化学工艺流程答题套路(模板).docx
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- 关 键 词:
- 化学 工艺流程 答题 套路 模板
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1、化学工艺流程答题套路(模板) 一、答题的套路:一、答题的套路: (1) 增大原料浸出率(离子在溶液中的含量多少)的措施: 搅拌、升高温度、延长浸出时间、增大气体的流速搅拌、升高温度、延长浸出时间、增大气体的流速( (浓度、压强浓度、压强) ),增大气液或固液接,增大气液或固液接 触面积触面积 (2) 加热的目的: 加快反应速率或促进平衡向某个方向加快反应速率或促进平衡向某个方向( (一般是有利于生成物生成的方向一般是有利于生成物生成的方向) )移动移动 (3) (3) 温度不高于的原因温度不高于的原因 适当加快反应速率,适当加快反应速率, 但温度过高会造成但温度过高会造成( (如浓硝酸如浓硝酸
2、) )挥发挥发/(/(如如 H2O2H2O2、NH4HCO3)NH4HCO3)分解分解 /(/(如如 Na2SO3)Na2SO3)氧化或促进氧化或促进( (如如 AlClAlCl3 3) )水解等,影响产品的生成水解等,影响产品的生成 (4) 从滤液中提取一般晶体(溶解度随温度升高而增大的晶体)的方法 【蒸发浓缩至有晶膜出现、冷却结晶、过滤、洗涤【蒸发浓缩至有晶膜出现、冷却结晶、过滤、洗涤( (冰水洗、热水洗、乙醇洗冰水洗、热水洗、乙醇洗) )、 干燥】干燥】 (5) 从滤液中提取溶解度受温度影响较小或随温度升高而减小的晶体的方法 ( (蒸发浓缩、 趁热过滤如果温度下降, 杂质也会以晶体的形式
3、析出来、 洗涤、 干燥蒸发浓缩、 趁热过滤如果温度下降, 杂质也会以晶体的形式析出来、 洗涤、 干燥) ) (6) 溶液配制、灼烧、蒸发、过滤用到的仪器 (7) 控制某反应的 pH 值使某些金属离子以氢氧化物的形式沉淀 ( (调节调节 pHpH 所用试剂为主要元素对应的氧化物、碳酸盐、碱,以避免引入新的杂质;所用试剂为主要元素对应的氧化物、碳酸盐、碱,以避免引入新的杂质;pHpH 分离时的范围确定、范围过小的后分离时的范围确定、范围过小的后果导致某离子沉淀不完全或过大的后果导致主要果导致某离子沉淀不完全或过大的后果导致主要 离子开始沉淀离子开始沉淀) ) (8) 减压蒸馏(减压蒸发)的原因:
4、减小压强,使液体沸点降低,防止减小压强,使液体沸点降低,防止( (如如 H2O2H2O2、浓硝酸、浓硝酸、NH4HCO3)NH4HCO3)受热分解受热分解/ /挥发挥发 (9) 检验溶液中离子是否沉淀完全的方法: 将溶液静置一段时间后,向上层清夜中滴入沉淀剂,若无沉淀生成,则离子沉淀完全将溶液静置一段时间后,向上层清夜中滴入沉淀剂,若无沉淀生成,则离子沉淀完全 (10) 洗涤沉淀: 沿玻璃棒往漏斗中加蒸馏水至液面浸没沉淀,待水自然流下后,重复操作沿玻璃棒往漏斗中加蒸馏水至液面浸没沉淀,待水自然流下后,重复操作 2 23 3 次次 (11) 检验沉淀是否洗涤干净的方法: 取少量最后一次的洗涤液于
5、试管中,向其中滴入某试剂,若取少量最后一次的洗涤液于试管中,向其中滴入某试剂,若 ,则沉淀,则沉淀 洗涤干净。洗涤干净。 (12) 洗涤的目的: 除掉附着在沉淀表面的可溶性杂质除掉附着在沉淀表面的可溶性杂质 (13) 冰水洗涤的目的: 洗去晶体表面的杂质离子并降低被洗涤物质的溶解度,减少其在洗涤过程中的溶解损洗去晶体表面的杂质离子并降低被洗涤物质的溶解度,减少其在洗涤过程中的溶解损 耗耗 (14)乙醇洗涤的目的: 降低被洗涤物质的溶解度,减少其在洗涤过程中的溶解损耗,得到较干燥的产物降低被洗涤物质的溶解度,减少其在洗涤过程中的溶解损耗,得到较干燥的产物 (15) 蒸发、反应时的气体氛围: 抑制
6、某离子的水解,如加热蒸发抑制某离子的水解,如加热蒸发 AlClAlCl3 3溶液时为获得溶液时为获得 AlClAlCl3 3需在需在 HClHCl 气流中进行气流中进行 (16) 事先煮沸溶液的原因: 除去溶解在溶液中的除去溶解在溶液中的( (如氧气如氧气) )防止某物质被氧化防止某物质被氧化 二、高频问题:二、高频问题: 1、 “浸出”步骤中,为提高镁的浸出率,可采取的措施有: 答:适当提高反应温度、增加浸出时间,加入过量硫酸,边加硫酸边搅拌答:适当提高反应温度、增加浸出时间,加入过量硫酸,边加硫酸边搅拌 2、如何提高吸收液和 SO2反应速率: 答:适当提高温度、增大吸收液或答:适当提高温度
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