第1章薄膜技术的真空技术基础共49页课件.pptx
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- 薄膜 技术 真空技术 基础 49 课件
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1、桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学院材料科学与工程学院内容提要内容提要气体分子运动论的基本概念气体分子运动论的基本概念1真空获得的手段真空获得的手段2真空度的测量真空度的测量3桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学引言引言v问题问题v1 1、是不是所有薄膜制备方、是不是所有薄膜制备方法都需要在真空环境下?法都需要在真空环境下?v2 2、为什么在薄膜制备的过、为什么在薄膜制备的过程中需要在真空环境?或者程中需要在真空环境?或者说真空环境在薄膜制备过程说真空环境在薄膜制备过程中的作用是什么?中的作用是什么?桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料
2、科学与工程学引言引言v问题问题1 1:薄膜技术与真空技术的关系薄膜技术与真空技术的关系v 薄膜材料的制备过程是薄膜材料的制备过程是: : v atom by atom atom by atomv v 几乎所有的现代薄膜材料都是在真空或是在较低的气体几乎所有的现代薄膜材料都是在真空或是在较低的气体压力下制备的。压力下制备的。v 例外:比如例外:比如sol-gelsol-gel技术,丝网印刷技术技术,丝网印刷技术v 问题问题2:2:真空在薄膜制备过程中的作用:真空在薄膜制备过程中的作用:v (1 1)减少蒸发分子与残余气体分子的碰撞;)减少蒸发分子与残余气体分子的碰撞;v (2 2)抑制它们之间的
3、反应;)抑制它们之间的反应;桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学引言引言v 薄膜的气相沉积一般需要三个基本条件:薄膜的气相沉积一般需要三个基本条件:热的气相源、热的气相源、冷的基板和真空环境。冷的基板和真空环境。v 在寒冷的冬天,窗玻璃上往往结霜;人们乍一进入温在寒冷的冬天,窗玻璃上往往结霜;人们乍一进入温暖的房间,眼镜片上会结露。不妨将上述暖的房间,眼镜片上会结露。不妨将上述“霜霜”和和“露露”看作气相沉积的看作气相沉积的“膜膜”,则火炉上沸腾水壶中,则火炉上沸腾水壶中冒出的蒸汽则是冒出的蒸汽则是“热的气相源热的气相源”,冰冷的窗玻璃和眼,冰冷的窗玻璃和眼镜片则是
4、镜片则是“冷的基板冷的基板”。那么,为什么真空环境也是。那么,为什么真空环境也是薄膜气相沉积的必要条件呢?薄膜气相沉积的必要条件呢?v 一般说来,工业上利用真空有下述几条理由:化学一般说来,工业上利用真空有下述几条理由:化学非活性;非活性;热导低;热导低;与气体分子之间的碰撞少;与气体分子之间的碰撞少;压力低。通过本章的学习,可以了解真空环境对于薄压力低。通过本章的学习,可以了解真空环境对于薄膜气相沉积的必要性,并为真空获得、真空测量及真膜气相沉积的必要性,并为真空获得、真空测量及真空应用等建立必要的理论基础。空应用等建立必要的理论基础。桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学
5、与工程学2.1 2.1 真空的基本知识真空的基本知识v1 1 真空的定义真空的定义v 真空泛指低于一个大气压的气体状态。真空泛指低于一个大气压的气体状态。与普通的大气压与普通的大气压状态相比,分子密度较为稀薄,从而气体分子与气体分状态相比,分子密度较为稀薄,从而气体分子与气体分子,气体分子与器壁之间的碰撞几率要低些。子,气体分子与器壁之间的碰撞几率要低些。v 曾存在两种不同的说法:曾存在两种不同的说法:一是真空就是一是真空就是“真的空了真的空了”,就是就是“什么也不存在的空间什么也不存在的空间”。但目前即使用最先进的但目前即使用最先进的真空制备手段所能达到的最高真空度真空制备手段所能达到的最高
6、真空度1 1* *1010-11-11PaPa,每立方,每立方厘米体积中仍有厘米体积中仍有30003000个气体分子。因此它除了理论研究个气体分子。因此它除了理论研究外,并无多大实际意义;外,并无多大实际意义;v 另一种说法是另一种说法是“就真空使用者的目的而论的,只要该空就真空使用者的目的而论的,只要该空间的气体可以忽略不计,就可以认为是真空了。间的气体可以忽略不计,就可以认为是真空了。”桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.1 1.1 真空的基本知识真空的基本知识v 按上述第二种说法,比如炮弹在高于大气压的空间飞行按上述第二种说法,比如炮弹在高于大气压的空间飞
7、行是没有问题的,因此可以将高于大气压的空间看作是真是没有问题的,因此可以将高于大气压的空间看作是真空,而对于表面研究,空,而对于表面研究,1010-8-8PaPa才称得上是真空。才称得上是真空。v 宇宙空间所存在的宇宙空间所存在的“自然真空自然真空”;利用真空泵抽取所得;利用真空泵抽取所得的的“人为真空人为真空”。绝对真空:完全没有气体的空间状态。绝对真空:完全没有气体的空间状态。v为了获得真空至少需要为了获得真空至少需要 能降低压强的设备能降低压强的设备真空泵真空泵 能盛放特定空间的装置能盛放特定空间的装置真空容器真空容器 桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.
