第五章-MOS基本逻辑单元电路课件.ppt
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1、第五章第五章 MOS基本逻辑单元电路基本逻辑单元电路 MOS集成电路具有集成度高、功集成电路具有集成度高、功耗低的特点,是当今大规模集成电路耗低的特点,是当今大规模集成电路的主流产品,尤其是的主流产品,尤其是CMOS集成电路。集成电路。1基本知识提示基本知识提示:0 K(VGS-VT)2 K 2(VGS-VT)VDS-VDS2 K=K(WL)K=Cox2Cox=ox otox VT VBS2q si oNBCox =IDS=NMOS:截止截止饱和饱和非饱和非饱和NMOS PMOS 增强型增强型 耗尽型耗尽型 四端器件四端器件衬底偏置效应:衬底偏置效应:沟道长度调制效应沟道长度调制效应(短沟效应
2、短沟效应):=L1 Xd VDS211.3MOSFET 基本工作原理基本工作原理11.3.1MOSFET结构结构11.3.2电流电压关系概念电流电压关系概念3PMOSFET)64.11.()(22TSGoxpDVVLCWI)63.11.()(222SDSDTSGoxpDVVVVLCWI4电流电压关系:电流电压关系:)41.11.()(2:)40.11.()(22 22TGSoxnDSDSDSTGSoxnDSVVLCwIVVVVLCwI饱和区非饱和区:5Figure 11.41 增强型输出特性曲线增强型输出特性曲线6Figure 11.43 耗尽型输出特性曲线耗尽型输出特性曲线75-1 MOS传
3、输门传输门 MOS传输门就是通过控制传输门就是通过控制MOS管管的导通和截止来实现信号的传输控制。的导通和截止来实现信号的传输控制。结构简单,控制灵活,是组成结构简单,控制灵活,是组成MOS电电路的基本单元之一。路的基本单元之一。8 思考题思考题1.NMOS传输门、传输门、PMOS传输门、传输门、CMOS传输门各自的优缺点是什么?传输门各自的优缺点是什么?2.传输门的传输速度与哪些因素有关?传输门的传输速度与哪些因素有关?95.1.1单沟传输门单沟传输门1.NMOS传输门传输门IOG“0”IOGG为为“1”电平时电平时 NMOS开启,传送信号开启,传送信号G为为“0”电平时电平时 NMOS管截
4、止,不传送信号。管截止,不传送信号。O点电容通过饱和导通的点电容通过饱和导通的NMOS管放电,管放电,NMOS管逐渐管逐渐进入非饱和,放电加快,最进入非饱和,放电加快,最终终O点达到与点达到与I点相同的点相同的“0”。(1)由由I向向O传送传送“0”时时(假设假设O初始为初始为“1”)105.1.1 单沟传输门单沟传输门1.NMOS传输门传输门(续续)“1”IOG O点电容通过饱和导通的点电容通过饱和导通的NMOS管充电,当管充电,当O点电位上点电位上升到比升到比G点电位低一个点电位低一个VTn时,时,NMOS管截止。即最终管截止。即最终O点达点达到的到的“1”比比G点的点的“1”低一低一个个
5、VTn(有衬底偏值效应有衬底偏值效应)。(2)由由I向向O传送传送“1”时时(假设假设O初始为初始为“0”)115.1.1 单沟传输门单沟传输门2.PMOS传输门传输门G为为“0”电平时电平时 PMOS开启,传送信号开启,传送信号G为为“1”电平时电平时 PMOS管截止,不传送信号。管截止,不传送信号。O点电容通过饱和导通的点电容通过饱和导通的PMOS管管充电,充电,PMOS管逐渐管逐渐进入非饱和,充电加快,最进入非饱和,充电加快,最终终O点达到与点达到与I点相同的点相同的“1”。(1)由由I向向O传送传送“1”时时(假设假设O初始为初始为“0”)IOG“1”IOG125.1.1 单沟传输门单
