巨磁电阻材料的性质和应用研究现状-PPT课件.pptx
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- 磁电 材料 性质 应用 研究 现状 PPT 课件
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1、巨磁电阻材料的性质和应用研究现状目录l一、磁电阻及巨磁电阻简介l二、GRM材料的要求及种类l三、巨磁电阻的应用l四、展望一、磁电阻及巨磁电阻简介许多导体材料的电阻是受外加磁场影响的,这种磁 场改 变引起 导体电阻率变化的现象被称为磁电阻 (Magnetoresistance,MR)效 应 。表征磁电阻效应大小的物理量为磁阻比(MR比),其定义如下:其中,H磁场下的电阻率;0零磁场下的电阻率。磁 电 阻 效 应 的 产 生有不 同 的物 理机 制 ,按 不 同的物 理 机 制 可作 如 下 分类 :正 常磁 电阻效应 、各 向异 性 磁 电 阻效 应 、巨磁 电阻效应 、庞磁电阻效应等 。1)正
2、 常磁 电 阻 (Ordinary Magnetoresistance,OMR)效应 。普遍存在于所有金属 中,它的产生机制是传导电子受到磁场的洛仑兹力的作用而产生螺旋运动 ,从而使材料的电阻升高 。实际中大部分材 料的 OMR都比较小没有实用价值。2)各 向 异 性 磁 电 阻(Anisotropic Magnetoresistance,AMR)效应 。存在于铁磁金属及其合金材料 中 ,电阻率随电流和磁化强度的相对取向而不 同。铁磁金属 的AMR在室温下能够达到 23,由于一些磁性材料 的磁矩能够用特别小的磁场来翻转,因此有比较高的灵 敏度。AMR效应差不多有了特别多的应用 ,比如 90年代
3、初期 计算机读 出磁头以及各 种高灵敏度的磁场传感。费尔1938年3月出生于法国南部小城卡尔卡索纳,1970年在南巴黎大学获博士学位,1976年开始担任南巴黎大学教授。自1995年以来,费尔还一直担任法国国家科研中心与法国泰雷兹集团组建的联合物理实验室科学主管。费尔于2004年当选法国科学院院士。格林贝格尔1939年出生于比尔森,1969年在达姆施塔特技术大学获博士学位,1972年开始担任德国尤利希研究中心教授。2004年退休。他的知识产权保护意识比较强。格林贝格尔为此还申请了专利。“您的计算机硬盘存储能力有多大, , 他们的贡献就有多大” 世界上第一台计算机1T硬盘二、GRM材料的要求及种类
4、l 为了满足应用的要求, 对GMR材料的主要要求是: 1、高的室温GMR效应, 即由外加磁场引起的室温电阻变化率高; 2、低的工作磁场, 即在较低的外加磁场强度下得到高的MR; 3、高的稳定性, 即环境条件( 温度、湿度、振动等) 变化时, MR的变化要尽量小。l 就目前研究热点的几类GMR材料, 能够说是各有特点。 已发现具有GMR效应的材料主要有多层膜、自旋阀、纳米颗粒膜、磁性隧道结、非连续多层膜、氧化物陶瓷、熔淬薄带等。u多层膜 各种铁磁层(Fe、Ni、Co及其合金)和非磁层(包括3d、4d、以及5d非磁金属)交替生长而构成的磁性多层膜,大多都具有GRM效应,其中尤以多晶(Co/Cu)多
5、层膜的磁电阻效应最为突出。室温、1T磁场下GMR值为70%,远大于多晶(Fe/Cr)。 目前最常用的制备金属多层膜的方法主要由溅射、蒸发和分子束外延、 多层膜GMR数值远较AMR大,为负值,基本为各向同性。其测试方法有两种:CIP(Current-in-plane),即电流沿膜面;CPP(Current flowing perpen dicular to the plane),电流与膜面垂直。通常采纳CIP方式。因为电子的运动是混乱的,可穿越若干层,并经受层内及界面自旋相关的散射,总电阻为电子经过各层的各个等效电阻的总和。在CPP模式下,由于电子是垂直于膜面穿过多层膜,要经受更多的与自旋相关的
6、杂质和缺陷的散射;另外,非磁金属层的分流效应也被排除,因此垂直模式下能够得到更大的磁电阻效应。u多层膜巨磁电阻效应基本原理图1 Fe/Cr多层膜的实验曲线(a)磁化曲线,(b)室温下的巨磁电阻,(c)低温下的巨磁电阻图2 铁磁层耦合示意图巨磁电阻效应基本原理图3 多层膜系统等效电阻示意图 (a)反铁磁耦合,(b)铁磁耦合根 据 Mott的双流体模型(将传导电子分为自旋向上与向下两类导电载流子的物理图象),若导电 电子自旋方向与局域磁 矩反平行 ,则受到特别 强的散射 ,电阻较大 ;而当导电电子自旋方向与局域磁矩平行时 ,则受到的散射就弱的多 ,电阻较小。图4 过渡金属态密度函数N(E)示意图为
