第单元集成电路晶圆测试基础课件.ppt
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- 关 键 词:
- 单元 集成电路 测试 基础 课件
- 资源描述:
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1、第二单元 集成电路晶圆测试基础第二单元 集成电路晶圆测试基础 硅片 晶圆 晶圆测试项目 晶圆测试设备 晶圆测试操作硅片制备集成电路芯片的晶圆片,其衬底材料主要为硅片,其纯度为99.9999999%,简称“九个9”。硅片制备与检测硅片l硅片几何尺寸硅片几何尺寸圆形薄片,边缘有定位边或定位槽。硅片直径(mm)厚度(m)面积(cm2)质量(g)100(4)525 2578.549.65125(5)625 25122.7217.95150(6)675 20176.7128.00200(8)725 20314.1653.08300(12)775 20706.86127.64450(18)?硅片l加工工艺
2、流程加工工艺流程硅片l基本检测项目基本检测项目掺杂类型掺杂浓度(个/cm3)1019P型P-PP+N型N-NN+硅片l商用硅片举例一商用硅片举例一硅片硅片硅片l商用硅片举例二商用硅片举例二硅片硅片硅片l基本检测方法基本检测方法检测项目主要方法缺陷化学/电化学腐蚀导电类型(N/P)热电、光电、整流、霍尔等效应电阻率两探针法、四探针法、C-V法、涡电流法和扩散电阻法刃型位错螺型位错硅片半导体材料与特性第二单元 集成电路晶圆测试基础 硅片 晶圆 晶圆测试项目 晶圆测试设备 晶圆测试操作2.晶圆晶圆基础“硅片硅片”:未加工的原始硅圆片;“晶圆晶圆”:通过芯片制造工艺,在圆硅片上已形成芯片(晶片)阵列的
3、硅圆片。2.晶圆l芯片芯片2.晶圆l辅助测试结构辅助测试结构为了提取集成电路的各种参数而专门设计,包括芯片制造过程的工艺监控参数、过程质量控制参数、电路设计模型参数和可靠性模型参数的提取。第二单元 集成电路晶圆测试基础 硅片 晶圆 晶圆测试项目 晶圆测试设备 晶圆测试操作3.晶圆测试项目晶圆测试是在探针台上进行的。按测试方法和过程分类,可以分为加电压测电流(VFIM)、加电流测电压(IFVM)、加电压测电压(VFVM)和加电流测电流(IFIM)。3.晶圆测试项目性能参数测试项目l直流(直流(DC)参数)参数器件/电路端口的稳态电气特性测试。例如:例如:输入特性II=f(VI)输出特性IO=f(
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