第三章-微电子封装形式的分类课件.ppt
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1、 3.1概论概论 3.2按封装材料、封装器件、封装结构分类按封装材料、封装器件、封装结构分类 3.2.1金属封装金属封装(M)3.2.2塑料封装塑料封装(P)3.2.3陶瓷封装陶瓷封装(C)3.3按封装的外形、尺寸、结构分类按封装的外形、尺寸、结构分类 裸芯片裸芯片与与布线板布线板实现实现互连互连之后,需要通过之后,需要通过封装技术封装技术将其密封在将其密封在塑料、玻璃、金属或陶瓷外壳塑料、玻璃、金属或陶瓷外壳中,以确保中,以确保芯片能在各种恶劣条件下正常工作。芯片能在各种恶劣条件下正常工作。如果不经过封装,由于受空气中如果不经过封装,由于受空气中湿气和氧气湿气和氧气的影响的影响,芯片或电路元
2、件表面及布线板表面的导体图形和电芯片或电路元件表面及布线板表面的导体图形和电极等,会随时受到氧化和腐蚀极等,会随时受到氧化和腐蚀。因此,封装技术是十。因此,封装技术是十分重要的技术环节。分重要的技术环节。当第一只半导体晶体管出现时,同时也就开始了当第一只半导体晶体管出现时,同时也就开始了封装技术发展。封装技术发展。3.1概论概论器件和封装发展进展器件和封装发展进展电子管安装电子管安装,19001950年年v1900年,发明真空三极管,世界开始迈进电子时代年,发明真空三极管,世界开始迈进电子时代v1918年,各种无线电设备开始普遍采用电子管年,各种无线电设备开始普遍采用电子管v1920年,采用酚
3、醛层压板作为连线基板年,采用酚醛层压板作为连线基板v1936年,提出年,提出“印制电路印制电路”的概念的概念v1942年,发明最早实用化的双面年,发明最早实用化的双面 PCBv1947年,美国国家标准局以年,美国国家标准局以PWB应用于电子管电路为应用于电子管电路为前提,就材料、布线方法、搭载部件等提出包括前提,就材料、布线方法、搭载部件等提出包括26项的项的提案,涉及到涂布法、喷涂法、化学沉积法、模压法、提案,涉及到涂布法、喷涂法、化学沉积法、模压法、粉末烧结法等粉末烧结法等6种工艺,其中不少已包含当今种工艺,其中不少已包含当今PWB技术技术的雏形的雏形晶体管封装时期(晶体管封装时期(195
4、01960年)年)v1948年,发明晶体管年,发明晶体管v1957年,出现适于晶体管连接的年,出现适于晶体管连接的TO(圆柱外壳封圆柱外壳封装装)型封装方式)型封装方式v1958年,发明平面晶体管制造技术年,发明平面晶体管制造技术v1958年,年,第一个集成电路(第一个集成电路(IC)v1958年,首次实现年,首次实现晶体管树脂塑封晶体管树脂塑封v1960年,杜邦公司开发出年,杜邦公司开发出Ag-Pd系厚膜浆料系厚膜浆料v20世纪世纪60年代,年代,厚膜浆料厚膜浆料达到实用化达到实用化v20世纪世纪70年代以后,厚膜混合年代以后,厚膜混合IC获得长足发展。获得长足发展。元器件插装时期(元器件插
