第六章无机材料的电导课件.ppt
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1、第六章 无机材料电导第一节 电导物理现象第二节 离子电导第三节 电子电导第四节 无机材料电导 第五节 电导应用陶瓷分类陶瓷分类n传统陶瓷:传统陶瓷:n精细陶瓷:精细陶瓷:n结构陶瓷:以高温、高强、超硬、耐磨、抗结构陶瓷:以高温、高强、超硬、耐磨、抗腐等机械力学性能为主要特征。腐等机械力学性能为主要特征。n功能陶瓷:以电、磁、光、声、热、力学等功能陶瓷:以电、磁、光、声、热、力学等性能及其相互转换为主要特征。性能及其相互转换为主要特征。n电学功能陶瓷:绝缘陶瓷、介电陶瓷、电学功能陶瓷:绝缘陶瓷、介电陶瓷、压电压电陶瓷、铁电陶瓷、半导陶瓷、导电陶瓷、超陶瓷、铁电陶瓷、半导陶瓷、导电陶瓷、超导陶瓷等
2、。导陶瓷等。第一节 电导物理现象n一、电导宏观参数、电导宏观参数n1、电导率和电阻率电导率和电阻率RVI RLESJ EESRLJ11、电导率和电阻率n n 为材料电阻率。单位为材料电阻率。单位:欧姆欧姆厘米厘米(cm)n 定义为材料电导率定义为材料电导率,单位欧单位欧姆姆-1厘米厘米-1(-1 cm-1)RLS1材料材料电导率排序(-1 cm-1)n 导体导体银、铜、金、铝、镁、镍、铁银、铜、金、铝、镁、镍、铁105铂、钯、锡、钽、铬、铅、锌铂、钯、锡、钽、铬、铅、锌104铋铋102半导体半导体SiC、锗、锗10-1硅,反式聚炔硅,反式聚炔10-4硼硼10-5绝缘体绝缘体钠钙玻璃钠钙玻璃10
3、-8烧结石英烧结石英、白磷、白磷10-12聚乙烯、聚四氟乙烯聚乙烯、聚四氟乙烯10-18一些材料电导率尼龙尼龙10-12-10-15ReO3(氧化铼氧化铼)5.0105铬铬7.8104CrO23.3104铁铁1.0105Fe3O41.0102银银6.3105Si1.010-4铜铜6.0105SiO210-14金金4.3105SiC1.010-1铝铝3.8105Al2O3N1,但B2exp(-B1),说明杂质电导率比本征电导率大得多。离子晶体电导主要为杂质电导离子电导率n如果物质存在多种载流子,其中电导率如果物质存在多种载流子,其中电导率可表示为:可表示为:iiiTBA)exp(扩散与离子电导n
4、离子电导是在电场作用下离子扩散离子电导是在电场作用下离子扩散现象。主要有三种扩散机构:现象。主要有三种扩散机构:n空位扩散空位扩散n间歇扩散间歇扩散n亚晶格间歇扩散亚晶格间歇扩散在材料内部存在载流子浓度梯度在材料内部存在载流子浓度梯度 ,由此形成电流密度为:由此形成电流密度为:外加电场电流密度为:外加电场电流密度为:xnxnDqJ1xVJ2xVxnDqJtn在热平衡状态下,总电流为零在热平衡状态下,总电流为零。)exp(0kTqVnnxVkTqnxnxVxnDqJt能斯托-爱因斯坦方程n建立离子电导率与扩散系数关系。建立离子电导率与扩散系数关系。n由电导率公式:由电导率公式:=nq建立扩散系数
5、建立扩散系数D和离子迁移率和离子迁移率关系关系:n扩散系数随温度变化规律为扩散系数随温度变化规律为:kTnqD2BkTkTqD)exp(0kTWDD影响离子电导因素n1、温度:温度升高,电导按指数规律温度:温度升高,电导按指数规律增加。增加。晶体结构n关键点:活化能大小关键点:活化能大小决定于晶体间决定于晶体间各粒子结合力。而晶体结合力受如下因各粒子结合力。而晶体结合力受如下因素影响素影响na)离子半径:离子半径小,结合力大,离子半径:离子半径小,结合力大,活化能也大;活化能也大;nb)离子电荷,电价高,结合力大,活化离子电荷,电价高,结合力大,活化能大;能大;nc)堆积程度,结合紧密,可供移
