ICP-MS作用及功能的使用解读课件.ppt
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- ICP MS 作用 功能 使用 解读 课件
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1、电感耦合等离子体电感耦合等离子体-质谱法质谱法Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry(ICP-MS)同时测定痕量多元素的无机质谱技术同时测定痕量多元素的无机质谱技术目录目录nICP-MSICP-MS的起源和发展的起源和发展nICP-MSICP-MS系统组成及工作原理系统组成及工作原理 1. 1. 电感耦合等离子体电感耦合等离子体 2. ICP2. ICP与与MSMS的接口的接口(Interface)(Interface) 3. 3. 质谱仪质谱仪 4. ICP-MS4. ICP-MS样品引入系统(进样方式)样品引入系统(进样方式) 5. 5.
2、质谱图及其干扰质谱图及其干扰nICP-MSICP-MS分析应用分析应用n总结:总结:ICP-MSICP-MS方法的性能及特点方法的性能及特点ICP-MS的起源和发展的起源和发展1、1960s70s,问题的提出,问题的提出电感耦合等离子体电感耦合等离子体-原子发射光谱技术原子发射光谱技术 (ICP-AES)火花源无机质谱用于痕量元素分析火花源无机质谱用于痕量元素分析 (SSMS) 优点优点:痕量多元素同时测定分析速度快、样品引入简单缺点:缺点:光谱干扰严重优点:优点:谱图简单,分辨率适中,检出限低缺点:缺点:样品制备困难,分析速度慢常规离子源效率低ICP-AES + SSMS ICP-MS分析速
3、度:46个样品/小时m/z记录范围:6238(LiU)单同位素元素灵敏度:0.1mg/g精度: 25%全质量范围内的自动扫描操作者对离子源的控制程度尽可能小应用范围:地质研究2. ICP-MS最初的性能设计要求最初的性能设计要求 (1971, 3)Key Point: 连续高压离子源和质谱真空室之间的接口技术连续高压离子源和质谱真空室之间的接口技术ICP-MS的起源和发展的起源和发展3. 元素分析的质谱时代元素分析的质谱时代n1980,Houk & Fassel首次发表首次发表ICP-MS联用技术的工作联用技术的工作 (两级真空接口技术,两级真空接口技术,Ames Lab., Iowa Uni
4、ver., USA)n1983, “匹兹堡化学年会匹兹堡化学年会”,第一台,第一台ICP-MS商品仪面世商品仪面世 (Elan 250, Sciex)n1990, “It has truly become a technique for MASSES” (Dr. Koppenaal)n2000,全世界共有全世界共有35004000台台ICP-MS仪器仪器国内:国内:中国科技大学,南京大学,中山大学,南开大学,北京大学,中国地质大学,北京科技大学,浙江大学,厦门大学;中科院高能物理所,广州地化所,长春应化所,生态环境研究所,国家标准物质研究中心,北京有色金属研究总院,国家地质中心,原子能所ICP
5、-MS的起源和发展的起源和发展ICP-MS检测限及质量分析范围检测限及质量分析范围ICP-MS的起源和发展的起源和发展ICPMS分析性能分析性能n测定对象:测定对象:绝大多数金属元素和部分非金属元素n检测限:检测限:110-5(Pt) 159(Cl) ng/mLn分析速度分析速度: 20 samples per hourn精度:精度:RSD 60%)可预先除去溶剂可预先除去基体F. Vanhaecke et. al. Anal Bioanal Chem. 17(2002), 933-943ICP-MS系统组成及工作原理系统组成及工作原理仪器原理优点:优点:原位无损分析重现性好,线性范围宽适用样
6、品类型多(钢铁、陶瓷、矿物、核材料、食品)缺点:缺点:检测限较差基体干扰严重定量校准方法不理想 D. GuntherU et. Al., Spectrochimica Acta Part B 54 1999 381-409n激光烧蚀法激光烧蚀法原位原位(in situ)探测技术探测技术ICP-MS系统组成及工作原理系统组成及工作原理5. 质谱图及其干扰质谱图及其干扰nICP-MS的图谱非常简单,容易解析和解的图谱非常简单,容易解析和解释。但是也不可避免的存在相应的干扰问释。但是也不可避免的存在相应的干扰问题,主要包括题,主要包括光谱干扰光谱干扰和和基体效应基体效应两类。两类。n光谱干扰和基体效
7、应一般来讲可以通过相光谱干扰和基体效应一般来讲可以通过相应的手段加以抑制和降低,但难以完全消应的手段加以抑制和降低,但难以完全消除。因而在实际工作中要有针对性的采取除。因而在实际工作中要有针对性的采取各种方法提高分析准确性。各种方法提高分析准确性。ICP-MS系统组成及工作原理系统组成及工作原理光谱干扰:光谱干扰:n当等离子体中离子种类与分析物离子具有相当等离子体中离子种类与分析物离子具有相同的质荷比,即产生光谱干扰。同的质荷比,即产生光谱干扰。n光谱干扰有四种光谱干扰有四种同质量类型离子同质量类型离子多原子或加和离子多原子或加和离子氧化物和氢氧化物离子氧化物和氢氧化物离子仪器和试样制备所引起
8、的干扰仪器和试样制备所引起的干扰ICP-MS系统组成及工作原理系统组成及工作原理u同质量类型离子干扰同质量类型离子干扰 同质量类型离子干扰是指两种不同元素有几乎相同质量类型离子干扰是指两种不同元素有几乎相同质量的同位素。对使用四极质谱计的原子质谱仪来同质量的同位素。对使用四极质谱计的原子质谱仪来说,同质量类指的是质量相差小于一个原于质量单位说,同质量类指的是质量相差小于一个原于质量单位的同位素。使用高分辨率仪器时质量差可以更小些。的同位素。使用高分辨率仪器时质量差可以更小些。周期表中多数元素都有同质量类型重叠的一个、二个周期表中多数元素都有同质量类型重叠的一个、二个甚至三个同位素。甚至三个同位
9、素。 如:铟有如:铟有113In+和和115In+两个稳定的同位素两个稳定的同位素 前者与前者与113Cd+重叠,后者与重叠,后者与115Sn+重叠。重叠。 因为同质量重叠可以从丰度表上精确预计此干扰因为同质量重叠可以从丰度表上精确预计此干扰的校正可以用适当的计算机软件进行。现在许多仪器的校正可以用适当的计算机软件进行。现在许多仪器已能自动进行这种校正。已能自动进行这种校正。ICP-MS系统组成及工作原理系统组成及工作原理 u多原子离子干扰多原子离子干扰多原子离子多原子离子(或分子离子或分子离子)是是ICPMS中干扰的主要来源。中干扰的主要来源。一般认为,多原子离子并不存在于等离子体本身中,一
10、般认为,多原子离子并不存在于等离子体本身中,而是在离子的引出过程中。由等离子体中的组分与基而是在离子的引出过程中。由等离子体中的组分与基体或大气中的组分相互作用而形成。体或大气中的组分相互作用而形成。氢和氧占等离子体中原子和离子总数的氢和氧占等离子体中原子和离子总数的30左右,余左右,余下的大部分是由下的大部分是由ICP炬的炬的氩氩气产生的。气产生的。ICPMS的背景的背景峰主要是由这些多原子离子结出的它们有两组:以峰主要是由这些多原子离子结出的它们有两组:以氧为基础质量较轻的氧为基础质量较轻的组和以组和以氩氩为基础较重的一组,为基础较重的一组,两组都包括含氢的分子离子。两组都包括含氢的分子离
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