模拟电子技术基础第3章-场效应三极管及其应用电路课件.ppt
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- 模拟 电子技术 基础 场效应 三极管 及其 应用 电路 课件
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1、共69页第1页第第3 3章章 场效应管及其放大电路场效应管及其放大电路3.1 金属-氧化物-半导体场效应管3.2 结型场效应管3.3 场效应管的主要参数 3.4 场效应管基本放大电路3.5 场效应管和双极结型晶体管及其放大电路的比较共69页第2页场效应管的历史:场效应管的历史:场效应晶体管的原理于场效应晶体管的原理于19251925年由年由JuliusEdgarJuliusEdgar和于和于19341934年由年由OskarHeilOskarHeil分别发明,但是实用的器件一直到分别发明,但是实用的器件一直到19521952年才制造出来(结型年才制造出来(结型场效应管场效应管Junction-
2、FETJunction-FET,JFETJFET)。)。19601960年年DawanKahngDawanKahng发明了金属发明了金属氧化物半导体场效应晶体管(氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-SemiconductorField-Metal-Oxide-SemiconductorField-effecttransistor,MOSFETeffecttransistor,MOSFET),从而大部分代替了),从而大部分代替了JFETJFET。场效应管的发明带来了70年代末80年代初电子技术的第二次革命,由于其体积小、耗电省、制造工艺简单,使制造高密度的CPU和存储器件的成本更加
3、低廉,因而在大规模集成电路中得到了广泛的应用,大大推动了计算机、通讯等相关技术的发展。场效应晶体管是一个三端口器件,可以和其他电路元件构成电压、电流放大电路。第第3 3章章 场效应管及其放大电路场效应管及其放大电路共69页第3页场效应管的分类:场效应管的分类:按频率分:按频率分:低频晶体管 高频晶体管 按功率分:按功率分:大功率晶体管 中功率晶体管 小功率晶体管第第3 3章章 场效应管及其放大电路场效应管及其放大电路共69页第4页N沟道沟道P沟道沟道增强型增强型耗尽型耗尽型N沟道沟道P沟道沟道N沟道沟道P沟道沟道(耗尽型)(耗尽型)FET场效应管场效应管JFET结型结型MOSFET绝缘栅型绝缘
4、栅型(IGFET)按结构分类按结构分类:第第3 3章章 场效应管及其放大电路场效应管及其放大电路共69页第5页3.1 金属金属-氧化物氧化物-半导体场效应管半导体场效应管MOSFET利用半导体表面的电场效应工作,其栅极处于不导电的绝缘状态,使输入电阻大为提高,可达1015 。分类:分类:增强型增强型Enhancement-Mode 沟道沟道(-Channel)耗尽型耗尽型Depletion-Mode耗尽型耗尽型Depletion-ModeMOSFETN沟道沟道(n-Channel)增强型增强型Enhancement-Mode耗尽型:uGS0时,存在导电沟道,iD增强型:uGS0时,不存在导电沟
5、道,iD共69页第6页主要内容:主要内容:3.1.1 N3.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOS MOS 管管3.1.2 N3.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽型MOS MOS 管管3.1 金属金属-氧化物氧化物-半导体场效应管半导体场效应管共69页第7页3.1.1 N沟道增强型MOS管1 1结构结构 N沟道增强型MOS 管电路符号中间的虚线表示UGS为0时,没有导电沟道存在。使用中,衬底和源极相连栅极栅极(漏极漏极()源极源极(共69页第8页2工作原理工作原理MOSFET利用栅源电压的大小来改变半导体表面感生电荷的多少,从而控制漏极电流的大小。1)1)uGS=0=0,漏源之间为两个背靠背的PN结