6、动离子堆积程度,结合紧密,可供移动离子数目就少,移动困难,导致较低电导率。数目就少,移动困难,导致较低电导率。晶格缺陷n只有离子晶体才能成为固体电解只有离子晶体才能成为固体电解质,共价键晶体和分子晶体都不质,共价键晶体和分子晶体都不能成为固体电解质。能成为固体电解质。n离子晶体成为电解质条件离子晶体成为电解质条件1、电子载流子浓度小、电子载流子浓度小2、离子晶格缺陷浓度大并参与导电。、离子晶格缺陷浓度大并参与导电。离子性晶格缺陷生成及浓度大小离子性晶格缺陷生成及浓度大小是决定离子电导关键是决定离子电导关键。影响晶格缺陷生成和浓度主要原因1、热激励生成晶格缺陷热激励生成晶格缺陷(肖特基与弗肖特基
7、与弗仑克尔缺陷仑克尔缺陷)2、不等价固溶体掺杂形成晶格缺陷、不等价固溶体掺杂形成晶格缺陷3、离子晶体中正负离子计量比随气、离子晶体中正负离子计量比随气氛变化发生偏离,形成非化学计氛变化发生偏离,形成非化学计量比化合物。量比化合物。第三节 电子电导n导电前提:外界能量导电前提:外界能量(热、辐射热、辐射)、价带、价带中电子获得能量跃迁到导带中去。中电子获得能量跃迁到导带中去。n导电机制:电子或空穴(电子空穴)导电机制:电子或空穴(电子空穴)n存在地:导体、半导体存在地:导体、半导体n理论描述:量子力学理论理论描述:量子力学理论n具严格周期性电场理想晶体中电子和空具严格周期性电场理想晶体中电子和空
8、穴,绝对零度下运动象理想气体分子在穴,绝对零度下运动象理想气体分子在真空中运动一样,电子运动时不受阻力,真空中运动一样,电子运动时不受阻力,迁移率为无限大。迁移率为无限大。第三节 电子电导n实际情况:电场周期受到晶格热振实际情况:电场周期受到晶格热振动、杂质引入、位错和裂缝破坏。动、杂质引入、位错和裂缝破坏。n在电子电导实际材料中,电子与点在电子电导实际材料中,电子与点阵非弹性碰撞引起电子波散射是电阵非弹性碰撞引起电子波散射是电子运动受阻原因之一。子运动受阻原因之一。n载流子迁移率和浓度是重要决定因载流子迁移率和浓度是重要决定因素。素。一、电子迁移率-经典力学模型描述n金属中自由电子运动。金属
9、中自由电子运动。n1、在外电场、在外电场E作用下,金属中自由电子作用下,金属中自由电子被加速,其加速度为:被加速,其加速度为:a=eE/men2、电子和声子、杂质、缺陷相碰撞而、电子和声子、杂质、缺陷相碰撞而散射,从而失去前进方向上速度矢量。散射,从而失去前进方向上速度矢量。(金属有电阻原因)(金属有电阻原因)n3、发生碰撞瞬间,电子在前进方向上、发生碰撞瞬间,电子在前进方向上平均迁移速度为平均迁移速度为0,由于电场作用,电,由于电场作用,电子被加速,获得定向速度。子被加速,获得定向速度。n设两次碰撞之间平均时间为设两次碰撞之间平均时间为2(松弛时松弛时间间),电子平均速度为,电子平均速度为n
10、v=eE/men电子迁移率电子迁移率=e/me,单位:,单位:cm2/(s.V)n与晶格缺陷和温度有关,温度越高,与晶格缺陷和温度有关,温度越高,晶格缺陷越多,电子散射率越大,晶格缺陷越多,电子散射率越大,越越小。小。量子力学理论描述n实际晶体中电子是不自由的。对半导体实际晶体中电子是不自由的。对半导体和绝缘体电子能态,必须用量子力学理和绝缘体电子能态,必须用量子力学理论来描述。在量子力学理论中,计入晶论来描述。在量子力学理论中,计入晶格场对电子作用,得到一个有效质量表格场对电子作用,得到一个有效质量表达式:达式:n有效质量可正可负有效质量可正可负(h-普朗克常数普朗克常数)12222*4dk