7、什么不同自旋取向散射率会不同,从态密度理论出发能够如此来理解:3d过渡元素金属中,由于量子力学的交换作用,d能带将分裂为两个不同自旋取向的次能带,为了简单明了起见,图中设3d 能带低于费米能级,全被电子所占据,而3d 带却部分被填充,而磁性金属的饱和磁化强度取决于这两个次能带磁矩之差。显然对自旋向上的传导电子只能在s带被散射,散射较弱,而对自旋向下的电子除s带外,3d带亦可被散射,散射强,平均自由路径短,因此从态密度理论出发,在上述情况下,当传导电子自旋平行于局域磁化矢量时,具有低电阻特性,反平行时为高电阻态。u多层膜多层膜的GMRGMR效应的影响因素Fe/Cr多层膜巨磁电阻效应周期数影响多层
8、膜的GMR随总周期数的增加而增大,当总膜厚达到与平均自由程相当时,GMR值逐渐趋饱和,不再随周期数而增大。随着周期数增加,界面粗糙度增大,界面自旋相关散射作用增强;表面散射作用减弱,界面散射作用权重增强。但也有结果表明,界面粗糙度增大只会导致GMR减小。当然,膜厚增加会影响到多层膜中晶体的生长情况,不同膜厚产生晶界的变化也将影响到GMR的值。 缓冲层与覆盖层为了制备良好的多层结构,常在衬底上沉积510nm的缓冲层,如Fe、Zn、Ru等,如此可改善多层织构,降低层厚起伏和界面粗糙度,有利于获得平整的界面。为防止氧化,要在表面沉积覆盖层。然而这两种附加层会对多层膜的电阻其短路作用和分流作用。 温度
9、依赖性MR比值随温度上升而减小。因为温度上升时引入了更多的散射,如声子、磁振子散射,使电阻率上升,MR比值下降。另外,高温附加散射不同于低温下杂质及缺陷散射,改变了不对称散射因子。再者,磁振子散射导致自旋混合效应,从而减弱了巨磁电阻效应。 界面结构包括界面结构取向、界面粗造度、能使磁性层间发生耦合作用的针孔效应、界面区不同成分的原子相互渗透的程度等。例如,在Ni/Cu和NiFe/Cu自旋阀结构中,界面原子磁矩因界面原子互扩散而减少并变得杂乱无章,从而导致GMR的显著降低。u自旋阀GMR材料 在通常的磁性多层膜中存在较强的层间交换耦合,阻碍了相邻磁层中磁矩相对取向发生变化 ,GMR效应必须在特别
10、高的饱和外磁场(10至20kOe)才能达到 ,因此如此的多层膜体系的磁电阻的灵敏度特别小。 1991年 ,IBM公 司的BDieny提 出铁磁层/隔离层/铁磁层/反铁磁层结 构 ,并首先在NiFe/Cu/NiFe/FeMn多层膜 中发现了低饱和场GMR效应。这种结构的多层膜利用电子的自旋特性,像阀一样限制电子的移动,故命名为自旋阀(spin valve)。自旋阀通常可分为两种基本方式 :一种被非磁层分开的两软磁层之一用反铁磁层(如 MnFe或 NiO)通过交换作用钉扎,如 MnFe/FeNi/Cu/FeNi自旋阀多层膜结构 ;另一种是具有不同矫顽 力的两铁磁层(通常 一软 一硬)用非磁层分开
11、。u自旋阀GMR材料“钉扎层”“被钉扎层”“自由层”“分隔层”第一类自旋阀示意图第二类自旋阀示意图“硬磁性层”“软磁性层”“分隔层”采纳第一种方式的GMRGMR自旋阀基本结构如下图所示。该类自旋阀多层膜结构原理上能够分为四层: :反铁磁钉扎层, ,铁磁被钉扎层, ,非磁性分隔层和铁磁自由层。其中, ,自由层和被钉扎层采纳软铁磁材料( (也可采取自由层为软铁磁材料 , ,被钉扎层使用硬铁磁材料的结构) ), ,它们之间的非磁性金属隔离层 , ,只对自由层和被钉扎层进行磁隔离, ,而不进行电隔离, ,改变其厚度能够控制在其两面磁性薄膜之间的耦合强度, ,外磁场能够较方便地改变自出层的磁矩而较难改变
12、被钉扎层的磁矩。“钉扎层”“被钉扎层”“自由层”“分隔层”第一类自旋阀示意图实例分析: :FeMn(7nm)TaNiFe(4.5)Cu(2.2nm)NiFe(6nm)NiFe(6nm)/Cu(2、2nm)/NiFe(4、5)/FeMn(7nm)自旋阀示意图在磁场强度等于NiFe(6nm)层的反向矫顽力的外场作用下, NiFe(6nm)层中的磁化矢量首先翻转,这时,在两个NiFe层中的磁化矢量成反平行排列,这就形成了电子自旋相关散射的高电阻态。假如磁场在反方向上接着增加,当磁场强度达到某一临界值时, NiFe(4nm)层也转向磁场方向,这就形成了电子自旋相关的低电阻态。自旋阀的磁化曲线(a)和磁
13、电阻曲线(b)采纳第二种方式的GMR自旋阀基本结构如下图所示。能够用硬铁磁层(如PtCo)代替钉扎层和被钉扎层,因为二者的矫顽力不同,在适当磁场下亦可使相邻铁磁层的磁化方向从接近平行变化到平行饱和状态,从而也得到巨磁电阻。相对第一种方式其优点是结构简单,且可选择抗腐蚀和热稳定性好的硬磁材料,克服了自旋阀的不耐腐蚀和稳定性差的缺点。它的缺点是硬磁层与自由层之间存在耦合,自由层的矫顽力增大,因此降低了自旋阀的灵敏度。第二类自旋阀示意图“硬磁性层”“软磁性层”“分隔层”自旋阀的优点与缺点优点:磁电阻变化率R/R对外磁场的响应呈线性关系,频率特性好;低饱和场,工作磁场小;与AMR相比,电阻随磁场变化迅
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