5、装时期(19601975年)年)v1961年,年,氧化铝流延片氧化铝流延片10叠层叠层共烧技术,金属化通孔共烧技术,金属化通孔工艺法的多层板制造工艺技术工艺法的多层板制造工艺技术v1962年,薄膜晶体管年,薄膜晶体管v1963年,扁平封装问世年,扁平封装问世 v1969年,陶瓷扁平封装年,陶瓷扁平封装v60年代,环氧玻璃布基覆铜箔层压板,环氧树脂多层基年代,环氧玻璃布基覆铜箔层压板,环氧树脂多层基板。热塑性薄膜底基材料板。热塑性薄膜底基材料v60年代初,平面矩阵球形焊料端子、芯片用模注树脂封年代初,平面矩阵球形焊料端子、芯片用模注树脂封装装v60年代后半期,年代后半期,氧化铝多层基板氧化铝多层
6、基板v70年代中期,年代中期,1000以下的玻璃陶瓷基板以下的玻璃陶瓷基板元器件插装时期(元器件插装时期(19601975年)年)v70年代,连续自动化卷轮(盘)式操作的新工艺年代,连续自动化卷轮(盘)式操作的新工艺聚酰亚胺薄膜带作载体的聚酰亚胺薄膜带作载体的 带载式带载式 IC封装工艺封装工艺塑料封装的塑料封装的双列直插式封装双列直插式封装(DIP)扁平形态塑料封装引线型扁平形态塑料封装引线型DIPPWB(特别是多层板)用材料和生产技术的研发,(特别是多层板)用材料和生产技术的研发,特别是积层粘结方法,半固化法(粘结片)的改良,特别是积层粘结方法,半固化法(粘结片)的改良,覆膜电镀等方面覆膜
7、电镀等方面SMT技术应用于技术应用于TV高频头、高频头、VTR等等混合混合 IC热印头热印头表面贴装(表面贴装(SMT)时期()时期(1975年一)年一)v70年代中期,适应年代中期,适应SMT要求,要求,PWB开发实质进展开发实质进展柔性刚性基板柔性刚性基板厚膜化学镀技术、通孔电镀技术厚膜化学镀技术、通孔电镀技术18微米铜箔技术微米铜箔技术盲孔及层间互连孔金属化技术盲孔及层间互连孔金属化技术v1975年,年,塑料封装的塑料封装的 QFPv1978年,年,“J”型引线式的表面贴装的型引线式的表面贴装的 PLCC(塑料无引线(塑料无引线芯片载体)芯片载体)v 1980年,富士通,莫来石型基板。比
8、氮化铝基板有更低的年,富士通,莫来石型基板。比氮化铝基板有更低的介电常数特性介电常数特性v1982年,实用化的年,实用化的SiC型陶瓷基板,玻璃陶瓷基板型陶瓷基板,玻璃陶瓷基板表面贴装(表面贴装(SMT)时期()时期(1975年一)年一)v1980年开始,年开始,针栅阵列封装针栅阵列封装PGA问世问世v1991年,年,塑料塑料BGA,BGA进入真正的实用化阶段。进入真正的实用化阶段。国外专家,一般将以国外专家,一般将以QFP、TSOP为代表的周边引线型封为代表的周边引线型封装的出现看作为装的出现看作为SMT的的“第一次革命第一次革命”,而把,而把20世纪世纪90年代中期真正大力普及起来的以年代
9、中期真正大力普及起来的以BGA、FBGA、BGA(CSP)为代表的平面栅阵布置引线型封装看作为为代表的平面栅阵布置引线型封装看作为SMT的的“第二次革命第二次革命”v1984年,日本年,日本NEC公司,引线框架式连接的公司,引线框架式连接的HICv1985年,富士通,年,富士通,42层超多层层超多层PCB。62层玻璃陶瓷低温共层玻璃陶瓷低温共烧多层基板烧多层基板(LTCC)v1986年,接触型年,接触型IC卡问世卡问世高密度封装时期(高密度封装时期(20世纪世纪90年代初年代初)v1990年年,日本,日本 IBM,SLC积层多层板积层多层板。用感光性。用感光性树脂作绝缘层,通过光致法制作微细通