11、Edhmn得到自由电子迁移率:得到自由电子迁移率:nm*决定于晶格决定于晶格n对导体:对导体:m*men对氧化物:对氧化物:m*=(2-10)men对碱式盐:对碱式盐:m*=0.5me*/men电子和空穴有效质量大小是由半导体材电子和空穴有效质量大小是由半导体材料性质决定。料性质决定。n不同材料半导体,电子和空穴有效质量不同材料半导体,电子和空穴有效质量不同。不同。n平均自由运动时间长短是由载流子散射平均自由运动时间长短是由载流子散射强弱决定。强弱决定。n散射越弱,越长,迁移率越高。掺杂浓散射越弱,越长,迁移率越高。掺杂浓度和温度对迁移率影响,本质上是对载度和温度对迁移率影响,本质上是对载流子
12、散射强弱影响。流子散射强弱影响。散射作用产生原因n1、晶格散射晶格散射n由于晶格振动产生散射叫晶格散由于晶格振动产生散射叫晶格散射。射。n温度越高,晶格振动越强,对载温度越高,晶格振动越强,对载流子晶格散射也越强。流子晶格散射也越强。n在低掺杂半导体中,迁移率随温在低掺杂半导体中,迁移率随温度升高而大幅度下降。度升高而大幅度下降。散射作用产生原因n2、电离杂质散射、电离杂质散射n电离杂质产生带电中心对载流子有吸引电离杂质产生带电中心对载流子有吸引或排斥作用,当载流子经过带电中心附或排斥作用,当载流子经过带电中心附近,就会发生散射。近,就会发生散射。n电离杂质散射影响与掺杂浓度有关。掺电离杂质散
13、射影响与掺杂浓度有关。掺杂越多,载流子和电离杂质相遇而散射杂越多,载流子和电离杂质相遇而散射机会就越多。机会就越多。n电离杂质散射强弱和温度有关。温度越电离杂质散射强弱和温度有关。温度越高,载流子运动速度越大,对同样吸引高,载流子运动速度越大,对同样吸引和排除作用所受影响越小,散射作用越和排除作用所受影响越小,散射作用越弱。在高掺杂半导体中,迁移率随温度弱。在高掺杂半导体中,迁移率随温度变化较小。变化较小。二、载流子浓度n晶格只有导带中电子或价带中空穴才参晶格只有导带中电子或价带中空穴才参与导电与导电。材料能带结构本征半导体中载流子浓度n半导体在外界作用下,价带中电子获得半导体在外界作用下,价
14、带中电子获得能量,跃迁到导带。导带中出现导电电能量,跃迁到导带。导带中出现导电电子,在价带中留下空位(空穴)。子,在价带中留下空位(空穴)。n在外电场作用下,价带中电子逆电场方在外电场作用下,价带中电子逆电场方向运动到空位,本身产生新空位,相当向运动到空位,本身产生新空位,相当于空位顺电场方向运动。空穴导电于空位顺电场方向运动。空穴导电n这类载流子由半导体晶体本身提供半导这类载流子由半导体晶体本身提供半导体叫体叫本征半导体本征半导体。n本征半导体载流子由热激发产生,其浓本征半导体载流子由热激发产生,其浓度与温度成指数关系。度与温度成指数关系。本征半导体能带结构n根据费米统计理论,可以计算出导带
15、中根据费米统计理论,可以计算出导带中电子浓度以及价带中空穴浓度。浓度单电子浓度以及价带中空穴浓度。浓度单位(位(1/cm3))2/exp(kTENnnghe43232*)*()/2(2hemmhkTN杂质半导体中载流子浓度n(1)杂质对半导体导电性能影响)杂质对半导体导电性能影响极大极大。在硅。在硅单晶中掺入十万分之一硼,可提高导电性能单晶中掺入十万分之一硼,可提高导电性能一千倍。一千倍。n(2)杂质半导体分)杂质半导体分n型半导体和型半导体和p型半导体。型半导体。nn型半导体:掺入杂质价态比基质价态高,取型半导体:掺入杂质价态比基质价态高,取代后多出一个电子,这种多余电子杂质能级代后多出一个