6、,若加uDS总会有一个PN结反偏,故iD=0;3.1.1 N沟道增强型MOS管共69页第9页2工作原理工作原理2)2)uGS0,uDS=0,由于uGS的作用将电子吸引到栅极下部表面,栅极下部形成电子反型层(electron inversion layer)。把开始出现反型层的uGS称为开启电压(Threshold uoltage)。则漏源之间被反型层连接起来,形成导电沟道。若加uDS,会有漏极电流iD产生。3.1.1 N沟道增强型MOS管THU共69页第10页2)uGS0,uDS=0:UGSUTH后,若 uGS提高,反型层加厚,沟道电阻减小。在一定的uDS下,iD增大,体现了uGS对iD的控制
7、作用。如下图的特性所示。3.1.1 N沟道增强型MOS管共69页第11页3)uGS和uDS同时作用 uGD=uGS-uDS,由于uDS 的加入,靠近漏极的电压uGD小于靠近源极的电压 uGS,反型层变薄,开始倾斜,并从漏区开始消失,当uDS较小时,对导电沟道影响不大,iD随uDS的增大而增大。如下图所示的起始部分,FET的漏源之间表现为一个可变电阻,即如下特性的可变电阻区。3.1.1 N沟道增强型MOS管共69页第12页3)uGS和uDS同时作用 uGD=uGS-uDS,随着uDS增大,uGD下降,当uGDUT H时,沟道在靠近漏极处出现夹断,此后uDS增大,夹断区向左延伸,uDS的增加基本降
8、落在夹断区,对iD的影响不大,iD趋于饱和,即特性曲线中的恒流区或饱和区,如下图。3.1.1 N沟道增强型MOS管共69页第13页3特性曲线特性曲线 GSDDSuconst.(u)ifDSDGSuconst.(u)if3.1.1 N沟道增强型MOS管uGD=uGS-uDS转移特性:输出特性:以共源极接法为例,包括输出特性和转移特性以共源极接法为例,包括输出特性和转移特性 共69页第14页特性曲线分为可变电阻区、线性放大区(恒流区)截至区(夹断区)(UGS0,uDS=0 3)3)uGS和和uDS同时作用同时作用 3 3特性曲线特性曲线 3.1.1 N沟道增强型MOS 管-小结2u(1)uUUGS
9、DDOGSTHTHiI共69页第16页3.1.2 N沟道耗尽型MOS管 N沟道耗尽型MOS 管在制造时,预先在SiO2绝缘层中掺入大量的正离子,即使在uGS=0时,这些正离子产生的电场已经在P型表面感应出较多的电子,形成了反型层。NNP型衬底SGD掺杂在绝缘层中的正离子N型沟道衬底引线N沟道耗尽型MOS 管电路符号中间的实线表示uGS为0时,也有导电沟道存在。共69页第17页NNP型衬底SGD掺杂在绝缘层中的正离子 N型沟道衬底引线3.1.2 N沟道耗尽型MOS管 uGS负到一定程度,即|uGS|达到一定程度时,uGS产生的电场完全抵消了正离子产生的感应电场,使反型层消失,iD为0,此时的栅源
10、电压称为夹断电压(Pinchoff Voltage),转移、输出特性曲线如图。可见N沟道耗尽型MOS 管可工作在uGS为0,为负或为正的情况下。PU共69页第18页3.1.2 N沟道耗尽型MOS管 uGS0时,作用到衬底表面的电场加强,沟道变宽,沟道电阻减小,在同样uDS下,iD增大。uGS0时,栅源电压削弱了正离子感应的电场,沟道变薄,沟道电阻增大,在同样uDS下,iD减小。NNP型衬底SGD掺杂在绝缘层中的正离子N型沟道衬底引线共69页第19页3.1.1 N3.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOS MOS 管管3.1.2 N3.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽型MOS MOS 管管3.1 金属
