高功率光纤激光器研究现状分析课件.ppt
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1、高功率光纤激光器研究现状分析高功率光纤激光器研究现状分析内容目录内容目录123主要技术路线主要技术路线 最新研究进展最新研究进展目前面临困难目前面临困难高损伤阈值高损伤阈值优良导热率优良导热率全玻璃光纤全玻璃光纤短光纤短光纤高泵浦吸收率高泵浦吸收率高数值孔径高数值孔径高功率光纤激光器要求高功率光纤激光器要求高非线性阈值高非线性阈值高功率激光高功率激光大模场光纤大模场光纤大模场光纤大模场光纤包层小包层小大模场激光光纤的研究大模场激光光纤的研究研究目标研究目标增大模场面积增大模场面积 提高光束质量提高光束质量提升输出功率提升输出功率增加稳定特性增加稳定特性致力于大模场光纤的主要研究机构致力于大模场
2、光纤的主要研究机构l美国能源部美国能源部Sandia国家实验室国家实验室l美国美国Aculight 公司公司l美国美国OFS实验室实验室l美国罗切斯特大学美国罗切斯特大学(University of Rochester)l美国密执安大学美国密执安大学(University of Michian)l德国耶拿大学德国耶拿大学(University of Jena)l德国德国IPG光子公司光子公司l英国南安普敦大学英国南安普敦大学(University of Southampton)l芬兰芬兰Liekki公司公司l日本北海道大学日本北海道大学(Hokkaido University)研究的总体思路研
3、究的总体思路 立足于光纤的结构设计,通过改变纤芯立足于光纤的结构设计,通过改变纤芯或包层的折射率分布,降低等效折射率差,或包层的折射率分布,降低等效折射率差,并改进纤芯的掺杂分布,突出基模的增益优并改进纤芯的掺杂分布,突出基模的增益优势,达到增大模场面积、抑制高阶模的目的,势,达到增大模场面积、抑制高阶模的目的,同时借助于外部的选模方式、模式转换等机同时借助于外部的选模方式、模式转换等机制,有效滤除高阶模,实现单模输出,并确制,有效滤除高阶模,实现单模输出,并确保系统稳定工作。保系统稳定工作。1. 1. 主要技术路线主要技术路线模式选择控制多模光纤弯曲选模泄漏选模模式转换法基模光纤高阶模光纤基
4、模光纤多模光纤输出单模光纤结构设计多模光纤复合导引光纤光子晶体光纤单模光纤大模面积大模面积 基模 1.11.1 光纤的结构设计光纤的结构设计包层折射率变化包层折射率变化纤芯折射率变化纤芯折射率变化折射率和掺杂分布变化折射率和掺杂分布变化光子晶体结构光子晶体结构结构可精确调整,结构可精确调整,具有特殊性质具有特殊性质1.1 1.1 光纤的结构设计光纤的结构设计v 几种纤芯的折射率分布几种纤芯的折射率分布混合折射率分布混合折射率分布 maxpcorern rnnR 平坦模分布平坦模分布锥形分布锥形分布二次曲线分布二次曲线分布 阶跃分布阶跃分布1.1 1.1 光纤的结构设计光纤的结构设计l 高折射率
5、区分布偏离轴心,有利于增加模场面积,但高折射率区分布偏离轴心,有利于增加模场面积,但模场的约束能力下降,弯曲引起的畸变严重;模场的约束能力下降,弯曲引起的畸变严重;l 高折射率区越趋向中心,模场的抗弯性加强,弯曲高折射率区越趋向中心,模场的抗弯性加强,弯曲畸变少,但模面积偏小。畸变少,但模面积偏小。 锥形分布锥形分布二次曲线分布二次曲线分布平坦模分布平坦模分布v 纤芯的折射率分布影响模场特性纤芯的折射率分布影响模场特性四层泄漏形分布四层泄漏形分布1.1 1.1 光纤的结构设计光纤的结构设计-50-40-30-20-100102030405000.10.20.30.40.50.60.70.80.