6、沟传输门2.PMOS传输门传输门(续续)O点电容通过饱和导通的点电容通过饱和导通的PMOS管管放电,当放电,当O点电位下降点电位下降到比到比G点电位高一个点电位高一个|VTp|时,时,PMOS管截止。即最终管截止。即最终O点达到点达到的的“0”比比G点的点的“0”高一个高一个|VTp|(有衬底偏值效应有衬底偏值效应)。(2)由由I向向O传送传送“0”时时(假设假设O初始为初始为“1”)“0”IOG135.1.2 CMOS传输门传输门O点电容通过饱和导通的点电容通过饱和导通的NMOS管和管和PMOS管放电,管放电,NMOS管逐管逐渐进入非饱和,渐进入非饱和,PMOS管逐渐截管逐渐截止,最终止,最
7、终O达到与达到与I相同的相同的“0”。(1)由由I向向O传送传送“0”(O初始为初始为“1”)OIGGG为为“0”电平、电平、G为为“1”电电平时平时 NMOS、PMOS管都截止。管都截止。G为为“1”电平时、电平时、G为为“0”电平电平 NMOS、PMOS管都开启。管都开启。OIGG“0”145.1.2 CMOS传输门传输门(续续)O点电容通过饱和导通的点电容通过饱和导通的NMOS管和管和PMOS管充电,管充电,PMOS管逐渐进入非饱和,管逐渐进入非饱和,NMOS管逐渐截止,最终管逐渐截止,最终O达到与达到与I相同的相同的“1”。(2)由由I向向O传送传送“1”(O初始为初始为“0”)OIG
8、G“1”155.1.3 MOS传输门的速度传输门的速度GViVoGViVoGnViVoGp MOS传输门的传输速度与节传输门的传输速度与节点电容、前级驱动能力、和自身点电容、前级驱动能力、和自身MOS管的管的W/L有关。有关。对于自身来说,对于自身来说,W/L越大,越大,导通电阻越小,传输速度越快。导通电阻越小,传输速度越快。对于单沟传输门来说,传送对于单沟传输门来说,传送“1”和和“0”的速度不同,而对于的速度不同,而对于CMOS传输门可以达到相同。传输门可以达到相同。165.1.4 MOS传输门的特点传输门的特点1)NMOS传输门能可靠地快速传送传输门能可靠地快速传送“0”电平,电平,传送
9、传送“1”电平时较慢,且有阈值损失;电平时较慢,且有阈值损失;2)PMOS传输门能可靠地快速传送传输门能可靠地快速传送“1”电平,电平,传送传送“0”电平时较慢,且有阈值损失;电平时较慢,且有阈值损失;3)CMOS传输门能可靠地快速传送传输门能可靠地快速传送“1”电平电平和和“0”电平,但需要两种器件和两个控制电平,但需要两种器件和两个控制信号信号4)MOS传输门具有双向传输性能传输门具有双向传输性能5)MOS传输门属于无驱动衰减性传输传输门属于无驱动衰减性传输175-2静态静态MOS反相器反相器 MOS反相器特性的分析是反相器特性的分析是MOS基基本逻辑门电路分析的重要基础。本逻辑门电路分析
10、的重要基础。18思考题思考题1.各种各种MOS反相器的结构有何不同?各反相器的结构有何不同?各自的优缺点是什么?自的优缺点是什么?2.各种各种MOS反相器的输出高低电平是多少?反相器的输出高低电平是多少?分别受什么因素影响?分别受什么因素影响?3.什么叫有比电路?什么叫无比电路?什么叫有比电路?什么叫无比电路?4.各种各种MOS反相器的速度、功耗、噪声容反相器的速度、功耗、噪声容限分别受哪些因素影响?限分别受哪些因素影响?195.2.1 电阻负载电阻负载NMOS反相器反相器1.结构和工作原理结构和工作原理VOH=VDD(VDDVOH)/RL=0Vi为低电平为低电平VOL时,时,MI截止截止Vi