8、1 1.1 真空的基本知识真空的基本知识v2 2 真空度的术语描述真空度的术语描述v分子密度:分子密度:如用阿伏加德罗数(在如用阿伏加德罗数(在1 1 和和1 1大气压下,大气压下,22.4L22.4L的空间中有的空间中有6 6* *10102323个气体分子,在个气体分子,在1 1* *1010-8-8PaPa压强下,压强下,1cm1cm3 3中有中有355355万个气体分子,相当于北京市人口的万个气体分子,相当于北京市人口的1/41/4。v平均自由程:平均自由程:(气体分子人一次碰撞到下一次碰撞所(气体分子人一次碰撞到下一次碰撞所飞距离的统计平均值)在飞距离的统计平均值)在1 1* *10
9、10-8-8PaPa压强下,压强下,25 25 的空气,的空气,其平均自由程为其平均自由程为509km509km,相当于北京到大连或北京到青岛,相当于北京到大连或北京到青岛间的距离,这就好比从北京到大连或北京到青岛的飞行间的距离,这就好比从北京到大连或北京到青岛的飞行过程中一次也不碰撞。过程中一次也不碰撞。桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.1 1.1 真空的基本知识真空的基本知识v2 2 真空度的术语描述真空度的术语描述v入射频率:入射频率:(单位时间碰撞(入射)到单位面积上的分(单位时间碰撞(入射)到单位面积上的分子数)在子数)在1 1* *1010-8-8
10、PaPa压强下,压强下,25 25 的空气,每的空气,每1cm1cm3 3的表面,的表面,平均每秒多到平均每秒多到380380亿次气体分子的碰撞。要是这些气体分亿次气体分子的碰撞。要是这些气体分子整齐地排列于固体表面,大约需要子整齐地排列于固体表面,大约需要3 3个小时。个小时。v1cm1cm3 3中的气体分子尽管超过中的气体分子尽管超过350350万个,而来回自万个,而来回自由飞行的距离却大于由飞行的距离却大于500km500km,矛盾否?,矛盾否?v 这些气体分子非常小,直径只有一亿分之四厘米,这些气体分子非常小,直径只有一亿分之四厘米,(0.4nm0.4nm), ,但运动速度极快(大约为
11、步枪子弹的出口速但运动速度极快(大约为步枪子弹的出口速度)度)桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.1 1.1 真空的基本知识真空的基本知识v3 3 真空度量单位真空度量单位v 在真空技术中,常用在真空技术中,常用“真空度真空度”习惯用语和习惯用语和“压强压强”物理量表物理量表示真空程度,通常说成示真空程度,通常说成“某空间的真空度为多大的压强某空间的真空度为多大的压强”。某。某空间的压强越低意味着真空度越高,反之,压强高的空间则真空间的压强越低意味着真空度越高,反之,压强高的空间则真空度低。气体分子密度、气体分子的平均自由程、形成一个分空度低。气体分子密度、气体
12、分子的平均自由程、形成一个分子层所需要的时间等也可以用来表示真空度。子层所需要的时间等也可以用来表示真空度。v 工程常用的换算:工程常用的换算:1atm=760Torr=1033mbar=10131atm=760Torr=1033mbar=1013* *10102 2PaPa单位帕/Pa托/Torr毫巴/mba标准大气压1Pa17.510-3 1 10-2 9.87 10-6 1Torr133.311.3331.316 10-3 1mba1000.7519.87 10-4 1atm1.013 1057601.013 103 1桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.