10、孔的崭新技树脂作绝缘层,通过光致法制作微细通孔的崭新技术。开创了术。开创了PCB业一个新的时代业一个新的时代v20世纪世纪80年代末年代末90年代初,年代初,多芯片组件技术多芯片组件技术兴起兴起v1992年起,通用电气公司年起,通用电气公司3D MCM,开拓了实现系,开拓了实现系统集成的新途径,发展统集成的新途径,发展三维立体封装三维立体封装的先例。的先例。v1996年,索尼公司,数码相机中搭载了年,索尼公司,数码相机中搭载了20个个CSP封封装器件装器件高密度封装时期(高密度封装时期(20世纪世纪90年代初年代初)v1997年,日本率先将年,日本率先将CSP产品投放于市场。产品投放于市场。C
11、SP是实现高是实现高密度、微小型化的封装,是密度、微小型化的封装,是21世纪初高密度封装技术发展的世纪初高密度封装技术发展的主流。主流。v1997年,不含溴、不含锑的年,不含溴、不含锑的绿色型绿色型PCB基材基材开始工业化,开始工业化,并投放市场。并投放市场。v半导体半导体IC的的金属互连金属互连在整个在整个IC芯片中所占的面积越来越大,芯片中所占的面积越来越大,金属互连问题成为了此后金属互连问题成为了此后IC发展的关键发展的关键v1998年,年,Motorola,IBM,六层铜互连工艺六层铜互连工艺新发明新发明v19992000年,日本、美国、中国台湾,年,日本、美国、中国台湾,环氧环氧CL
12、AY纳米纳米级复合材料级复合材料在覆铜板中应用成果的专利申请,纳米技术在封在覆铜板中应用成果的专利申请,纳米技术在封装基板上的应用装基板上的应用 目前,芯片封装技术已经历了目前,芯片封装技术已经历了几代变迁几代变迁,芯片面芯片面积与封装面积之比越来越接近积与封装面积之比越来越接近1,引脚数增多引脚数增多,引引脚间距减小脚间距减小,重量减小重量减小,适用频率更高适用频率更高,耐温性能耐温性能更好更好,可靠性提高可靠性提高,使用更加方便使用更加方便。因此,我们去因此,我们去买芯片买芯片,经常会问到某芯片,经常会问到某芯片采用什采用什么封装方式么封装方式,或者说,它们采用,或者说,它们采用何种封装形
13、式何种封装形式?同?同时也会进一步问,时也会进一步问,该种封装形式有什么样的技术特该种封装形式有什么样的技术特点以及优越性点以及优越性?本章将介绍几种主要本章将介绍几种主要芯片封装形式、分类方法及芯片封装形式、分类方法及特点特点。3.2 微电子封装形式的分类微电子封装形式的分类 微电子封装形式按微电子封装形式按封装材料封装材料分,主要可以分为分,主要可以分为四种形式:四种形式:金属封装金属封装、塑料封装、陶瓷封装和金塑料封装、陶瓷封装和金属陶瓷封装;属陶瓷封装;根据根据气密性气密性可以分为可以分为气密封装气密封装和和非非气密封装气密封装。典型的封装形式典型的封装形式 3.2.1金属封装金属封装
14、(M)1.金属封装的概念金属封装的概念 金属封装是采用金属封装是采用金属金属作为作为壳体或底座壳体或底座,芯片直接芯片直接或通过基板或通过基板安装在安装在外壳或底座上外壳或底座上的一种电子封装形的一种电子封装形式。式。为了避免器件的性能受到影响,金属封装的为了避免器件的性能受到影响,金属封装的信号信号和电源引线和电源引线大多采用大多采用玻璃玻璃-金属密封工艺金属密封工艺或或金属陶瓷金属陶瓷密封工艺密封工艺。由于金属封装具有良好的由于金属封装具有良好的散热能力和电磁屏蔽能散热能力和电磁屏蔽能力力,因而常被用作,因而常被用作高可靠要求和定制的专用气密封高可靠要求和定制的专用气密封装装。目前,主要应
