模拟电子线路课件:第三章.ppt
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1、1场效应晶体管(场效应管)只有多数载流场效应晶体管(场效应管)只有多数载流子起运载电流的作用。子起运载电流的作用。 场效应管场效应管FET(Field Effect Transistor)结型场效应管结型场效应管JFET绝缘栅场效应管绝缘栅场效应管IGFET双极型晶体管是多数载流子和少数载流子双极型晶体管是多数载流子和少数载流子同时参与导电的半导体器件。同时参与导电的半导体器件。第三章第三章 场效应管及其放大电路场效应管及其放大电路23.1 场效应晶体管场效应晶体管 3.1.1 结型场效应管结型场效应管(Junction Field Effect Transisitor)DSG(a)N沟道沟道
2、JFET图图3.1.1 结型场效应管的结构示意图及其表示符号结型场效应管的结构示意图及其表示符号Gate栅极栅极Source源极源极Drain 漏极漏极箭头方向表示栅箭头方向表示栅源间源间PN结若加结若加正向偏置电压时正向偏置电压时栅极电流的实际栅极电流的实际流动方向。流动方向。N型型沟沟道道PPDGS一、结型场效应管的结构一、结型场效应管的结构3P型型沟沟道道NNDGSDSG(b)P沟道沟道JFET图图3.1.1 结型场效应管的结构示意图及其表示符号结型场效应管的结构示意图及其表示符号4二、结型场效应管的工作原理二、结型场效应管的工作原理 在栅源间加负电压在栅源间加负电压UGS ,令,令UD
3、S =0 当当UGS=0时,为平衡时,为平衡PN结,导电沟道结,导电沟道最宽。最宽。当当UGS时,时,PN结反偏,形结反偏,形成耗尽层,导电沟道变窄,沟成耗尽层,导电沟道变窄,沟道电阻增大。道电阻增大。当当UGS到一定值时到一定值时 ,沟道会,沟道会完全合拢。完全合拢。定义:定义: 夹断电压夹断电压UGS(off)使导电沟道完全合拢(消使导电沟道完全合拢(消失)所需要的栅源电压失)所需要的栅源电压UGS。 (1)栅源电压对沟道的控制作用)栅源电压对沟道的控制作用5(2)漏源电压对沟道的控制作用)漏源电压对沟道的控制作用 在漏源间加电压在漏源间加电压UDS ,令,令UGS =0。 由于由于UGS
4、 =0,所以,所以导电沟道最宽。导电沟道最宽。UDSID 靠近漏极处靠近漏极处的耗尽层加宽,沟道变窄,的耗尽层加宽,沟道变窄,呈楔形分布。呈楔形分布。当当UDS ,使,使UGD=UG S- UDS=UGS(off)时,在时,在靠漏极处夹断靠漏极处夹断预夹断。预夹断。UDS再再,预夹断点下移。,预夹断点下移。当当UDS=0时,时, ID=0。6DGSUDSUGS沟道局部夹断沟道局部夹断IDDGS(a) uDS-uGS|UGSoff|(预夹断后)(预夹断后)几乎不变几乎不变三、特性曲线三、特性曲线 (1) 输出特性曲线输出特性曲线 7图图3.1.4JFET3.1.4JFET的输出特性曲线的输出特性
5、曲线(a)(a)输出特性曲线输出特性曲线1234iD/ /mA01020uDS/ /V可可变变电电阻阻区区恒恒截止区截止区2V1.5V1VuDSuGS SUGSoff515流流区区击击穿穿区区UGS0VUGSoff0 0.5V三、特性曲线三、特性曲线 8当当u uDSDS=0=0时,时,i iD D=0=0。 当当u uDSDS很小时,很小时,u uDSDSi iD D(近似线性增大近似线性增大) )当当u uDSDS较大时,靠近较大时,靠近D D极的极的u uDGDG的反偏电压的反偏电压 靠近靠近D D极的耗尽层变宽极的耗尽层变宽导电沟道逐渐变窄,导电沟道逐渐变窄,沟道电阻沟道电阻 “预夹断
6、预夹断”。出现出现预夹断的条件预夹断的条件为:为:GSoffGSDSUuu或或GSoffDGUu 1. 1. 可变电阻区(相当于晶体管的饱和区)可变电阻区(相当于晶体管的饱和区)9u uGSGS对对i iD D上升的斜率影响较大,在这一上升的斜率影响较大,在这一区域内,区域内,JFETJFET可看作一个受可看作一个受u uGSGS控制的可变控制的可变电阻,即漏、源电阻电阻,即漏、源电阻r rDSDS= = f f( (u uGSGS) ),故称为,故称为可可变电阻区。变电阻区。 102.2.恒流区(相当于晶体管的放大区)恒流区(相当于晶体管的放大区) 当漏、栅间电压当漏、栅间电压| |u uD
