太阳能电池培训课件.ppt
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1、太阳能电池培训资料太阳能电池培训资料Ape2008.12.12太阳能电池的基本原理太阳能电池的基本原理太阳能电池主要依靠P-N结的光生伏打效应来工作,而当P型半导体和N型半导体紧密结合连成一块时,P型半导体中的空穴向N型半导体的方向扩散运动,而N型半导体的电子向P型半导体的方向扩散运动,如下图所示:其中P型半导体中的空穴和N型半导体中的电子均称为多子,P型半导体中的电子和N型半导体中的空穴均称为少子,在扩散运动的同时在P型半导体和N型半导体的中央形成了一个由N区指向P区的电场称为内建电场,在内建电场的影响下.将产生孔穴向右而电子向左的飘移运动,当漂移运动和扩散运动达到平衡的时候就形成了P-N结
2、.太阳能电池的基本原理太阳能电池的基本原理如右图所示,当处于开路的情况下,当光生电流和正向电流相等的时候,P-N结两端将建立起稳定的电势差Voc(P区为正,N区为负),如果与外电路接通,只要光生电流不停止,就会有源源不断的电流通过电路,P-N结起到了一个电源的作用.这就是太阳能电池的工作原理。太阳能电池的基本性质太阳能电池的基本性质光电转换效率%评估太阳能电池好坏的重要因素。=(1000*Isc*Uoc*FF)/S。目前:实验室24%,产业化15%。单体电池电压U:0.4-0.6V由材料本身的掺杂程度来决定。填充因子FF%:评估太阳能电池负载能力的重要因素。FF=(Im*Um)/(Isc*Uo
3、c)其中:Isc-短路电流,Uoc-开路电压,Im-最佳工作电流,Um-最佳工作电压。标准光强与环境温度:地面光强AM1.5,1000W/m2,t=25。温度对电池片性能的影响:功率会随着温度的升高而降低。例如:在标准状况下,AM1.5光强,t=25,某电池片的输出功率为2.43W,如果电池片温度升高至45 时,电池片的输出功率将小于2.43W。晶体硅太阳能电池生产的工艺流程晶体硅太阳能电池生产的工艺流程Texturing制绒Diffusion扩散Edge etch去边结Anti-reflective coating制做减反射膜Printing&sintering制作上下电极及烧结Cell t
4、esting&sorting 电池片测试分选Solar Cell Manufacturing电池的生产工艺流程电池的生产工艺流程Cleaning process去PSG硅片表面化学腐蚀处理硅片表面化学腐蚀处理-制绒制绒目的目的:去除硅片表面的杂质残留,制做能够减少表面太阳光反射的陷光结构。原理原理:单晶:晶:利用单晶硅的各向异性,采用化腐工艺在硅片上制作的绒面,以减少入射光反射、提高短路电流和转换效率。采用两步法制作绒面,先用高浓度碱液、较高温度下进行短时间“粗抛”,再在低浓度、低温度下进行长时间“细腐”。此法所制绒面,在晶相显微镜下观察,小金字塔排列规则、整齐、均匀,可使入射光的反射损失降低
5、近10。2NaOH+H2O+Si Na2SiO3+2H2 多晶:多晶:利用硝酸的强氧化性和氢氟酸的络合性,对硅进行氧化和络合剥离,导致硅表面发生各向同性非均匀性腐蚀,从而形成 类似“凹陷坑”状的绒面。Si+HNO3 SiO2+NOx +H2O SiO2+6HF H2SiF6+2H2O 绒面微观图绒面微观图硅片表面化学腐蚀处理(一次清洗)硅片表面化学腐蚀处理(一次清洗)1000X电子扫描镜电子扫描镜-单晶单晶5000X电子扫描镜电子扫描镜-多晶多晶制制PNPN结(扩散)结(扩散)目的:目的:在P型硅表面上渗透入很薄的一层磷,使前表面变成N型,使 之成为一个PN结。POCl3在高温下(600)分解
6、生成五氯化磷(PCl5)和五氧化二磷(P2O5),其反应式如下:生成的P2O5在扩散温度下与硅反应,生成二氧化硅(SiO2)和磷原 子,其反应式如下:由上面反应式可以看出,POCl3热分解时,如果没有外来的氧(O2)参与其分解是不充分的,生成的PCl5是不易分解的,并且对硅有腐蚀作用,破坏硅片的表面状态。但在有外来O2存在的情况下,PCl5会进一步分解成P2O5并放出氯气(Cl2)其反应式如下:5253OP3PClC6005POCl 扩散原理:扩散原理:4P5SiO5SiO2P2522522510ClO2P2过量O5O4PCl制制PNPN结(扩散)结(扩散)扩散原理:扩散原理:生成的P2O5又
7、进一步与硅作用,生成SiO2和磷原子,由此可见,在磷扩散时,为了促使POCl3充分的分解和避免PCl5对硅片表面的腐蚀作用,必须在通氮气的同时通入一定流量的氧气。在有氧气的存在时,POCl3热分解的反应式为:POCL3+5O2 2P2O5+6CL2POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面,P2O5与硅反应生成SiO2和磷原子,并在硅片表面形成一层磷-硅玻璃,然后磷原子再向硅中进行扩散。POCl3液态源扩散方法具有生产效率较高,得到PN结均匀、平整和扩散层表面良好等优点,这对于制作具有大面积结的太阳电池是非常重要的。载气小 N2POCL3O2+大 N2石英管扩散装置示意图制制PNPN结(扩散)
8、结(扩散)扩散原理:扩散原理:PSG除去硅磷气体反应淀积O2硅氧化POCl3 O2SiO2SiO2杂质再分布去边结去边结-刻蚀刻蚀目的目的:去除硅片边缘的去除硅片边缘的N N型区域,将硅片内部的型区域,将硅片内部的N N层和层和P P层隔离开,以达到层隔离开,以达到 PN PN结的结构要求。结的结构要求。原理原理:干法刻蚀(等离子刻蚀):干法刻蚀(等离子刻蚀):等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应,使反应气体激活等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应,使反应气体激活成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位,在那里与被刻蚀材料进行成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀的
9、部位,在那里与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性生成物而被去除。它的优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形反应,形成挥发性生成物而被去除。它的优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形貌貌 。(这是各向同性反应)。(这是各向同性反应)母体分子母体分子CFCF4 4在高能量的电子的碰撞作用下分解成多种中性基团或离子。在高能量的电子的碰撞作用下分解成多种中性基团或离子。这些活性粒子由于扩散或者在电场作用下到达这些活性粒子由于扩散或者在电场作用下到达SiOSiO2 2表面,并在表面上发生化学反应。表面,并在表面上发生化学反应。生产过程中,生产过程中,CFCF4 4中掺入中掺入O O2 2,这样有
10、利于提高,这样有利于提高SiSi和和SiOSiO2 2的刻蚀速率。的刻蚀速率。湿法刻蚀(背腐蚀):湿法刻蚀(背腐蚀):利用利用HF-HNO3HF-HNO3溶液,对硅片背表面和边缘进行高速腐蚀,以达到溶液,对硅片背表面和边缘进行高速腐蚀,以达到 去掉边缘层和消除背面绒面的作用。去掉边缘层和消除背面绒面的作用。Si+HNO3 SiO2+NOx +H2O Si+HNO3 SiO2+NOx +H2O SiO2+6HF H2SiF6+2H2O SiO2+6HF H2SiF6+2H2O以及以及它们的离子它们的离子CF,CF,CF,CFCF23e4去边结去边结-刻蚀刻蚀去去PSGPSG清洗清洗 目的目的:去
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