11、为高电平为高电平VOH时,时,MI非饱和非饱和(VDDVOL)/RL=KI 2(VOH-VTI)VOL-VOL2 ViVoRLVDDMI VOL VDD 1+2KI RL(VOH VTI)其中其中:KI=WL()ox o2tox205.2.1 电阻负载电阻负载NMOS反相器反相器2.基本特性基本特性RL若小:若小:VOL高,高,功耗大,功耗大,tr小小;W/L若小若小(即即KI小小):VOL高,功高,功耗小耗小,,tf大。大。ViVoRLVDDMNRL减小VILVIHVOHVOLVoVi0 VOL VDD 1+2KI RL(VOH VTI)0VitVDD0VotVDD215.2.2 E/E饱和
12、负载饱和负载NMOS反相器反相器1.结构和工作原理结构和工作原理ViVoVDDMLMIVOH=VDD VTL KL(VDD-VOH-VTL)2=0Vi为低电平为低电平VOL时时,MI截止截止,ML饱和饱和Vi为高电平为高电平VOH时时,MI非饱和非饱和,ML饱和饱和KL(VDD-VOL-VTL)2=KI2(VOH-VTI)VO-VO2其中:其中:R=KIKL=(W/L)I(W/L)LVOL (VDD VTL)22 R(VOH VTI)有比电路有比电路225.2.2 E/E饱和负载饱和负载NMOS反相器反相器2.单元特点单元特点ViVoVDDMLMIVoVi R减小(KI/KL)(1)VOH比电
13、源电压比电源电压VDD低低一个阈值电一个阈值电压压Vt(有衬底偏有衬底偏值效应);值效应);(3)ML和和MI的宽长比分别影响的宽长比分别影响tr和和tf。(4)上升过程由于负载管逐渐接近截上升过程由于负载管逐渐接近截止,止,tr较大。较大。(2)VOL与与 R有关,有关,为为有比电路有比电路;0Vot235.2.3 E/E非饱和负载非饱和负载NMOS反相器反相器1.结构和工作原理结构和工作原理ViVoVDDMLMIVGG VOH=VDD KL2(VGG-VOH-VTL)(VDD-VOH)-(VDD-VOH)2 =0VGG VDD+VTL Vi为为VOL时,时,MI截止,截止,ML非饱和非饱和
14、245.2.3 E/E非饱和负载非饱和负载NMOS反相器反相器1.结构和工作原理结构和工作原理(续续)ViVoVDDMLMIVGGKI 2(VOH-VTI)VOL-VOL2 KL2(VGG-VOL-VTL)(VDD-VOL)-(VDD-VOL)2 =VOL VDD 22m R(VOH VTI)其中:其中:R=KIKL=(W/L)I(W/L)Lm=VDD2(VGG VTL)VDD0 m 1Vi为为VOH时,时,MI非饱和,非饱和,ML非饱和非饱和255.2.3 E/E非饱和负载非饱和负载NMOS反相器反相器 2.单元特点单元特点ViVoVDDMLMIVGGVoVi(KI/KL)R增大(1)双电源
15、双电源(2)VOH=VDD(3)VOL与与 R有关,有关,为为有比电路有比电路;(4)VGG越高,越高,tr越越小,但是小,但是VOL越大,越大,功耗越大。功耗越大。265.2.4自举负载自举负载NMOS反相器反相器1.结构和自举原理结构和自举原理初始状态:初始状态:VI=VOH,Vo=VOL MB、ML饱和饱和、MI非饱和非饱和VOL (VDD VTB VTL)22 R(VOH VTI)其中:其中:R=KIKL=(W/L)I(W/L)L有比电路有比电路ViVoVDDMBMIMLCBVGLVGL=VDD VTB275.2.4自举负载自举负载NMOS反相器反相器1.结构和自举原理结构和自举原理(