13、1 1.1 真空的基本知识真空的基本知识v4 4 真空区域划分真空区域划分v 迄今为止,采用最高超的真空技术所能达到的最低压力状态大迄今为止,采用最高超的真空技术所能达到的最低压力状态大致为致为1010-12-12PaPa,大气压大约为,大气压大约为105Pa,105Pa,因此因此1717个数量级的广阔的压个数量级的广阔的压力范围均在真空技术所涉及的范畴之内。力范围均在真空技术所涉及的范畴之内。 不同真空区域的物理特性不同真空区域的物理特性桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.1 1.1 真空的基本知识真空的基本知识桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学
14、材料科学与工程学1.1 1.1 真空的基本知识真空的基本知识桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.1 1.1 真空的基本知识真空的基本知识桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.2 1.2 真空的表征真空的表征v1 1 气体分子的平均自由程气体分子的平均自由程v 分子平均自由程:气体分子在两次碰撞的间隔时间里走分子平均自由程:气体分子在两次碰撞的间隔时间里走过的平均距离。假设某种气体分子的有效截面直径为过的平均距离。假设某种气体分子的有效截面直径为d d,则该气体分子的平均自由程应该等于。则该气体分子的平均自由程应该等于。v 因此,气体
15、分子的平均自由程与单位体积内的气体分子因此,气体分子的平均自由程与单位体积内的气体分子数数n n成反比。在常温常压的条件下,气体分子的平均自由成反比。在常温常压的条件下,气体分子的平均自由程是极短的。例如,在此条件下,空气分子的有效截面程是极短的。例如,在此条件下,空气分子的有效截面直径直径d 0.5nm,d 0.5nm,平均自由程平均自由程 50nm 50nm。 2d1n(1-1)桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.2 1.2 真空的表征真空的表征v1 1 气体分子的平均自由程气体分子的平均自由程v 由于气体分子的运动轨迹是一条在不断碰撞的同时不断由于气体分子
16、的运动轨迹是一条在不断碰撞的同时不断改变方向的折线,因此,尽管它的平均运动速度很高,改变方向的折线,因此,尽管它的平均运动速度很高,但是单位时间里,其定向运动的距离却较小。但是单位时间里,其定向运动的距离却较小。v 由于气体分子的平均自由程与单位体积内的气体分子数由于气体分子的平均自由程与单位体积内的气体分子数n n成反比,而压强成反比,而压强p p与与n n成正比,因此自由程随气体压力的成正比,因此自由程随气体压力的下降而增加。在真空度优于下降而增加。在真空度优于0.1Pa0.1Pa时,气体分子间的碰撞时,气体分子间的碰撞几率已很小,主要是气体分子与容器壁之间的碰撞。分几率已很小,主要是气体
17、分子与容器壁之间的碰撞。分子平均自由程的概念在真空和薄膜技术中有着非常重要子平均自由程的概念在真空和薄膜技术中有着非常重要的作用。在薄膜材料的制备过程中,薄膜的沉积主要是的作用。在薄膜材料的制备过程中,薄膜的沉积主要是通过气体分子对衬底的碰撞过程来实现的。通过气体分子对衬底的碰撞过程来实现的。 桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.2 1.2 真空的表征真空的表征v2 2 气体分子的碰撞频率气体分子的碰撞频率v 真空及薄膜技术中常碰到的另一个物理量,是气体分子真空及薄膜技术中常碰到的另一个物理量,是气体分子对于单位面积表面的撞频率,即单位时间内单位面积表对于单位面
18、积表面的撞频率,即单位时间内单位面积表面受到气体分子碰撞的次数,称为气体分子的通量面受到气体分子碰撞的次数,称为气体分子的通量 ,也称克努力方程;也称克努力方程;v 气体压力高时,分子频繁碰撞物体表面;气体压力高时,分子频繁碰撞物体表面;v 气体压力低时,分子对物体表面的碰撞可以忽略气体压力低时,分子对物体表面的碰撞可以忽略MRTpNA2(1-2)桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.2 1.2 真空的表征真空的表征v2 2 气体分子的碰撞频率气体分子的碰撞频率v 假设每个向表面运动来的气体分子都是杂质,而每个杂假设每个向表面运动来的气体分子都是杂质,而每个杂质气
