有机基板课件.pptx
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- 有机 课件
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1、1一、有机基板的概念:一、有机基板的概念:一般是指制造电子封装基板、制造搭载电子元器件的母板的基础材料。粘合剂:有机树脂;增强材料:玻璃纤维布;采用传统的工艺法所制成。2二、有机基板的功能:二、有机基板的功能:绝缘绝缘支撑支撑基板材料所含有的铜箔来实现有机树脂对搭载芯片,组装上的端子、凸块等提供强度保证,由所含有的树脂、补强材料或填充料来实现。3三、有机基板材料的发展特点:三、有机基板材料的发展特点:(a)树脂:BT树脂(双马来酰亚胺三嗪树脂)、PPE树脂(聚苯醚树脂),环氧树脂(FR-4);(b)基板材料品种:由于HDI、BUM的发展,品种比其它基板用基材的发展更快;(c) 前研技术:高性能
2、(高Tg、低、低)、高可靠性、低成本;绿色化。4四、有机基板材料的性能要求:四、有机基板材料的性能要求:(a)与陶瓷基板材料相比的优点与陶瓷基板材料相比的优点:p 不需要高温烧结,节省能源;p 低,有利于信号高速传输;p 易加工,可制作大型基板;p 易实现微细图形电路加工;p 易于大批量生产,降低成本。5(b) 高耐热性高耐热性p 高玻璃化温度(Tg);p 提高封装的耐再流焊性;p 提高通孔的可靠性;p 热冲击、超声波作用下的金属线压焊时,基板保持稳定的物理特性(平整性、尺寸稳定性、稳定弹性率、硬度变化)。6(c)高耐吸湿性高耐吸湿性p 有机树脂在高湿条件下比陶瓷材料更易吸湿度;p “爆玉米花
3、”(popcorn)现象:p 由于基板材料吸湿量较大,而造成在微组装时基板与半导体芯片的界面等易产生“爆玉米花”似的剥离问题。封装基板残留的水,通过加热产生水蒸气,因急剧膨胀造成封装体破坏。7(d)低热膨胀性低热膨胀性p 理想的封装基材: 810-6/C;p 半导体芯片与基板的热膨胀系数相差过大,在温度变化时,它们之间产生较大的应力。p 为了保证封装基板微细电路的精度,选用低热膨胀系数的基材。8(e)低介电常数低介电常数p 有机封装基板一般具有较低的r, 与陶瓷基材相比,更适用于高频信号的传输;p 提高封装体内信号的传输速度,降低基材的介电常数。9五、有机基板的分类:五、有机基板的分类:刚性刚
4、性挠性挠性纤维/树脂BUM复合多层板树脂薄膜玻璃布/树脂基薄型覆铜板液晶聚合物薄膜金属/树脂树脂/陶瓷10六、有机基板材料的主要原料:六、有机基板材料的主要原料:铜箔:铜箔:压延铜箔、电解铜箔增强材料:增强材料:玻璃纤维布、芳香族聚酰胺纤维无纺布11一、铜箔的工业概述一、铜箔的工业概述四、电解铜箔产品四、电解铜箔产品八、高档次铜箔八、高档次铜箔五、电解铜箔与压延铜箔的分类五、电解铜箔与压延铜箔的分类六、铜箔性能参数六、铜箔性能参数七、铜箔的发展方向七、铜箔的发展方向三、电解铜箔三、电解铜箔二、压延铜箔二、压延铜箔12一、铜箔的工业概述:一、铜箔的工业概述:广义广义:铜箔指厚度不大于0.15毫米
5、的纯铜及铜合金加工产品。狭义狭义:印制电路板用的导体一般都是制成薄箔状的精炼铜,即狭义上的铜箔。n压延铜箔更多得用作建筑装饰材料;n电解铜箔95%以上用于PCB基材的制。13世界铜箔工业发展历史:世界铜箔工业发展历史:14挠性板4%纸基板和复合材料基板26%多层板 40%玻璃布基板 30%注释:铜箔*包括压延铜箔与电解铜箔世界范围内铜箔世界范围内铜箔*在各类型印制电路板中大致使用比例在各类型印制电路板中大致使用比例15中国铜箔工业发展历史:中国铜箔工业发展历史:16 二、压延铜箔二、压延铜箔:工艺:工艺:原铜材熔融/铸造铜锭加热回火韧化刨削去垢在重冷轧重冷轧连续回火韧化去垢逐片焊合最后轧薄处理