16、电子,这种多余电子杂质能级称为称为施主能级施主能级。这类掺入施主杂质半导体叫。这类掺入施主杂质半导体叫n型半导体型半导体。np型半导体;掺入杂质价态比基质价态低,取型半导体;掺入杂质价态比基质价态低,取代后出现一个空穴能级。此杂质能级叫代后出现一个空穴能级。此杂质能级叫受主受主能级能级,这类掺入受主杂质半导体叫,这类掺入受主杂质半导体叫p型半导体型半导体。SiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiPSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiSiP+-替
17、位式杂质替位式杂质间隙式杂质间隙式杂质多余价电子多余价电子正电中心磷离子正电中心磷离子P+1.硅晶体中杂质能级硅晶体中杂质能级(1)施主杂质施主杂质 施主能级施主能级nn型半导体载流子主要是导带中电子,型半导体载流子主要是导带中电子,导带中电子全部由施主能级提供。导带中电子全部由施主能级提供。nNC、ND分别为导带原子和施主原子数,分别为导带原子和施主原子数,EC,ED分别是导带和施主的能级分别是导带和施主的能级2/)(exp)(21kTEENNnDcDcenp型半导体载流子主要是空穴型半导体载流子主要是空穴nNV、NA分别为价带和受主杂质浓度。分别为价带和受主杂质浓度。Ei为电离能,为电离能
18、,Ei=EA-EV。2/exp)(21kTENNniAvh三、电子电导率n在电子电导中,载流子电子、空穴浓度、在电子电导中,载流子电子、空穴浓度、迁移率常不一样,计算时应分别考虑。迁移率常不一样,计算时应分别考虑。n对本征半导体,其电导率为对本征半导体,其电导率为eNeenenhekTEhheeg)(2/电子电导率n对对n型半导体型半导体n第一项与杂质浓度无关。第二项与杂质第一项与杂质浓度无关。第二项与杂质浓度钕有关,低温时,第二项起主要作浓度钕有关,低温时,第二项起主要作用;高温时,第一项起主要作用用;高温时,第一项起主要作用。ekTENNekTENeiDcheg)2/exp()()(2/e
19、xp(2/1电子电导率n本征半导体或高温时杂质半导体电导率本征半导体或高温时杂质半导体电导率与温度关系为:与温度关系为:n=0 exp(-Eg/2kT)(ln与与1/T呈直线关呈直线关系系)n=0 exp(Eg/2kT)(ln与与1/T也呈直线也呈直线关系关系)n对于对于P型半导体型半导体)2/exp()()(2/exp(2/1kTENNekTENiAvheg电导率与温度关系典型曲线na.具线性特征,表示该温度区间具有始终如一电具线性特征,表示该温度区间具有始终如一电子跃迁机构。子跃迁机构。nb表示低温区主要是杂质电导,高温是本征电导表示低温区主要是杂质电导,高温是本征电导nc 表示在同一种晶
20、体中同时存在两种杂质时电导表示在同一种晶体中同时存在两种杂质时电导特性特性。影响电子电导因素n1、温度对电子电导影响、温度对电子电导影响n温度变化不大时,电导率与温度关系温度变化不大时,电导率与温度关系符合指数式。符合指数式。n在低温下杂质离子散射起主要作用,在低温下杂质离子散射起主要作用,高温下,声子散射起主要作用。实际高温下,声子散射起主要作用。实际材料中,材料中,ln与与1/T关系曲线是非线性。关系曲线是非线性。杂质及缺陷影响n杂质缺陷杂质缺陷n杂质对半导体性能影响是由于杂质离杂质对半导体性能影响是由于杂质离子(原子)引起新局部能级。子(原子)引起新局部能级。n价控半导体是通过杂质引入,