19、体分子都会被表面所俘获,则可估计出不同的真空质气体分子都会被表面所俘获,则可估计出不同的真空环境中,清洁表面被杂质气体分子污染所需要的时间为:环境中,清洁表面被杂质气体分子污染所需要的时间为:v 在常温常压下,在常温常压下, 3.53.5 1010-9-9秒;秒;v 1010-8-8PaPa时,时, 10 10 小时小时v 这一方面说明了真空环境的重要性。同时这一方面说明了真空环境的重要性。同时, ,气体分子通量气体分子通量还决定了薄膜的沉积速率。在薄膜材料的制备过程中,还决定了薄膜的沉积速率。在薄膜材料的制备过程中,薄膜的沉积主要是通过气体分子对于衬底的碰撞过程来薄膜的沉积主要是通过气体分子
20、对于衬底的碰撞过程来实现的。此时,薄膜的沉积速度正比于气体分子的通量。实现的。此时,薄膜的沉积速度正比于气体分子的通量。桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.2 1.2 真空的表征真空的表征v3 3 气流与流导气流与流导v 气体主要是在分子与分子碰撞的过程中流动(容器的尺气体主要是在分子与分子碰撞的过程中流动(容器的尺寸远大于平均自由程),故称此种气流为粘流带,图(寸远大于平均自由程),故称此种气流为粘流带,图(b)b)表明,气体主要是在分子和容器碰撞的过程中流动(容表明,气体主要是在分子和容器碰撞的过程中流动(容器的尺寸远小于平均自由程),故称之为分子流。单位器
21、的尺寸远小于平均自由程),故称之为分子流。单位时间内气体流动的量叫流量,流量与(质量时间内气体流动的量叫流量,流量与(质量/ /时间)成正时间)成正比。比。桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.2 1.2 真空的表征真空的表征v3 3 气流与流导气流与流导v 气体流动状态与气体压力、真气体流动状态与气体压力、真空容器尺寸的关系空容器尺寸的关系v 根据根据KnudsenKnudsen准数准数Kn:Kn:uKn1: Kn110Kn110 粘滞流状态粘滞流状态KnD桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.2 1.2 真空的表征真空的表征v粘滞
22、态气流的两种不同的流动状态粘滞态气流的两种不同的流动状态v 根据根据ReynoldsReynolds准数准数Re:Re:v 式中,式中,d d为容器的特征尺寸(如管路的直径);为容器的特征尺寸(如管路的直径);、分别是气体的流速、密度和动力学黏度系数。分别是气体的流速、密度和动力学黏度系数。de R Re2200 紊流状态紊流状态 Re1200 层流状态层流状态桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.3 1.3 真空系统的导流能力真空系统的导流能力流导流导v 真空系统中,气体的通过能力称之为流导真空系统中,气体的通过能力称之为流导C C,流导,流导C C、流、流量量
23、Q Q和压强和压强P P三者的关系:三者的关系:v 式中,式中,p p1 1和和p p2 2为部件两端的气体压力;为部件两端的气体压力;Q Q为单位时间内通为单位时间内通过该真空部件的气体流量,即单位时间内流过的气体体过该真空部件的气体流量,即单位时间内流过的气体体积与其压力的乘积。积与其压力的乘积。v 流导流导C C的大小取决于:真空系统的大小取决于:真空系统( (管路管路) )的几何尺寸。在粘的几何尺寸。在粘滞流状态下,气体分子间的碰撞是主要的,气体压强的滞流状态下,气体分子间的碰撞是主要的,气体压强的作用较为有效,气体容易流通,故流导大;与此相反,作用较为有效,气体容易流通,故流导大;与
24、此相反,在分子流状态下,气体分子间的碰撞可以忽略,气体压在分子流状态下,气体分子间的碰撞可以忽略,气体压强的作用较小,所以流导小,通常,我们所利用的真空强的作用较小,所以流导小,通常,我们所利用的真空空间压强极低,大部分属于分子流。空间压强极低,大部分属于分子流。21ppQC桂林电子科技大学桂林电子科技大学材料科学与工程学材料科学与工程学1.3 1.3 真空系统的导流能力真空系统的导流能力流导流导v 对于分子流状态:流导与气体的压力无关,就等于单位对于分子流状态:流导与气体的压力无关,就等于单位时间内通过该真空部件的气体体积。但由于气体的流速时间内通过该真空部件的气体体积。但由于气体的流速与气
25、体的种类和温度有关,因此,即使是在压力差相同与气体的种类和温度有关,因此,即使是在压力差相同时,管路中流过的气体量时,管路中流过的气体量Q Q也不一样。比如,对于处于两也不一样。比如,对于处于两个直径很大的管路间的通孔来说,若通孔的截面积为个直径很大的管路间的通孔来说,若通孔的截面积为A A,则通孔的流导则通孔的流导C C正比于通孔两侧气体分子向通孔方向流动正比于通孔两侧气体分子向通孔方向流动的流量差。通孔的流导的流量差。通孔的流导C C:v 式中,式中,n n为单位体积内的气体分子数。从此式可知,为单位体积内的气体分子数。从此式可知,分子分子流条件下管路的流导不仅取决于管路的几何尺寸,还与流
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