6、回火韧化切边收卷成毛箔产品粗化特点:特点:耐折性优良、弹性模量高、延展性好、适用于挠性覆铜板;纯度高,表面比电解铜箔平滑,有利于信号快速传输。缺点:缺点:价格贵,幅宽有限(65cm)。17 三、电解铜箔三、电解铜箔: 18 造液槽中,加入硫酸和铜料; 在加热条件下(70 C) 化学反应; 过滤; 生成CuSO4溶液; 用泵抽入电解槽。Cu Cu2+ 19光面光面(Shing)毛面毛面(Matt)阴极:阴极:Cu2+ + 2e = Cu 阳极阳极: 4OH- - 4e = 2H2O + O2 总总:CuSO4 + 2H2O = 2Cu + O2+ 2H2SO4S: PCB电路面 (阴极辊表面抛光
7、精度与质量、辊表面的维护、杂物清除)M: PCB与基材结合的面 (CuSO4溶液加工的质量、添加剂、电流密度、转速)20 粗化处理:粗化处理:在毛面上镀铜形成许多凸出的小突点,再在小突点上镀一层铜封闭,达到“固化作用”,使其与毛面底基牢固结合 耐热钝化:耐热钝化: 在粗化层上镀一层薄层单一金属或合金(二元/三元), 如: 黄铜、锌、镍-锌、镍-钴等。 防氧化钝化、光面:防氧化钝化、光面:在钝化层喷涂、涂敷有机物等,形成耦合层。21厚度符号厚度 ( m)单位面积质量 ( g / m2)主要用途5544.6挠性覆铜板、多层印制电路板用薄板9980.312121071818152玻璃布基覆铜板(FR
8、-4)3535305纸基覆铜板(FR-1、FR-2)7070610低档电子产品(如玩具)的电子线路板四、电解铜箔产品四、电解铜箔产品( (按厚度不同):按厚度不同):22英文表述英文表述符号符号中文表述中文表述1-Standard electrodepositedSTD-Type E普通电解铜箔2-High ductility electrodepositedHD-Type E高延展性电解铜箔(室温下)3-High temperature elongation electrodepositedTTE-Type E高温高延展性电解铜箔(180下)4-Annealed electrodeposit
9、edANN-Type E退火铜箔5-As rolled-wroughtAR-Type W冷轧压延铜箔6-Light cold rolled-wroughtLCR-Type W轻冷轧压延铜箔7-Annealed-wroughtANN-Type W退火压延铜箔8-As rolled-wrought low-temperature annealableLTA-Type W低温退火压延铜箔五、电解铜箔与压延铜箔的分类五、电解铜箔与压延铜箔的分类: :23六、铜箔性能参数六、铜箔性能参数: : 厚度:厚度:企业名称企业名称可达到的产品技术水平可达到的产品技术水平技术来源技术来源苏州福田金属有限公司12m
10、70m / 高温高延展性铜箔日本福田联合铜箔(惠州)有限公司18m美国Yates合正铜箔(惠阳)有限公司18m台湾招远金宝电子有限公司1870m自行开发研制本溪合金有限责任公司15m50m自行开发研制九江市电子材料厂18m安徽省铜陵市铜化集团公司铜箔厂 18m35m美国Gould铁岭铜箔厂18m35m 美国CBI上海金宝铜箔有限公司18m美国MTI24 外观:外观: 表面要求无异物、无铜粉、无变色;光面(S 面)平滑、不生锈、不变色;无针孔、渗透孔。 抗张强度与延展率:抗张强度与延展率: 表征铜箔机械性能的两项重要指标。它与基材在一定温度加工,若热态延展性能不好,易发生铜箔断裂。 剥离强度:剥
11、离强度: 铜箔与基材在高温高压条件下压制加工后,它们之间的粘结强度,称为铜箔剥离强度(抗剥强度)25 耐折性:耐折性: 挠性基板表征的重要参数 表面粗糙度:表面粗糙度: 质量电阻率:质量电阻率:铜箔的电阻用质量电阻率表示,影响PCB信号传输速度。 蚀刻率:蚀刻率: 抗高温氧化性:抗高温氧化性:JIS标准,在 180 热空气中处理30min, 观察光面颜色是否变化。 26七、铜箔的发展方向七、铜箔的发展方向: :l 铜箔的薄箔化。下游产业对5m、9m、12m等规格的铜箔需求量在增加;l 铜箔M面的低粗化;l 铜箔性能多样化。发展低峰谷铜箔、高温时高延伸性铜箔、双面处理铜箔、耐热铜箔等类型铜箔,以
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