6、91Radial Position (um)Normalized IntensityMode Intensity Profiles for Different Fibers (Unbend) FMSIFCFPF-50-40-30-20-10010203040505000.10.20.30.40.50.60.70.80.91Radial Position (um)Normalized IntensityMode Intensity Profiles for Different Fibers (Bend) FMSIFCFPF横截面折射率分布横截面折射率分布不弯曲时模面积不弯曲时模面积 (um2)
7、弯曲后模面积弯曲后模面积 (um2)压缩率压缩率 平坦模分布(平坦模分布(FM)26455175.12 阶跃分布(阶跃分布(SIF)11425422.11 锥形分布锥形分布 (CF)6176001.03 二次曲线分布二次曲线分布 (PF)4014001.00模面积变化(模面积变化(d50um)v 同参数下,不同折射率分布相应的模场弯曲变化同参数下,不同折射率分布相应的模场弯曲变化1.1 1.1 光纤的结构设计光纤的结构设计权衡各因素的影响权衡各因素的影响混合型折射率分布混合型折射率分布v 几种纤芯的折射率分布对模场性能的影响几种纤芯的折射率分布对模场性能的影响1.11.1 光纤的结构设计光纤的
8、结构设计三包层结构三包层结构耦合泄漏结构耦合泄漏结构光子晶体结构光子晶体结构v 包层折射率变化包层折射率变化泄漏结构泄漏结构1.11.1 光纤的结构设计光纤的结构设计要实现低折射率差,要要实现低折射率差,要求求d/很小,孔容易坍很小,孔容易坍塌,纤芯掺细丝,降低塌,纤芯掺细丝,降低纤芯折射率纤芯折射率v 纤芯、包层折射率都变化纤芯、包层折射率都变化1.11.1 光纤的结构设计光纤的结构设计抑制型三包层结构抑制型三包层结构复合结构复合结构v 折射率和掺杂分布变化折射率和掺杂分布变化1.11.1 光纤的结构设计光纤的结构设计v光纤结构的确定需权衡光纤结构的确定需权衡5 5个因素的影响个因素的影响l
9、 大大基模场面积基模场面积l 弯曲模场的畸变程度弯曲模场的畸变程度l 工作敏感性工作敏感性l 高低阶模的损耗差高低阶模的损耗差l 折射率差在可加工范围内折射率差在可加工范围内1.11.1 光纤的结构设计光纤的结构设计v 光子晶体光纤光子晶体光纤l调整空气孔间距、大小、填充率等参数,获得低损耗大模光纤调整空气孔间距、大小、填充率等参数,获得低损耗大模光纤Aeff = 1417um2 =20um, d /=0.451, d1 /=0.95, d2 /=0.51, 高阶模约束损耗高阶模约束损耗 1dB/m, 弯曲半径:弯曲半径: R=5cm1.21.2 模式选择控制模式选择控制v 弯曲选模弯曲选模l
10、光纤激光器往往在弯曲情况下使用,最简单、最常用的选模方式光纤激光器往往在弯曲情况下使用,最简单、最常用的选模方式是弯曲损耗选模;是弯曲损耗选模; l光纤弯曲后,导模变为泄漏模甚至辐射模,发生沿弯曲半径方向光纤弯曲后,导模变为泄漏模甚至辐射模,发生沿弯曲半径方向的能量辐射的能量辐射, , 引起高低阶模不同程度的弯曲损耗;引起高低阶模不同程度的弯曲损耗; l光纤芯径比较小时,选模效果明显;光纤芯径比较小时,选模效果明显;弯曲损耗曲线弯曲损耗曲线 d30um, NA0.0500.20.40.60.8100.20.40.60.811.21.41.61.82 LP01LP02LP11LP12耦合系数耦合
