电晕和辉光放电等离子体技术与应用课件.ppt
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- 关 键 词:
- 电晕 辉光 放电 等离子体 技术 应用 课件
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1、8 电晕和辉光放电等电晕和辉光放电等离子体技术与应用离子体技术与应用8.1 电晕和辉光放电等离子体机理分电晕和辉光放电等离子体机理分析析v8.1.1 电晕放电电晕放电v电晕放电常采用非对称电晕放电常采用非对称电极(如针电极(如针-板电极、板电极、针针-针电极等),在电针电极等),在电极曲率半径小的地方电极曲率半径小的地方电场强度特别高,容易形场强度特别高,容易形成电子发射和气体电离,成电子发射和气体电离,可在常压条件下形成电可在常压条件下形成电晕。晕。针电极针电极平板电极平板电极进气口进气口出气口出气口等离子体区等离子体区催化剂催化剂10-1010-810-610-410-211001000电
2、流电流I/AVBA辉光放电辉光放电暗放电暗放电弧光放电弧光放电汤森区汤森区BDFFGHJCEIK本底电离本底电离饱和区饱和区电晕电晕击穿电压击穿电压正常正常辉光辉光异常异常辉光辉光Themal辉光到弧光辉光到弧光的跃变的跃变V1/I电压电压/气体放电伏安特性曲线气体放电伏安特性曲线直流电晕直流电晕交流电晕交流电晕高频电晕高频电晕根据放电产生电晕的根据放电产生电晕的电源来源和频率可分为电源来源和频率可分为正电晕正电晕负电晕负电晕电晕放电类型电晕放电类型爆发式脉冲电晕爆发式脉冲电晕流注电晕流注电晕辉光电晕辉光电晕特里切尔电晕特里切尔电晕v正负电晕的形成机理正负电晕的形成机理 负电晕的形成机理负电晕
3、的形成机理场生雪崩放电理论:场生雪崩放电理论:针状阴极电晕发光区内存在较强烈的电离与激发,针状阴极电晕发光区内存在较强烈的电离与激发,电流密度大,在负电晕的外围只存在单一的带负电电流密度大,在负电晕的外围只存在单一的带负电的粒子。的粒子。正电晕的形成机理正电晕的形成机理流光理论:流光理论:一旦产生正电晕放电,电晕层内强电场中激发粒一旦产生正电晕放电,电晕层内强电场中激发粒子的光辐射产生电子即光致电离,所形成的电子在子的光辐射产生电子即光致电离,所形成的电子在电晕层中引起雪崩放电,产生大量激发和电离,最电晕层中引起雪崩放电,产生大量激发和电离,最后电子被阳极收集,正离子经过电晕层,进入电晕后电子
4、被阳极收集,正离子经过电晕层,进入电晕外围向阴极迁移。外围向阴极迁移。根据能量提供方式,金属中电子发射可分为以下根据能量提供方式,金属中电子发射可分为以下几种情况几种情况:高温导致的热电子发射;高温导致的热电子发射;强电场导致的场致发射强电场导致的场致发射;光照导致的光致发射;光照导致的光致发射;电子撞击产生的次级电子发射;电子撞击产生的次级电子发射;金属表面力学作用(摩擦、形变等)或化学反应金属表面力学作用(摩擦、形变等)或化学反应导致的自由电子发射导致的自由电子发射10-1010-810-610-410-211001000电流电流I/AVBA辉光放电辉光放电暗放电暗放电弧光放电弧光放电汤森
5、区汤森区BDFFGHJCEIK本底电离本底电离饱和区饱和区电晕电晕击穿电压击穿电压正常正常辉光辉光异常异常辉光辉光Themal辉光到弧光的跃变辉光到弧光的跃变Vne(X)V(x)交流电晕交流电晕负电晕,能量密度较高时,正电负电晕,能量密度较高时,正电晕晕负电晕负电晕交流电晕。交流电晕。C能量密度低时能量密度低时CH4转化率高于转化率高于CO2转化率,由于转化率,由于CO2 过量导致过量导致CH4的转化率较高,这一特点与平衡的转化率较高,这一特点与平衡热力学分析结果一致,但能量密度增加到一定程度热力学分析结果一致,但能量密度增加到一定程度后,后,CO2转化率将高于转化率将高于CH4转化率。转化率
6、。D反应产物的反应产物的H2/CO值随能量密度的增加先下降,值随能量密度的增加先下降,然后上升然后上升E随能量密度增加,反应体系易于产生随能量密度增加,反应体系易于产生C2H2、积炭、积炭等物质。等物质。v(3)原料配比对反应的影响)原料配比对反应的影响当能量密度一定时,随原料中当能量密度一定时,随原料中CH4的增加,的增加,CH4和和CO2的转化率同时提高。其中的转化率同时提高。其中CO2的转化率随的转化率随CH4/CO2比值变化较大,在高比值时,比值变化较大,在高比值时,CO2的转化率超的转化率超过过CH4的转化率。的转化率。v(4)能量效率分析)能量效率分析各种电晕放电反应的能量效率接近
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