15、用于模件、电路和器件中,包括:目前,主要应用于模件、电路和器件中,包括:(1)光电器件封装光电器件封装:带光窗型、带透镜型、带光纤型:带光窗型、带透镜型、带光纤型 (2)微波模块和混合电路封装微波模块和混合电路封装:双列直插型、扁平型:双列直插型、扁平型 (3)特殊器件封装特殊器件封装:矩阵类、多层多腔型、无磁材料型:矩阵类、多层多腔型、无磁材料型 (4)分立器件封装分立器件封装:(5)专用集成电路封装:专用集成电路封装:2.金属封装的工艺流程金属封装的工艺流程典型的金属封装工艺流程典型的金属封装工艺流程工艺注意问题:工艺注意问题:(1)在装配前,需进行烘焙,目的将金属中的气泡或在装配前,需进
16、行烘焙,目的将金属中的气泡或者湿气驱赶出来,减小与腐蚀相关的实效;者湿气驱赶出来,减小与腐蚀相关的实效;(2)在装配过程中,温度不能始终维持高温,而是要在装配过程中,温度不能始终维持高温,而是要按照一定的降温曲线配合各个阶段的工艺,减小后工按照一定的降温曲线配合各个阶段的工艺,减小后工艺步骤对先前工艺的影响;艺步骤对先前工艺的影响;(3)封装盖板和壳体的封接面上不可以出现任何空隙封装盖板和壳体的封接面上不可以出现任何空隙或没有精确对准,会引起器件的密封问题;或没有精确对准,会引起器件的密封问题;(4)为减少水汽等有害气体成分,封盖工艺一般在氮为减少水汽等有害气体成分,封盖工艺一般在氮气等干燥保
17、护气氛下进行。气等干燥保护气氛下进行。封盖工艺:封盖工艺:封盖工艺封盖工艺是金属封装中是金属封装中比较特殊的一道工艺比较特殊的一道工艺,目前,目前常见的封盖工艺有:常见的封盖工艺有:平行缝焊平行缝焊、激光封焊激光封焊和和低温焊料低温焊料焊接焊接等。等。(1)平行缝焊平行缝焊 平行缝焊封接法是指用平行缝焊封接法是指用两个端部倾角两个端部倾角45角的圆柱角的圆柱形电极,形电极,以以一定压力同时压在金属盖板和金属焊接环一定压力同时压在金属盖板和金属焊接环上上进行进行电气熔焊的气密性封接电气熔焊的气密性封接方法。该方法不宜采用方法。该方法不宜采用形状复杂的外形形状复杂的外形。平行缝焊法平行缝焊法平行缝
18、焊的焊接环形状平行缝焊的焊接环形状 平行缝焊是一种可靠性较高的封盖方式,平行缝焊是一种可靠性较高的封盖方式,盖板和焊盖板和焊接环等平行封焊材料接环等平行封焊材料对封装中对封装中气密性气密性以及以及气密性成品气密性成品率率有重要影响。有重要影响。因此,高质量的平行缝焊盖板必须因此,高质量的平行缝焊盖板必须 具备具备以下特性以下特性:(a)盖板盖板的热膨胀系数要与底座的热膨胀系数要与底座焊接环相匹配焊接环相匹配、与、与瓷体相瓷体相近近;(b)焊接熔点温度要尽可能低;焊接熔点温度要尽可能低;(c)耐腐蚀性能优良;耐腐蚀性能优良;(d)尺寸误差小;尺寸误差小;(e)平整、光洁、毛刺小、玷污小。平整、光
