塑料第八章课件.ppt
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- 塑料 第八 课件
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1、 第第8 8章章 工模具的物理气相沉积工模具的物理气相沉积第八章第八章8.1 溅射涂层8.4 物理气相沉积技术在工模具的应用8.2 离子镀技术8.3 工模具真空涂层产业的发展8.18.1溅射涂层溅射涂层溅射涂层(镀膜)是指在真空中,利用荷能粒子轰击镀料表面,使其原子获得足够的能量而溅出表面,沉积在基片上的技术。由于各种物质(包括高熔点、低蒸气压的金属和化合物)都可发生溅射,且溅射涂层的性能好,与基材的结合力强,因此比真空蒸镀要优越得多,适于用作工模具的涂层。8.1.1 溅射涂层的原理及分类 当荷能粒子轰击固体(靶材)表面时,将发生一系列物理和化学现象,如图81所示。这些现象包括:靶材表面的原子
2、、离子或分子的发射(溅射);二次电子发射;入射离子的反射;光子和X射线的发射;气体的解吸;气体分解;溅射粒子背反射;加热;化学分解或反应;体扩散;碰撞级联;晶格损伤和注入等。这些物理或化学过程对溅射成膜都将产生不同程度的影响。这里需要指出,由于真空工作室壁、靶、基片、夹具等都带有一定的负电位,都有可能产生溅射现象,但只有以靶的溅射为主体,成为控制因素时,才能发生真正意义上的溅射成膜。基片上发生的溅射称为溅射清洗。在溅射沉积时,通过设置合理的电气参数,调整各部件相对于等离子体的电位,便可实现特定的某种工艺过程。溅射涂层有两种。一种是在真空室中,利用离子束轰击靶材表面,使溅射出的粒子在基片上成膜,
3、这称为离子束溅射。要实现离子束溅射要配置特制的离子源,这给溅射涂层的设备增加了造价,故一般只在制备特殊的膜层时才采用离子束溅射技术。在电子显微分析技术中对样品的刻蚀,也是用的这种溅射方法。另一种涂层工艺是,在真空室中利用低压气体放电现象,使处于等离子状态下的离子轰击靶面,以使溅射出的粒子在基片上发生沉积。通常把这种工艺方法称为辉光放电阴极溅射。辉光放电阴极溅射的工艺形式,从不同的角度来看,有不同的分类方法。例如,从电 极结构的角度来看,有二极溅射(Diode Sputtering)、三极溅射(Triod Sputtering)、四极溅射(等离子弧柱溅射,Plasma Arc Sputterin
4、g)、磁控溅射等方式;从电源与放电形式来看,有直流溅射(DCSputtering)、射频溅射(RFSputtering)、偏压溅射(Bias Sputtering)、溅射离子镀等种类。8.1.2 8.1.2 磁控溅射技术磁控溅射技术 图图82直流二极溅射原理图直流二极溅射原理图 图图83平面磁控溅射靶平面磁控溅射靶T作原理作原理 1一阴极靶;一阴极靶;2一氩离子;一氩离子;3一二次电子;一二次电子;4一溅射原子;一溅射原子;5一基片;一基片;6一阳极;一阳极;7一靶电源;一靶电源;8一阴极暗区;一阴极暗区;9一等离子体区。一等离子体区。8.2 8.2 离子镀技术离子镀技术8.2.1 8.2.1
5、 概述概述真空离子镀膜技术(简称离子镀,Ion Plating),属于物理气相沉积(PVD)技术领域,是在真空蒸发镀膜和溅射技术基础上发展起来的一种新的涂层技术。离子镀是在真空条件下,利用气体放电璧皇婴方支电使工作气体或被蒸发材料(靶材)部分离化,在工作气体离子或被蒸发物质的亭子轰击下,将蒸发物或其反应产物沉积在待镀工件(基片)上的过程。这是一项把气体方文电或电弧放电、等离子体技术和真空蒸发技术结合起来的镀膜技术。电弧离子镀的技术优势更大,它的优点很多:设备结构较简单,弧源既是阴极材料的蒸发源,又是离子源;离化率高,一般可达6080,沉积速率高;入射离享能量大,膜基结合力高,涂层质量好。因而应
6、用面广,实用性强,作为硬质膜涂层手段,在刀具和各种工模具上已获得重要应用,有广阔的应用前景,已发展为世界范围的一项高新技术产业。通过真空离子镀技术,在高速钢、硬质合金和其他工模具材料基体上,涂覆一层硬质涂层(一般只有几微米厚),是提高刀具、模具耐磨性、热稳定性,延长其服役寿命的有效途径之一。在硬质涂层家族中,经过多年的研发,已经出现了不少新的、品种。8.2.2 8.2.2 电弧离子镀的基本原理电弧离子镀的基本原理图图84电弧离子镀原理示意图电弧离子镀原理示意图 阴极电弧离子镀是把真空弧光放电阴极电弧离子镀是把真空弧光放电用于蒸发源的技术。由于镀膜设备用于蒸发源的技术。由于镀膜设备中通常设置有多
7、个阴极靶,把这种中通常设置有多个阴极靶,把这种技术实用化的美国技术实用化的美国MultiArc公司又公司又称其为多弧离子镀。称其为多弧离子镀。图图84是电弧离子镀的原理示意图。是电弧离子镀的原理示意图。真空室中有一个或多个作为蒸发离真空室中有一个或多个作为蒸发离化源的阴化源的阴极。蒸发离化源由蒸发材极。蒸发离化源由蒸发材料制成的阴极、磁场线圈、固定阴料制成的阴极、磁场线圈、固定阴极的座架、水冷系统、引弧电极极的座架、水冷系统、引弧电极(触触发极发极)等组成,其结构如图等组成,其结构如图85所示。所示。离子镀工作室的炉壁作为阳极离子镀工作室的炉壁作为阳极(接地接地);工作时工作时真空室压力控制在
8、真空室压力控制在 低压大电流直流电源同时与蒸发离化源和引弧电极相接。引弧电极在与阴极表面接触与离开的瞬间引燃电弧,一旦电弧被引燃,低压大电流电源将维持阴极和阳极之间弧光放电过程,其电流一般为几安至几百安,工作电压为1OV40V。真空电弧离子镀是基于冷阴极真空弧光放电理论的一种沉积技术,按照这种理论,电量的迁移主要借助于场电子发射和正离子电流,这两种机制同时存在,而且相互制约,其过程比较复杂。JEDaolder认为此过程由如下步骤组成:(1)在放电过程中,阴极材料大量蒸发和离化,所产生的部分正离子被吸引在阴极表面附件很小的范围内,形成空间电荷层,由此产生强电场,使阴极表面功函数小的点(如晶界、裂
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