IC行业特种气体简介课件.ppt
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1、IC行业特种气体简介行业特种气体简介主讲部门:华特销售部主讲部门:华特销售部主讲部门负责人:张均华主讲部门负责人:张均华主讲人:李渊主讲人:李渊IC的定义 IC即集成电路,是采用半导体制作工艺,在一块较小的单晶硅片上制作上许多晶体管及电阻器、电容器等元器件,并按照多层布线或遂道布线的方法将元器件组合成完整的电子电路。IC行业通常包括设计、制造及封装三大块。与我们气体相关主要是其制造模块,另外封装模块也涉及很少的一部分。2022-9-26特气在IC行业里面的应用电子特气广泛应用于IC行业的如下工艺:薄膜沉积;刻蚀;掺杂;钝化;清洗;或用作载气、保护气氛等等。2022-9-262022-9-26特
2、气在特气在IC体制造中的应用体制造中的应用-工艺工艺Wafer-Probe TestWafer-Probe Test(Front end or back end)(Front end or back end)AssemblyAssemblyFinal TextFinal TextShip to CustomerShip to CustomerOther Other Processing:Processing:-Ion ImplantIon Implant-DiffusionDiffusion-CMPCMPPhotolithographyPhotolithography-Resist CoatR
3、esist Coat-Bake-Bake-Exposure-ExposureEtch FilmEtch Film-Plasma-Plasma-Wet Etching-Wet EtchingDeposit Deposit or Grow Filmor Grow Film-Oxidation-Oxidation-Metallization-Metallization-CVD-CVDMaterial Preparation:Material Preparation:-Epitaxial GrowthEpitaxial Growth(Optional)(Optional)LPCVDLPCVDMetal
4、 CVDMetal CVDPECVDPECVDSACVDSACVDAPCVDAPCVDEPIEPIDry EtchDry Etch特气使用2022-9-26特气在特气在IC制造中的应用制造中的应用-原理原理 CVD Deposition:SiH4+N2(Carrier gas)+NH3 plasma&heat SixNy +H2+N2+other volatiles CVD Chamber clean NF3+SixNy plasma SiF4+N2+other volatile 掺杂掺杂:(如如 Implant/DOPOS)PH3+H2混气等混气等 刻蚀刻蚀:SiO2+CF4*SiF4+CO
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