19、洁、毛刺小、玷污小。(2)激光封焊激光封焊 在多层布线的在多层布线的设定位置上设定位置上,银焊料银焊料作为作为封焊金属封焊金属基体的焊接环基体的焊接环,将金属外壳扣在焊接环上,使二者处,将金属外壳扣在焊接环上,使二者处于于紧密接触状态紧密接触状态;在;在激光束能量的作用下激光束能量的作用下,焊接环和,焊接环和金属外壳同时熔化,冷却后完成的气密性封接方法。金属外壳同时熔化,冷却后完成的气密性封接方法。该方法属于气密性封接技术,与上述的平行缝焊该方法属于气密性封接技术,与上述的平行缝焊封接技术相比,可以用于封接技术相比,可以用于大型的大型的MCM以及以及外形复杂的外形复杂的MCM,并且能保证高可靠
20、性。,并且能保证高可靠性。激光封焊技术激光封焊技术 (3)低温焊料焊接低温焊料焊接 低温焊料焊接是指低温焊料焊接是指通过钎焊将金属外壳固定在多层通过钎焊将金属外壳固定在多层布线板上布线板上,将,将IC芯片与外气隔绝芯片与外气隔绝。为了利用钎焊实现气密性封接的目的,要求钎焊与为了利用钎焊实现气密性封接的目的,要求钎焊与被钎焊材料之间具有良好的被钎焊材料之间具有良好的浸润性浸润性。通常采用。通常采用Sn63/Pb37(锡铂)共晶焊料。(锡铂)共晶焊料。3.金属封装特点金属封装特点 金属封装金属封装精度高,尺寸严格精度高,尺寸严格;金属零件以冲、金属零件以冲、挤为主,便于大量生产挤为主,便于大量生产
21、;价格低廉,性能优良价格低廉,性能优良;芯片放置容易,应用灵活芯片放置容易,应用灵活,可靠性高,可以得到可靠性高,可以得到大体积的空腔大体积的空腔。金属封装形式多样、加工灵活,可以和某些部金属封装形式多样、加工灵活,可以和某些部件件(如混合集成的如混合集成的A/D或或D/A转换器转换器)融为一体,既融为一体,既适合适合低低I/O数的单芯片和多芯片数的单芯片和多芯片的封装的封装(如振荡器、如振荡器、放大器、混频器、鉴频鉴相器、放大器、混频器、鉴频鉴相器、DC/DC变换器、变换器、滤波器、继电器等产品滤波器、继电器等产品),也适合,也适合MEMS、射频、射频、微波、光电、声表面波和大功率器件微波、
22、光电、声表面波和大功率器件的封装。的封装。4.金属封装材料要求金属封装材料要求 为实现对为实现对芯片支撑芯片支撑、电气连接电气连接、热耗散热耗散、机械机械和环境的保护和环境的保护,金属封装材料应满足,金属封装材料应满足以下要求以下要求:(1)与芯片或陶瓷基板的热膨胀系数匹配,减小或避免热应与芯片或陶瓷基板的热膨胀系数匹配,减小或避免热应力的产生;力的产生;(2)非常好的导热性,提供热耗散;非常好的导热性,提供热耗散;(3)非常好的导电性,减少传输延迟;非常好的导电性,减少传输延迟;(4)良好的良好的EMI/RFI(电磁干扰(电磁干扰/射频干扰)屏蔽能力;射频干扰)屏蔽能力;(5)较低的密度,足
23、够的强度和硬度,良好的加工或成型性较低的密度,足够的强度和硬度,良好的加工或成型性能;能;(6)可镀覆性、可焊性和耐腐蚀性,易实现与芯片、盖板、可镀覆性、可焊性和耐腐蚀性,易实现与芯片、盖板、印刷板的可靠结合、密封和环境的保护;印刷板的可靠结合、密封和环境的保护;(7)较低的成本。较低的成本。5.传统金属封装材料传统金属封装材料 金属材料的选择金属材料的选择与与金属封装的质量和可靠性有金属封装的质量和可靠性有直接的关系直接的关系,常用的,常用的传统金属封装材料有传统金属封装材料有:Al、Cu、Mo、W、钢以及、钢以及CuW、Ni-Fe、CuMo和和CuW合金等。它们都有很好的合金等。它们都有很
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