7、GDG| | | | U UGSoffGSoff | |时,即预时,即预夹断后所对应的区域。夹断后所对应的区域。 当当U UGSGS一定时:一定时: u uDSDS漂移电流漂移电流i iD D,但同时,但同时u uDSDSDD结变宽结变宽i iD D,因此,因此i iD D变化很小,只是略变化很小,只是略有增加。有增加。因此:因此:u uDSDS对对i iD D的控制能力很弱。(类似基区的控制能力很弱。(类似基区宽度调制效应)宽度调制效应)11在恒流区,在恒流区,i iD D与与u uGSGS关系符合关系符合 2)1 (GSoffGSDSSDUuIiu uGSGS对对i iD D控制能力很强控
8、制能力很强 124.4.击穿区击穿区随着随着u uDSDS增大,靠近漏区的增大,靠近漏区的PNPN结反偏电压结反偏电压 u uDGDG(=(=u uDSDS- -u uGSGS) )也随之增大。也随之增大。 当当| |U UGSGS|U UGSoffGSoff| |时,沟道被全部夹断,时,沟道被全部夹断,i iD D=0=0,故此区故此区为截止区。为截止区。3. 3. 截止区截止区13当恒流区中,当恒流区中,iD与与uGS关系基本符合关系基本符合 2)1(GSoffGSDSSDUuIi uGS对对iD控制能力很强控制能力很强 (a) 漏极输出特性曲线漏极输出特性曲线 (b) 转移特性曲线转移特
9、性曲线式中:式中:IDSS饱和电流,表示饱和电流,表示uGS=0时的时的iD值;值; UGSoff夹断电压,表示夹断电压,表示uGS=UGSoff时时iD为零。为零。(2 2)转移特性曲线)转移特性曲线CuGSDDSufi)(14u uG G S S/ /V V0 01 12 23 31 12 23 34 45 5I IDSSDSSU UGSGSoffoffi iD D/ /mAmA问题:问题:若若U UDSDS增大,转移特性曲线如何变化?增大,转移特性曲线如何变化? 分析:分析:U UDSDS增大,多子形成的漂移电流增大,增大,多子形成的漂移电流增大,I ID D增加,增加,转移特性曲线上移
10、。转移特性曲线上移。 D DS SP PP PU UGSGSU UDSDS153.1.2 绝缘栅场效应管绝缘栅场效应管(IGFET)绝缘栅场效应管是利用半导体表面绝缘栅场效应管是利用半导体表面的电场效应进行工作的,也称为表面场效的电场效应进行工作的,也称为表面场效应器件。应器件。IGFET最常用的是金属氧化物半最常用的是金属氧化物半导体导体MOSFET(Metal Oxide Semiconductor FET)。 16优点:优点:(1)输入偏流小,即输入电阻高达)输入偏流小,即输入电阻高达1010 。(2)制造工艺简单;)制造工艺简单;(3)热稳定性好。)热稳定性好。IGFET分类:分类:(
11、1)根据导电类型,分为)根据导电类型,分为N沟道沟道和和P沟道沟道两类。两类。(2)根据)根据uGS=0时,漏源之间是否有导电沟道又时,漏源之间是否有导电沟道又可分为可分为增强型增强型(无(无ID)和)和耗尽型耗尽型(有(有ID)两种。)两种。17MOSFETN沟道沟道P沟道沟道增强型增强型N-EMOSFET耗尽型耗尽型增强型增强型耗尽型耗尽型N-DMOSFETP-EMOSFETP-DMOSFET18源极源极栅极栅极漏极漏极氧化层氧化层(SiO2)BWP型衬底型衬底NNL耗耗尽尽层层A1层层SGD(a)立体图立体图一、一、N沟道增强型沟道增强型MOSFET (Enhancement NMOSF
12、ET)1、结构、结构19图图3.1.5 MOSFET结构示意图结构示意图(b)剖面图剖面图SGDNNP型硅衬底型硅衬底绝缘层绝缘层(SiO2)衬底引线衬底引线 B半导体半导体金属电极金属电极DGS(c)符号符号B20-P衬底sgN+bdVDD二氧化硅+NUDS 当当uGS0V时时纵向电场纵向电场将靠近栅极下方的空穴向将靠近栅极下方的空穴向下排斥下排斥耗尽层。耗尽层。 当当uGS=0V时,漏源之间相当两个背靠背的时,漏源之间相当两个背靠背的 二极管,在二极管,在d、s之间加上电压也不会形成电流,即管子截止。之间加上电压也不会形成电流,即管子截止。 再增加再增加uGS纵向电场纵向电场将将P区少子电
13、子聚集到区少子电子聚集到P区表面区表面形成导电沟道,形成导电沟道,如果此时加有漏源电压,就如果此时加有漏源电压,就可以形成漏极电流可以形成漏极电流id。-s二氧化硅P衬底gDDV+Nd+bNVGGidUGSUDS2、 uGS对沟道导电能力的控制对沟道导电能力的控制(转移特性曲线转移特性曲线)沟道形成原理沟道形成原理212、 uGS对沟道导电能力的控制对沟道导电能力的控制(转移特性曲线转移特性曲线)BNUGSNPN结结( 耗尽层耗尽层 )P 型衬底型衬底DS沟道形成原理沟道形成原理图图3.1.6 沟道形成沟道形成BN导电沟道导电沟道(反型层)(反型层)P型衬底型衬底UGSN(b) UGSUGSt
