ch01-模拟集成电路设计绪论课件.ppt
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- ch01 模拟 集成电路设计 绪论 课件
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1、模拟模拟CMOS集成电路设计集成电路设计张博张博模拟模拟CMOS集成电路设计集成电路设计 美 理查德拉扎维 著西安交通大学出版社第一章模拟集成电路设计绪论自然界信号的处理(a)自然界信号的数字化)自然界信号的数字化 (b)增加放大器和滤波器以提高灵敏度)增加放大器和滤波器以提高灵敏度高速、高精度、低功耗高速、高精度、低功耗ADC的设的设计是模拟电路设计中的难题之一计是模拟电路设计中的难题之一高性能放大器和滤波器高性能放大器和滤波器设计也是热点研究课题设计也是热点研究课题数字通信数字信号通过有损电缆的衰减和失真数字信号通过有损电缆的衰减和失真失真信号需放大、滤波和数字化后才能处理失真信号需放大、
2、滤波和数字化后才能处理数字通信使用多电平信号以减小所需的带宽使用多电平信号以减小所需的带宽1011010010组合二进制数据组合二进制数据多电平信号多电平信号确定所传送电平确定所传送电平DACADC传送端传送端接收端接收端磁盘驱动电子学存储数据存储数据恢复数据恢复数据硬盘存储和读出后的数据硬盘存储和读出后的数据无线接收机无线接收天线接收到的信号无线接收天线接收到的信号(幅度只有几微伏幅度只有几微伏)和噪声频谱和噪声频谱接收机放大低电平信号时必须具有极小噪接收机放大低电平信号时必须具有极小噪声、工作在高频并能抑制大的有害成分。声、工作在高频并能抑制大的有害成分。光接收机光纤系统光纤系统转换为一个
3、小电流转换为一个小电流高速电流处理器高速电流处理器激光二极管激光二极管光敏二极管光敏二极管传感器(a)简单的加速度表简单的加速度表(b)差动加速度表差动加速度表汽车触发气囊的加速度检测原理图汽车触发气囊的加速度检测原理图为什么是模拟CMOS集成电路设计 首先,MOSFET的特征尺寸越来越小,本征速度越来越快(已可与双极器件相比较),现在几GHz几十GHz的CMOS模拟集成电路已经可批量生产。SOC芯片中同时包含有大量的模拟、数字电路,由于CMOS以其低成本、低功耗已成为现代大规模数字集成电路设计及制造的首选,与数字集成电路技术兼容的CMOS模拟集成电路技术可降低SOC芯片的制造及封装成本。因此
4、CMOS电路已成为当今SOC设计的主流制造技术。CMOS技术的发展及展望技术的发展及展望时间1980 1983 1982 1989 1995 2001 2004 2010L(m)3.02.01.20.50.350.180.130.07电源电压(电源电压(V)L模拟设计困难的原因A.模拟设计涉及到在速度、功耗、增益、精度、电源电压等多种因素间进行折衷,而数字电路只需在速度和功耗之间折衷。B.模拟电路对噪声、串扰和其它干扰比数字电路要敏感得多。C.器件的二级效应对模拟电路的影响比数字电路要严重得多。D.高性能模拟电路的设计很少能自动完成,而许多数字电路都是自动综合和布局的。模拟设计困难的原因E.模
5、拟电路许多效应的建模和仿真仍然存在问题,模拟设计需要设计者利用经验和直觉来分析仿真结果。F.现代集成电路制造的主流技术是为数字电路开发的,它不易被模拟电路设计所利用(如特征尺寸减小导致器件迁移率下降、沟道调制效应增大;电源电压的下降使以前的一些电路设计技术受到限制等),为了设计高性能的模拟电路,需不停开发新的电路和结构。模拟电路基础知识数字逻辑设计知识高频电路射频集成电路模拟集成电路模拟集成电路设计数字集成电路设计模拟数字混合信号集成电路高速数字集成电路.SOCCPU.DSP电路设计一般概念抽象级别鲁棒性鲁棒性(Robust)器件和电路的参数随工艺(Process)、电源电压(Supply V
6、oltage)和环境温度(ambient Temperature)(简称PVT)变化而变化。电路设计的目标是在指定的PVT范围之内电路性能变化在一个允许的范围之内。从电路到芯片从电路到芯片电 路 技 术 规 范 确 定结 构 选 择 电 路 设 计仿 真版 图 设 计物 理 验 证(DRC,ERC,LVS)参 数 提 取后 仿 真电 路 仿 真 工 具版 图 设 计 工 具器 件 模 型工 艺 参 数封 装 模 型设 计 规 则仿 真 激 励模拟集成电路设计流程模拟集成电路设计流程技术规范确定技术规范确定电气条件电气条件 极限工作条件:电源电压、输入电压范围、工作温度范围、存储温度范围 静态参
7、数:输入输出电压、电流、功耗 动态工作参数:工作频率、上升下降时间、建立保持时间功能:功能:真值表、状态图,输入输出曲线指标:指标:频率响应、电源抑制比、共模抑制比、稳定时间、增益、增益误差,其他:其他:ESD,I/O电容、测量条件、引脚对应、电路设计考虑:电路设计考虑:设计容限:设计容限:制造误差:Fast、Typical、Slow温度变化:0 25 70(商业)-55 25 125(军品)电源变化:VDD (110%)Desing ConnerVDD,T,fast PMOS,fast NMOSVDD,T,slow PMOS,slow NMOSTypical芯片封装影响:芯片封装影响:功能:
8、提供保护、散热和系统连接。影响因素:引脚数目管芯大小热阻安装方式电气特性DEBUGTrimming(调整)模拟模拟CMOS集成电路中的元件集成电路中的元件1 MOS晶体管晶体管模型参数晶体管模型参数晶体管模型参数随着工艺过程参数的变化会发生漂移根据特性漂移的范围确定模型参数的变化范围,一般划分成(fast,typical和slow)电路的模拟应当考虑模型参数的变化,一般是3或5Conner二极管二极管无源元件电阻无源元件电阻制造过程中没有专门制造电阻的步骤,使用导电层制作电阻单位电阻值:阱 扩散区多晶硅金属电阻值的计算:L/W无法制造精密电阻小电阻有较大的误差(50)面积和误差的折中考虑接触孔
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