电容屏Sensor基础知识简介课件.ppt
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- 电容 Sensor 基础知识 简介 课件
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1、一Sensor基本常识简介二Glass Sensor与Film Sensor的比较三电容屏ITO制程工艺简介四电容屏Sensor常见不良简介目录目录一、一、Sensor基本常识简介基本常识简介 Sensor:是电容屏的电信号功能层,其可以是单层材料构成,也可以是多层材料形成复合结构,俗称功能片 种类及其特点种类及其特点:Film做做ITO载体的载体的Sensor : 厚度优势,未来Film电容屏将越来越薄Glass做做ITO载体的载体的Sensor: 可全ITO工艺,OGS结构等Glass ITOFilm ITOSensor基本常识基本常识Film做做ITO载体的工艺载体的工艺:v单层单层:
2、一层ITO层,无屏蔽层,主要用于中小尺寸Film,成本低;v双层双层: 两层ITO层,无屏蔽层,大尺寸都倾向于Film,成本低;v三层三层: 两层ITO层,一层屏蔽层,工艺步骤多且良率不好控制,Film只能承载单层ITO。Glass做做ITO载体的工艺:载体的工艺:v单层搭桥单层搭桥: 只需要一片玻璃,一面搭桥做ITO层一面做屏蔽层,主要用于小尺寸的屏,工艺少、成本低、良率好控制;v双层双层: 一块玻璃的两面都铺有ITO,由于自电容抗干扰能力弱必须再加一层屏蔽层,导致成本增加但实现工艺比单层容易,通常把一层ITO做到LENS上面,另一块玻璃做ITO层和屏蔽层。二、二、Glass Sensor与
3、与Film Sensor的比较的比较vITO Film(菲林)分为亮面材料和雾面材料。均有不防划伤、防划伤、防牛顿环、防 反射(高透处理)等材质;vITO Glass(导电玻璃)分为普通玻璃和强化玻璃。其中强化玻璃有表面镀膜和离子置换工艺。厚度有2.0mm、1.1mm、0.7mm、0.55mm、0.4mm、0.3mm等规格。结构及其主要材料比较结构及其主要材料比较v ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率。在氧化物导电膜中,以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好,而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形.
4、其中透光率达90%以上,ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例来控制,通常Sn2O3:In2O3=1:9,多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。v ITO 是所有电阻技术触屏及电容技术触摸屏都用到的主要材料,实际上电阻和电容技术触摸屏的工作面就是ITO 涂层。 ITO:OCA是将光学亚克力胶做成无基材,然后在上下底层各贴合一层离型薄膜,是一种无基体材料的双面贴合胶带。 特性特性:高透光率、雾度低、耐紫外线、高粘着力、耐高温、长时间不使用不发黄OCA:Glass Sensor与与Film Sensor的比较的比较市场比较市场比较1、苹果采用的是Double-ITO玻璃电容屏,Sum
5、sung采用的是Film电容屏;2、目前,HTC、ZTE、MEIZU等都有玻璃电容屏和Film电容屏产品;3、目前市面上的芯片都能支持玻璃电容屏和Film电容屏,因此,客户选择 玻璃电容屏还是Film电容屏将不限制电容屏芯片与平台之间调制的限制;4、Film电容屏采用印刷工艺制程,设备不需要采用曝光、显影等高端制程,因此相对玻璃电容屏而言,成本较低;5、Film电容屏是柔性的Film与面板玻璃贴合,贴合容易,而玻璃电容屏是刚性的玻璃与玻璃贴合,贴合难;6、Film电容屏打样周期短,目前,国内供应商还是以Film电容屏为主。注注:曝光、显影制程是一种高端制程、在芯片封装和LCD电极设备中常用,相
6、对印刷而言,其精度高、成本高,但是电容屏芯片在计算坐标时是一种权重计算,分辨率低,因此精度高对触摸屏的实际坐标精度提高不明显。最大的优势是可以使玻璃电容屏的边框能设计很窄。三、电容屏三、电容屏ITO制程工艺简介制程工艺简介丝印工艺(即化学蚀刻法)丝印工艺(即化学蚀刻法): 在绝大多数的场合中,化学蚀刻法是ITO 图形制备最成熟和可行的技术,它可以根据你的需要,生成目前足够精细的图案和相对比较少的前期投资。随着深紫外线技术在曝光设备上的应用,微米的精度,早已被大多数厂家所实现。它具有高效率、批次稳定性和重复性好、设备投资额低、配套技术完善等诸多优点,目前仍是大规模生产的主要方向,使用的原料有蚀刻
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