14、h,导电沟道已形成导电沟道已形成(a) UGSUGSth,导电沟道已形成导电沟道已形成uGS越大越大沟道越宽沟道越宽沟道电阻越小沟道电阻越小iD越大越大这种必须依靠这种必须依靠G-S电压作用才能形成导电沟道的场电压作用才能形成导电沟道的场效应管,称为增强型场效应管。效应管,称为增强型场效应管。24图图3.1.7 ENMOSFET的转移特性的转移特性转移特性转移特性(1)当当uGSUGSth时,时, iD 0,uGS越大,越大, iD也随也随之增大,二者符合平之增大,二者符合平方律关系。方律关系。25BN导电沟道导电沟道P型衬底型衬底UGSN3、uDS对沟道导电能力的控制(输出特性)对沟道导电能
15、力的控制(输出特性)常数GSUDSDufi)(26BUDS预夹断P型衬底UGSNN图图3.1.8 uDS增大,沟道被局部夹断增大,沟道被局部夹断(预夹断预夹断)情况情况27iD0uDSUGS6V截止区截止区4V3V2V5V可可变变电电阻阻区区(a)恒恒流流区区区区穿穿击击 图图3.1.9 输出特性输出特性 GSthGSDSUuu28(1)截止区:截止区:uGSUGSth,导电沟道未形成,导电沟道未形成,iD=0。(2)恒流区恒流区曲线间隔均匀,曲线间隔均匀,uGS对对iD控制能力强。控制能力强。uDS对对iD的控制能力弱,曲线平坦。的控制能力弱,曲线平坦。进入恒流区的条件,即预夹断条件为进入恒
16、流区的条件,即预夹断条件为GSthGDUu 29(b)厄尔利电压厄尔利电压 uDSiD0UGSUA(厄厄尔利电压尔利电压)沟道调制系数沟道调制系数:厄尔利电压:厄尔利电压UA的倒数,的倒数, 曲线越平坦曲线越平坦|UA|越大越大越小。越小。 30考虑考虑uDS对对iD的微弱影响后恒流区的电流方的微弱影响后恒流区的电流方程为:程为: DSGSthGSoxnDuUuLWCi 122但但1,则,则 : 222GSthGSGSthGSoxnDUuLWkUuLWCi 31可变电阻区:可变电阻区: 222DSDSGSthGSoxnDuuUuLWCi 32JFET利用利用PN结反向电压对耗尽层厚度的结反向电
17、压对耗尽层厚度的控制来改变导电沟道的宽度,从而控制来改变导电沟道的宽度,从而控制漏极电流的大小。控制漏极电流的大小。IGFET绝缘栅极场效应管利用栅源电压的绝缘栅极场效应管利用栅源电压的大小来改变半导体表面感生电荷的大小来改变半导体表面感生电荷的多少,从而控制漏极电流的大小。多少,从而控制漏极电流的大小。33特点:特点: 当当uGS=0时,就有沟道,时,就有沟道,加入加入uDS,就有就有iD。 当当uGS0时,沟道增宽,时,沟道增宽,iD进一步增加。进一步增加。 当当uGS0时,沟道变窄,时,沟道变窄,iD减小。减小。 在栅极下方的在栅极下方的SiO2层中掺入了大量的金属正离子。所以当层中掺入
18、了大量的金属正离子。所以当uGS=0时,这些正离子已经感应出反型层,形成了沟道。时,这些正离子已经感应出反型层,形成了沟道。 定义:定义: 夹断电压(夹断电压( UGS(off))沟道刚刚消失所需的栅源电压沟道刚刚消失所需的栅源电压uGS。-g漏极s+N衬底P衬底源极d栅极bN+ +二、二、N沟道耗尽型沟道耗尽型 MOSFET (Depletion NMOSFET)DGSB34iDuGSUGSoff0(a)ID0图图310N沟道耗尽型沟道耗尽型MOS管的特性及符号管的特性及符号(a)转移特性;转移特性;(b)输出特性;输出特性;(c)表示符号表示符号20)1(GSoffGSDDUuIi 20)
19、(2GSoffULWCuIoxnD ID0表示表示uGS=0时所对应的漏极时所对应的漏极电流。电流。 35图图310N沟道耗尽型沟道耗尽型MOS管的特性及符号管的特性及符号(a)转移特性;转移特性;(b)输出特性;输出特性;(c)表示符号表示符号1234iD/mA01020uDS/V0V515(b)UGS 3V6V3VGSoffGSDSUuu36DGSDGSN沟道沟道P沟道沟道结型结型FET 各种场效应管的符号对比各种场效应管的符号对比3.2 场效应管的工作状态分析及其偏置电路场效应管的工作状态分析及其偏置电路37各种场效应管的符号对比各种场效应管的符号对比DSGBDSGBDSGBDSGBN沟
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