16、续续)自举过程:自举过程:Vi 变为变为VOL,MI截止截止,Vo上升,上升,VGL随随Vo上升上升(电容自举电容自举),MB截止截止,ML逐渐由饱和进入逐渐由饱和进入 非饱和导通,上升速度加快。非饱和导通,上升速度加快。自举结果:自举结果:tr缩短,缩短,VOH可达到可达到VDD。ViVoVDDMBMIMLCBVGL285.2.4自举负载自举负载NMOS反相器反相器2.寄生电容与自举率寄生电容与自举率 VGL CO=VGSL CB VGL=VGSL+Vo VGL=Vo=1+Co/CB1自举率定义:自举率定义:CO由于寄生电容由于寄生电容CO的存在:的存在:应尽可能较小寄生电容应尽可能较小寄生
17、电容Co,使使 达到达到80%以上。以上。ViVoVDDMBMIMLCBVGL295.2.4自举负载自举负载NMOS反相器反相器3.漏电与上拉漏电与上拉 自举电路中的漏电,会自举电路中的漏电,会使自举电位使自举电位VGL下降下降(尤其尤其是低频是低频),最低可降到:,最低可降到:VGL=VDD VTB,因而因而ML变为饱和导通,输出变为饱和导通,输出VOH降低:降低:VOH=VDD VTB VTL为了提高输出高电平,加为了提高输出高电平,加入上拉元件入上拉元件MA(或或RA)。ViVoVDDMBMIMLCBVGLMA305.2.5 E/D NMOS反相器反相器1.结构和工作原理结构和工作原理V
18、iVoVDDMDMEVOH=VDD KD2(0-VTD)(VDD-VOH)-(VDD-VOH)2 =0Vi为为VOL时,时,ME截止,截止,MD非饱和非饱和MD 为为耗尽型器件耗尽型器件,VTD 0,315.2.5 E/D NMOS反相器反相器1.结构和工作原理(续)结构和工作原理(续)ViVoVDDMDMEKE2(VOH-VTE)VOL-VOL2 KD(0-VTD)2 =VOL VTD 22 R(VOH VTE)其中:其中:R=KEKD=(W/L)E(W/L)L有比电路有比电路(近似于无比电路)(近似于无比电路)Vi为为VOH时,时,ME非饱和,非饱和,MD饱和饱和325.2.5 E/D N
19、MOS反相器反相器2.单元特点单元特点(1)VOH比可达到电源电压比可达到电源电压VDD(2)VOL与与 R有关,但是有关,但是VTD是是关键的因素,关键的因素,近似于无比电路,近似于无比电路,面积小面积小。(3)上升过程由于负载管由饱和上升过程由于负载管由饱和逐渐进入非饱和,逐渐进入非饱和,tr缩短,缩短,速速度快度快。ViVoVDDMDME335.2.6 CMOS反相器反相器1.结构和工作原理结构和工作原理ViVoVDDMPMNVi为为VOL时,时,MN截止,截止,MP非饱和非饱和-Kp 2(VOL-VDD-VTP)(VOH-VDD)(VOH-VDD)2=0VOH=VDD Vi为为VOH时
20、,时,MN非饱和,非饱和,MP截止截止Kn2(VOH-VTN)VOL-VOL2=0VOL=0 无比电路无比电路MP 为为PMOS,VTP 0345.2.6 CMOS反相器反相器2.电压传输特性及器件工作状态表电压传输特性及器件工作状态表ViVoVDDMPMN截止截止非饱和非饱和VDD+VTPVi VDD饱和饱和非饱和非饱和VO+VTNVi VDD+VTP饱和饱和饱和饱和VO+VTP Vi VO+VTN非饱和非饱和饱和饱和VTN ViVO+VTP非饱和非饱和截止截止0 ViVTNP管管N管管输入电压范围输入电压范围0VOViVDDVDDVDD+VTPVTN355.2.6 CMOS反相器反相器3.
