数字电路逻辑设计课件:3-4.PPT
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- 关 键 词:
- 数字电路 逻辑设计 课件
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1、3.4MOS逻辑门3.4.13.4.1MOS晶体管晶体管3.4.23.4.2MOS反相器和门电路反相器和门电路图3-4-1 N沟道增强型MOS管N+N+SGDSiO2P- -Si(a) 结构示意图结构示意图(b) 符号符号SGD3.4.13.4.1MOS晶体管晶体管MOS(Metal Oxide Semiconductor)集成电路的基本元件)集成电路的基本元件是是MOS晶体管。晶体管。MOS管有三个电极:源极管有三个电极:源极S、漏极、漏极D和栅极和栅极G。它是用栅极电压来控制漏源电流。它是用栅极电压来控制漏源电流。MOS管有管有P型沟道和型沟道和N型沟道两种,按其工作特性又分为增型沟道两种
2、,按其工作特性又分为增强型和耗尽型两类。下面以强型和耗尽型两类。下面以N沟道增强型沟道增强型MOS管为例进行讨论。管为例进行讨论。图3-4-2 N沟道增强型MOS管输出特性曲线OiDSvDS()非非饱饱和和区区()非饱和区非饱和区()截止区截止区vDS= vGS- -VGS(th)NvGS0输出特性曲线和阈值电压输出特性曲线和阈值电压输出特性曲线表示在一定栅源电压输出特性曲线表示在一定栅源电压vGS下,漏源电流下,漏源电流iDS和漏和漏源电压源电压vDS之间的关系。之间的关系。非饱和区:非饱和区:vDS很小,很小,当满足当满足vDS(vGS- -VGS(th)N)时,时, iDS基本上随基本上
3、随vDS线性上升。线性上升。vGS越大,曲线越陡,相应越大,曲线越陡,相应等效电阻越小。该区域又等效电阻越小。该区域又称为称为可调电阻区域可调电阻区域。饱和区:饱和区:当当vDS(vGS- -VGS(th)N)以后,漏极附近的沟道被夹断。以后,漏极附近的沟道被夹断。iDS不随不随vDS线性上升,而是达到某一数值,几乎近似不变。线性上升,而是达到某一数值,几乎近似不变。图3-4-3 N沟道MOS 管转移特性OiDSvGSVGS(th)NvDS=常数常数截止区:截止区:vGSVGS(th)N,还没有形成导电沟道,因此,还没有形成导电沟道,因此iDS=0。转移特性和跨导转移特性和跨导MOS管的转移特
4、性是指在漏源电压管的转移特性是指在漏源电压vDS一定时,栅源电压一定时,栅源电压vGS和漏源电流和漏源电流iDS之间的关系。之间的关系。当当vGSVGS(th)N后,在后,在vDS作用下才形成作用下才形成iDS电流。电流。vGS和和iDS之间的关系,通常用跨导之间的关系,通常用跨导gm这个参数表示。即:这个参数表示。即:常数常数 DSGSDSmvvig它表明了它表明了vGS对对iDS的控制能力,数值越大,栅极控制作用越强。的控制能力,数值越大,栅极控制作用越强。输入电阻和输入电容输入电阻和输入电容MOS管的栅、源两极通常作为输入端,输入电阻实质上就管的栅、源两极通常作为输入端,输入电阻实质上就
5、是介质是介质SiO2层的绝缘电阻。若层的绝缘电阻。若SiO2的厚度在的厚度在0.15m左右,绝缘左右,绝缘电阻可达电阻可达1012以上。以上。MOS管的高输入电阻,使得其静态负载能力很强;栅极泄管的高输入电阻,使得其静态负载能力很强;栅极泄漏电流很小,可以将信息在输入端的栅极电容上暂存,为动态漏电流很小,可以将信息在输入端的栅极电容上暂存,为动态MOS电容和大规模存储电路的实现创造了条件。电容和大规模存储电路的实现创造了条件。MOS管的输入电容是指栅、源之间存在很小的寄生电容,管的输入电容是指栅、源之间存在很小的寄生电容,其数值约为百分之几皮法到几皮法。其数值约为百分之几皮法到几皮法。直流导通
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