11、系数 ( dB/m )弯曲时半径弯曲时半径 ( m )1.21.2 模式选择控制模式选择控制v 增益导引增益导引l激光光纤中的模式由折射率差和增益分布共同作用决定;激光光纤中的模式由折射率差和增益分布共同作用决定;l传统激光光纤增益作用微乎其微,而大模场光纤,折射率差小到传统激光光纤增益作用微乎其微,而大模场光纤,折射率差小到103104, , 增益增益0.11/cm,增益导引与折射率导引共同作用。,增益导引与折射率导引共同作用。 220/222 nnjgdVnnjgNjG 1.21.2 模式选择控制模式选择控制v 增益导引增益导引l增益影响模场分布增益影响模场分布无增益无增益 : 5194
12、um2有增益:有增益:3868 um21.21.2 模式选择控制模式选择控制v 增益导引增益导引l增益分布与模式竞争能力增益分布与模式竞争能力li(z) 模式与增益的重叠因子;lg0 小信号增益系数;lPi(z) 第i个模式的功率;li(r,) 模式场分布;lI0(r,z) 基模的饱和光强 0000, ,iiiggrzgz f rdP zz gz P zdz 20,1, ,/iisatf rrzrdrdIrzI 1.21.2 模式选择控制模式选择控制v 增益导引增益导引l增益分布与模式竞争能力增益分布与模式竞争能力l低饱和时,低饱和时, LP01的增益最大,饱和加深,的增益最大,饱和加深, 高
13、阶模获得的增高阶模获得的增益超过基模益超过基模LP31模的增益是模的增益是基模的基模的2.5倍倍高阶模相对填充因子与光强的关系高阶模相对填充因子与光强的关系NA=0.05, d=50um, =11.21.2 模式选择控制模式选择控制v 增益导引增益导引l增益分布与模式竞争能力增益分布与模式竞争能力50um芯径芯径100um芯径芯径阶跃光纤在不同掺杂下的相对增益系数与光强的关系阶跃光纤在不同掺杂下的相对增益系数与光强的关系60的填充最佳的填充最佳1.21.2 模式选择控制模式选择控制v 增益导引增益导引l增益分布与模式竞争能力增益分布与模式竞争能力不同掺杂下的功率分配不同掺杂下的功率分配1.31
14、.3 模式转换模式转换v 通过模式耦合,实现转换通过模式耦合,实现转换l模场主要以面积较大的高阶模形式存在,模面积达到模场主要以面积较大的高阶模形式存在,模面积达到2100 um2100 um2 2至至3200 um3200 um2 2;l高阶模较低阶模的抗弯性强。高阶模较低阶模的抗弯性强。Ref. S. Ramachandran Opt. Letters. 31(12):1797-1799LP07在在 Rbend=12.9、6.3、4.6cm 时基本不变时基本不变现有技术途径的优缺点现有技术途径的优缺点大模面积实现方法大模面积实现方法缺点缺点优点优点模式转换模式转换 高阶模光纤高阶模光纤模面
15、积很大模面积很大, ,稳定性好稳定性好对对掺杂工艺要求高掺杂工艺要求高,需高掺杂,需高掺杂转换效率高,全玻璃化转换效率高,全玻璃化无严格导模无严格导模,高阶模损耗小高阶模损耗小泵浦光吸收率低,泵浦光吸收率低,加工要精确加工要精确模式竞争不稳,一致性要求高模式竞争不稳,一致性要求高增益导引光纤增益导引光纤短棒型短棒型孔助导引型孔助导引型谐振泄漏型谐振泄漏型多芯结构型多芯结构型光光子子晶晶体体光光纤纤大基模大基模场设计场设计模面积大模面积大, ,稳定性好稳定性好怕弯,怕弯,热效应管理困难热效应管理困难结构简单结构简单,稳定性好稳定性好折射率差可大可小折射率差可大可小, ,稳定稳定功率提升空间大功率
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