11、金属-氧化物氧化物-半导体场效应管半导体场效应管-小结小结共69页第20页3.2 结型场效应管结型场效应管主要内容:主要内容:3.2.1 结型场效应管的结构和工作原理结型场效应管的结构和工作原理3.2.2 结型场效应管的电压电流特性结型场效应管的电压电流特性共69页第21页 源极源极(,用用S或或s表示表示N型导电沟道型导电沟道漏极漏极(),用用D或或d表示表示 P型区型区P型区型区栅极栅极,用用G或或g表示表示栅极栅极(,用用G或或g表示表示符号符号符号符号 1结构结构 3.2.1 结型场效应管的结构和工作原理结型场效应管的结构和工作原理 3.2 结型场效应管结型场效应管共69页第22页2工
12、作原理工作原理 栅、源间加负向电压(UGS 0),使沟道中的多子-电子在电场作用下由源极向漏极运动,形成iD,iD受uGS的控制。JFET的工作的工作原理主要是原理主要是uGS对iD的控制作用以及的控制作用以及uDS 对iD的影响。的影响。3.2.1 结型场效应管的结构和工作原理结型场效应管的结构和工作原理JFET是利用G,S间反向电压对耗尽层厚度的控制,来改变导电沟道的宽度,从而控制漏极电流的大小。共69页第23页1)uGS对对iD的控制作用:的控制作用:设uDS=0,uGS从0开始负向增大,两个PN结的耗尽层加宽,使导电沟道变窄,沟道电阻增大;当uGS进一步增大到某一值 时,两侧耗尽层在中
13、间夹断,漏、源间的电阻将趋于无穷大。0GSuGSPuUGSPuU3.2.1 结型场效应管的结构和工作原理结型场效应管的结构和工作原理2工作原理工作原理 PU共69页第24页该栅源电压 ,为一负值,称为夹断电压(Pinchoff Voltage)。此时FET完全截止。可见改变栅源电压uGS,引起沟道电阻变化。若有一定的uDS,将iD随uGS得到改变,表现出uGS对iD的控制作用。3.2.1 结型场效应管的结构和工作原理结型场效应管的结构和工作原理GSPuU共69页第25页 b)当uDS增加时,一方面沟道电场强度增加,有利于 iD增大;另一方面,有了uDS,就在源极经沟道至漏极组成的N型区域中,产
14、生了一个沿沟道的电位梯度;若源极电位为零,则漏极电位为uDS,因此,在从源极到漏极的不同位置上,栅极与沟道间的电位差是不同的,离源极越远,电位差越大,加到该处的反向电压也越大,耗尽层越宽,沟道从上到下宽度不同。此时,iD 随uDS的上升而增加,iD 和uDS之间表现为一个可变电阻。如图uGS=0 曲线的起始部分。2)uDS对对iD的影响的影响设uGS=0,a)当uDS=0时,iD=0;3.2.1 结型场效应管的结构和工作原理结型场效应管的结构和工作原理共69页第26页 c)当uDS继续增加时,耗尽层在漏端首先夹断时,称为预夹断(沟道未全部夹断),此时在夹断点耗尽层两端的电压uGD数值上也为夹断
15、电压 。如特性曲线上的P点。当 uGS=0,uGD=-uDS=当 uGS0,uGD=uGS-uDS=3.2.1 结型场效应管的结构和工作原理结型场效应管的结构和工作原理PUPUPU共69页第27页 c)预夹断后,uDS 增大,夹断长度增加,夹断处电场也增大,uDS仍能将电子拉过夹断区,形成漏电流。由于此时uDS主要降在夹断区上,从源极到夹断点的沟道上的电场基本不随uDS而改变,iD趋于饱和。如图中P点以后的部分。3.2.1 结型场效应管的结构和工作原理结型场效应管的结构和工作原理共69页第28页3)当当 uGS0,即栅源间接一负电源,且在负方向增大时,对相同的uDS,会使耗尽层更宽,iD变小,
16、特性如图。uGS=0,与uGSUp 或 uGS Up时,沟道全部夹断,iD=0,称为截至区或夹断区。3.2.2 结型场效应管的电压电流特性结型场效应管的电压电流特性共69页第34页b)转移特性转移特性 FET是压控器件,栅极基本没有输入电流,故讨论uGS与iG之间的输入特性没有意义。转移特性指恒流区,当uDS一定时,uGS对 iD的控制作用.它和输出特性一样,反映了FET工作的物理过程,故可直接从输出特性上用作图法求出。如下图。DSDGSuconst(u)if 改变uDS,可得一组转移特性,当uDS大于一定值后,不同uDS对应的转移特性非常接近,这是由于在恒流区iD几乎不随uDS而变。放大电路
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