束区,从而对等离子体的约束特性造成不利影响;等离子体粒子和伴随的能量流对面对等离子体材料的损伤。研究背景等离子体与壁相互作用过程简图ASIPP 托卡马克中流向壁的热通量与其他过程的比较研究背景ASIPP PFM的选择:迄今研究得最多的PFM是碳(C)、铍(Be)和钨(W):C的优点是低 Z、热力学性能好、不熔化、升华温度高;缺点是高的溅射刻蚀率、与氚共堆积滞留、中子辐照脆化等。Be的优点是低 Z、吸氧能力强、H同位素(包括氘和氚,以下如无特殊说明均用 H表示)滞留较小;缺点是低熔点、高溅射和毒性等。W基材料
3、以其高熔点、低溅射、不与 H发生化学反应、H滞留低等特性被视为未来托卡马克/聚变堆中最可能全面使用的 PFM;其缺点是存在高 Z杂质辐射、中子辐照脆化/硬化、高热负荷下再结晶脆化甚至熔化/蒸发等。研究背景ASIPP 课题的提出:鉴于 W在未来壁材料中的重要地位,针对其最主要的辐射问题,德国在ASDEX-U托卡马克上开展了系统的W壁物理实验,结果表明:W杂质向芯部等离子体的传输过程受到多种辅助加热手段的有效抑制。此外,约束水平提高后,边界层中的离子能量降低,物理溅射降低,W杂质产额减少。尽管W杂质的高辐射问题能够得到有效的抑制,但W基PFM在核聚变装置中的应用还存在一些问题:低温脆性;再结晶脆化
4、;辐照效应的影响。因此,有必要对W基PFM进行强化研究。对W的强化手段主要有固溶强化,细晶强化及第二相颗粒弥散强化。ASIPP国内外研究现状 固溶强化 固溶强化是一种较常用的合金强化方法,其性能较合金化之前明显提高。对W而言,可考虑的固溶元素有锝(Tc)、钌(Ru)、铼(Re)、锇(Os)、钛(Ti)等。Ref Y.Mutoh,K.Ichikawa,K.Nagata.Effect of rhenium addition on fracture toughness of tungsten at elevated temperatures.Journal of material science,3
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