21、导致主价控半导体是通过杂质引入,导致主要成分中离子电价变化,从而出现新要成分中离子电价变化,从而出现新局部能级。局部能级。n可以通过改变杂质组成,获得不同电可以通过改变杂质组成,获得不同电性能。性能。组分缺陷n组分缺陷:非化学计量配比化合物组分缺陷:非化学计量配比化合物中,由于晶体化学组成偏离,形成中,由于晶体化学组成偏离,形成离子空穴或间歇离子等晶格缺陷。离子空穴或间歇离子等晶格缺陷。n阳离子空位阳离子空位n阴离子空位阴离子空位n间隙离子间隙离子阳离子空位n在在MX型金属化合物中,型金属化合物中,M与与X价态相同,当价态相同,当X过剩时,为保持电中性条件,一部分阳离子过剩时,为保持电中性条件
22、,一部分阳离子升高一个电价,相当于原来阳离子俘获一个升高一个电价,相当于原来阳离子俘获一个空穴,形成弱束缚。通过热激活,易放出空空穴,形成弱束缚。通过热激活,易放出空穴而参与电导,成为穴而参与电导,成为P型半导体。型半导体。n 其浓度与氧分压其浓度与氧分压1/6成正比。成正比。n 阳离子空位是一个负电中心,其能级距价带阳离子空位是一个负电中心,其能级距价带顶部很近,价带中电子容易吸收外来能量跃顶部很近,价带中电子容易吸收外来能量跃迁到改能级。迁到改能级。n吸收能量对应于一定可见光波长,使晶体具吸收能量对应于一定可见光波长,使晶体具有特殊颜色。这种空穴又叫有特殊颜色。这种空穴又叫V心,为色心心,
23、为色心。阴离子空位n TiO2等金属氧化物,在还原气氛中焙等金属氧化物,在还原气氛中焙烧时,还原气氛夺取其中部分氧,在晶烧时,还原气氛夺取其中部分氧,在晶格中产生氧空位。格中产生氧空位。n 氧离子空位相当于一个带正电荷中心,氧离子空位相当于一个带正电荷中心,能束缚电子。该电子能级距导带很近,能束缚电子。该电子能级距导带很近,容易吸收能量跃迁到导带中,具有导电容易吸收能量跃迁到导带中,具有导电能力,形成能力,形成n型半导体。型半导体。n 吸收可见光同样使晶体具有特殊颜吸收可见光同样使晶体具有特殊颜色。色。F心(色心)。心(色心)。间歇离子 由金属氧化物中金属离子过剩形由金属氧化物中金属离子过剩形
24、成间隙离子缺陷。成间隙离子缺陷。在能带间隙内,形成施主中心,其在能带间隙内,形成施主中心,其能级距导带低部很近,容易吸收能级距导带低部很近,容易吸收能量而电离,电子跃迁到导带,能量而电离,电子跃迁到导带,参与导电,形成参与导电,形成n型半导体。型半导体。第四节 玻璃态电导n在含碱金属离子玻璃中,基本上表现在含碱金属离子玻璃中,基本上表现为离子电导。为离子电导。n玻璃体结构比晶体疏松,碱金属离子玻璃体结构比晶体疏松,碱金属离子能够穿过大于其原子大小距离而迁移,能够穿过大于其原子大小距离而迁移,同时克服一些位垒。玻璃体与晶体不同时克服一些位垒。玻璃体与晶体不同是,碱金属离子能阱不是单一数值,同是,
25、碱金属离子能阱不是单一数值,而是有高有低,这些位垒体积平均值而是有高有低,这些位垒体积平均值就是载流子活化能。就是载流子活化能。玻璃态电导n纯净玻璃电导较小,含少量碱金属离子会使纯净玻璃电导较小,含少量碱金属离子会使电导增加。由于玻璃结构松散,碱金属离子电导增加。由于玻璃结构松散,碱金属离子不能与两个氧原子联系以延长点阵网络,造不能与两个氧原子联系以延长点阵网络,造成弱联系离子,电导增加。在玻璃体中,电成弱联系离子,电导增加。在玻璃体中,电导率导率与碱金属含量间关系,注意三种现象:与碱金属含量间关系,注意三种现象:ni)碱金属含量不大,碱金属含量不大,与碱金属含量呈直线关与碱金属含量呈直线关系
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