21、噪声容限噪声容限 0VOViVDDVILmaxVIHminVOHminVOLmaxSlope=-1VDDVOHminVSSVOLmaxVILmaxVIHminVNMLmaxVNMHmax(1)指定噪声容限指定噪声容限VNMmax=minVNMHmax,VNMLmax 365.2.6 CMOS反相器反相器3.噪声容限(续)噪声容限(续)(2)最大噪声容限最大噪声容限VNMH=VOH-V*=VDD-V*VNML=V*-VOL=V*Vi=VDD+VTP+VTN o1+o当当V*为为Vdd/2时,噪声容限为最大时,噪声容限为最大(Vdd/2)其中:其中:o=KNKP=N(W/L)N P(W/L)PV*
22、将随着将随着 o的变化而向相反方向变化的变化而向相反方向变化NMOS和和PMOS都饱和时有都饱和时有:记作记作V*V*VDD0VOViVDD o增大增大375.2.6 CMOS反相器反相器4.瞬态特性瞬态特性 VoVDDViMPMNCL0VotVDD0VitVDD CL为负载电容,带负为负载电容,带负载门数越多,载门数越多,连线越长,连线越长,CL越大,延迟越大。越大,延迟越大。385.2.6 CMOS反相器反相器4.瞬态特性(续瞬态特性(续1)(1)上升时间上升时间ViVoVDDMPMNCL0VotVDD90%10%tr2 VDD KP(VDD|VTP|)CL|VTP|0.1VDDVDD|V
23、TP|+1ln(19VDD 20|VTP|)=KP越大越大 tr越小越小tr=tr1+tr2 395.2.6 CMOS反相器反相器4.瞬态特性(续瞬态特性(续2)(2)下降时间下降时间ViVoVDDMPMNCL2 VDD KN(VDD VTN)CLVTN 0.1VDDVDD VTN+1ln(19VDD 20 VTN)=KN越大越大 tf越小越小0VotVDD90%10%tftf=tf1+tf2 405.2.6 CMOS反相器反相器4.瞬态特性(续瞬态特性(续3)(3)平均平均对延迟时间对延迟时间 tpd=(tpHL+tpLH)/20VitVDD50%0Vot50%tpHLVDDtpLHViVo
24、VDDMPMN415.2.6 CMOS反相器反相器5.功耗特性功耗特性ViVoVDDMPMN(1)静态功耗静态功耗PS 理想情况下静态电流为理想情况下静态电流为0,实际存在漏电流(表面漏电,实际存在漏电流(表面漏电,PN结漏电),有漏电功耗:结漏电),有漏电功耗:PS=Ios VDD CMOS电路功耗由三部分电路功耗由三部分组成:静态功耗、瞬态功耗和组成:静态功耗、瞬态功耗和节点电容充放电功耗。节点电容充放电功耗。设计时应尽量减小设计时应尽量减小PN结面积结面积 425.2.6 CMOS反相器反相器5.功耗特性(续功耗特性(续1)(2)瞬态功耗瞬态功耗Pt ViVoVDDMPMNCOCI0Vi
25、t0ITt Pt 2 1(tr+tf)ITmax VDD c 由于节点都存在寄生电由于节点都存在寄生电容,因而状态转换时输入波容,因而状态转换时输入波形有一定的斜率,使形有一定的斜率,使NMOS和和PMOS都处于导通态,存都处于导通态,存在瞬态电流,产生功耗:在瞬态电流,产生功耗:设计时应尽量减小设计时应尽量减小tr和和tf435.2.6 CMOS反相器反相器5.功耗特性(续功耗特性(续2)(3)电容充放电功耗电容充放电功耗Pc 在状态转换过程中,在状态转换过程中,结点电位的上升和下降,结点电位的上升和下降,都伴随着结点电容的充放都伴随着结点电容的充放电过程电过程,产生功耗:产生功耗:设计时应
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